• Journal of the Korean Ceramic Society
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• v.32 no.3
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• pp.305-312
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• 1995

Thin films of Pb(Mg, Zn)1/3Nb2/3O3 were fabricated by spin coating the Pb-Mg-Zn-Nb-O complex alkoxide sols on(111) Pt-coated MgO (100) planes. It was observed that the content of H2O and the rheological characteristics of sol greatly influenced the orientation of perovskite grains after thin-film formation. A strong preferential orientation of (100)-type planes of the perovskite grains was obtained for the sol aged for 15 days with the molar ratio of H2O to total metal alkoxides=2. As small angle X-ray scattering experiment in the Porod region was performed to correlate the observed preferential orientation with the network structure of precursors at various stage of aging. It was shown that the degree of branching of the Pb-Mg-Zn-Nb-O precursor chain had a direct effect on the preferred oreintation, and weakly branched precursor systems led to highly oriented grains after thin-film formation.

• Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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• v.7 no.2
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• pp.250-254
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• 2003

A film bulk acoustic resonator (FBAR) device for 2 GHz radio frequency (RF) bandpass filter application is presented. This FBAR device consists of an aluminum nitride (AlN) film sandwiched between top(Al) and bottom(Au) electrodes and an acoustic multilayer reflector of a silicon dioxide/tungsten (SiO2/W). The A/N film deposited using a RF sputtering was observed to have small columnar grains with a strongly preferred orientation towards c axis. In addition to a high quality factor (4300), a large return loss of 37.19 dB was obtained.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.49-49
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• 2011

실리콘 태양전지에 사용되는 ZnO 박막의 특성은 적외선과 가시광선 영역에서 높은 투과도 (>80%)와 낮은 비저항(<10-2) 외에 산란(scattering)에 의한 빛의 광학적 경로(optical path) 증가로 활성층(active layer)에서의 광 흡수도 증가 및 입사광의 재반사를 방지할 수 있는 표면 형상(morphology)의 제어가 중요하다. 일반적으로 우선 배향성(preferred orientation)이 <0002>방향으로 texturing된 ZnO박막보다 <1120>방향으로 texturing된 박막이 더 우수한 광 산란 효과를 보인다. 따라서, 이 논문에서는 유기화학증착공정으로 증착한 ZnO 박막의 texture 형성에 있어 박막 증착 온도 및 원료로 사용하는 DEZ(Diethylzinc)와 H2O의 상대농도 변화에 따른 texture 방향의 변화에 대해 고찰하였다. 반응기내의 압력을 0.67 torr로고정하고 기판온도를 $90^{\circ}C$에서 $170^{\circ}C$까지 $20^{\circ}C$간격으로 증가시키고, $120^{\circ}C$에서 H2O/DEZ의 비를 0.1에서 4까지 변화시켰다. 기판온도가 증가함에 따라 ZnO박막의 texture 방향은 <0002>에서 <1120> 방향으로 변화하였다. 또한 $120^{\circ}C$에서 H2O/DEZ 비가 증가함에 따라 ZnO 박막의 texture 방향은 <0002>에서 <1120> 방향으로 변화하였다. 이에 따른 광투과, 광산란 특성과 전기적 특성의 변화를 조사하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2000.11a
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• pp.22-22
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• 2000

DRAM의 고접적화에 따라 기존의 반도체 공정에서 사용중인 여러 가지 기술들이 대부분 그 한계를 보이고 었으며, 대표적인 것이 캐퍼시터 형성기술이다. 따라서 1G DRAM급 이상의 초고집적 회로를 실용화하기 위해서 유전율이 높은 BST ($BrSrTiO_3$) 박막을 이용하여 캐패시터를 제조하려는 기술도 반드시 해결되어야 현재 활발히 실용화 연구가 진행중에 있다. BST 박막을 제조하는 방법은 RF magnetron sputtering, Ion beam reactive co-evaporation, LSM (Liquid Source Misted) CVD, MOCVD 등의 법으로 제조되고 있다. 본 연구에서는 전기-수력 학적 분무(Electro-Hydrodynamic Spray)현상을 이용한 MOCVD에 BaO, SrO, $TiO_2$ 박막을 증착 하여 전기장세기, 기판온도, 시간 등에 따른 특성을 조사하였다. 전기수력학적 분무를 이용한 증착법은 원료를 함유하는 용액을 이용함으로써 이송관의 가열이 필요 없이 장치를 간단하게 할 수 있고, 용액의 유량과 전기장의 세기에 따라 초미세 입자제어도 가능하며, 박막의 조성을 출발 용액으로 부터 조절하는 등의 특징을 가지고 있다. 증착한 박막의 표면, 단면 형상 및 조성을 분석하였고 결정화 여부 및 우선 배향성을 조사하였다. 현재는 개별 박막의 표현 형상과 조성에 대한 연구 결과를 얻었으며, 계속해서 박 막의 여러 특성에 대하 연구할 계획이다.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.5 no.3
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• pp.258-262
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• 1996

We have investigated the changes in magnetoresistive characteristics, interfacial roughness, and preferred orientation with the Fe buffer layer thickness, annealing temperature, and the stacking number of layers variation in Fe/[NiFe/Cu] multilayers by using the 3-gun d.c. magnetron sputtering method. Intensity of the (200) orientation was increased with the increment of the Fe-buffer layer thickness. We found a maximum magnetoresistance ration of 4.7%, when the buffer layer thickness was 70$\AA$, and the field sensitivity also showed a maximum value at the same thickness. We varied the stacking number of multilayers with fixing the Fe buffer layer thickness of 70$\AA$. When the stacking number was 40 layers, maximum MR ratio(5.3%) was observed. With the variation of annealing temperature no change in the MR ratio was found beyond $300^{\circ}C$. But decrement of MR ratio was observed above $300^{\circ}C$. This decrement of the MR ratio was responsible for the increment of paramagnetic mixed layer caused by the diffusion of Cu layer and the change of antiferromagnetic coupling.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.16 no.5
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• pp.343-347
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• 2007

Fe thin films exhibited (100) preferential orientation when they were deposited at low deposition rate of $0.1{\AA}/s$ on glass substrates by using facing target sputtering system. The (100) oriented Fe layer induces (100) orientation of Pt layer deposited on it owing to hetero-epitaxial growth. After annealing at $600^{\circ}C$ in $H_2$ atmosphere, FePt films exhibited f.c.t. (001) texture in the whole film caused by inter-diffusion between atoms. We have also confirmed that the homogeneously inter-diffused compositional modulation in the film after the annealing process. Furthermore, annealing process in $Ar+H_2$ atmosphere at $400^{\circ}C$ during Pt deposition was effective for attaining Pt (100) texture. The annealing process during Pt deposition also induced in low annealing temperature and decreased annealing time for attaining the FePt f.c.t. (001) structure.

• Korean Journal of Crystallography
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• v.6 no.1
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• pp.14-26
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• 1995

The growth mechanism of diamond thin films, deposited by Hot Filament CVD, was investigated through observation of changes in their surface morphology as a function of the substance temperature and deposition time. Amorphous carbon or DLC thin films were deposited at low substrate temperature. Diamond films consisting of square-shaped particles, whose surfaces are (100) planes, were deposited at an intermedate temperature. At high substrate temperatures, diamond films consisting of the particles showing both (100) and (111) plane were deposited. The (100) proferred orientation of the diamond films are believed to be due to a relatively high supersaturation during deposition, and the growth condition for the diamond films having (100) preferred orientation can be applied to the single crystal growth since no twins are generated on the (100) plane. The grain size of the diamond films did not change with increasing temperature and its increasing rate with increasing deposition time was the same irrespective of the substrate temperature. However, the nucleation density increased with substrate temperature and its increasing rate with deposition time was much higher for the films deposited at higher substrate temperature.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.119-120
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• 2011

Kawazoe는 1997년 p-type TOS를 만들기 위해서는 3가지가 충족되어야 한다고 언급한바 있다. 첫 번째, 가시광영역에서 투명하기 위해서 cation의 d10s0이 가득 차야 한다. 가득 차지 않은 d10 shell은 광 흡수가 가능하여 투과도를 떨어뜨린다. N-type을 예로 들어 ZnO, TiO, In2O3가 각각 Zn2+, Ti4+, In3+가 되어 d shell을 가득 차게 만드는 것을 볼 수 있다. 두 번째, cation d10s0 shell은 산소의 2p shell과 overlap 되어야 한다. 이 valence band는 홀 전도를 더욱 좋게 한다. 예를 들어 Cu1+(3d), Ag1+(4d)가 해당한다. 세 번째로, 양이온과 산소간의 공유결합을 강하게 하기 위해서 결정학적 구조는 매우 중요하다. Delafossite 구조는 산소가 pseudo-tetrahedral 구조로서 공유결합에 유리하다. 이러한 환경은 O2- (2p6)을 형성하고 홀의 이동도를 증가시킨다. 예를 들어 Cu2O의 경우 앞의 2가지를 만족시키지만 광학적 특성에서 좋지 않다. 그 이유가 3번째 언급한 결정학적인 요인에 있다. 결정 계의 환경은 Cu2O를 따라가면서 3차원적인 연결을 2차원적으로 변형된 delafossite 구조에서는 quantum well이 형성되어 band gap이 커진다. 본 연구에서는 전기적 이방성을 가지고 있는 delafossite CuCrO2 상에서 우선배향을 일으키는 인자 중 기판을 변화시켜 실험을 진행하였다. 결과적으로 기판변화를 통해 우선배향조절이 가능하였으며 CuCrO2 박막을 시켰으며, 결정방향에 따른 전기적 물성의 이방성에 관한 연구는 계속 진행 중에 있다. c-plane sapphire 기판위에는 [00l]로 성장하는 반면, c-plane STO 기판 위에는 [015] 방향으로 성장하는 것을 확인하였다. 이러한 원인은 기판과 증착되는 박막간의 mismatch를 최소화 하여 strain을 줄이고, 계면에서의 Broken boning 수를 줄여 계면에너지를 낮추는 방법이기 때문일 것으로 예상된다. C-plane sapphire 기판위에 증착될 경우 증착온도가 증가함에 따라 c-축으로의 성장이 온전해지며 이에 따라 캐리어농도의 감소와 모빌리티의 증가가 급격하게 변하는 것을 확인할 수 있다. 반면 c-plane STO 기판에서는 증착온도에 따른 박막의 배향변화가 없으며 전기적 물성 변화 또한 비교적 작은 것을 간접적으로 확인하였다.

• Journal of the Korean Ceramic Society
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• v.40 no.3
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• pp.268-272
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• 2003

The microstructures of tungsten films were controlled by changing the sputtering pressure and substrate temperatures during D.C. sputter deposition. As the sputtering pressures were decreased, the sputtered models of the tungsten films were changed from the zone I model to zone T model. The tungsten film having zone T model microstructure shows a resistivity of 10${\times}$10$\^$-6/ $\Omega$-cm and (110) preferred orientation. FBAR with Bragg reflector composed of $SiO_2$and tungsten films having zone T model microstructure shows quality factor, Q$\_$s/, of 494 and K$\_$eff/$\^$2/ of 5.5% due to the high acoustic impedance and the smooth surface.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.7 no.5
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• pp.801-804
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• 2006

[ $GdAlO_3(GAO)$ ] buffer layer for $YBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}(YBCO)$ coated superconductor wire was fabricated by sol-gel processing. Precursor solution was prepared by dissolving 1:1 stoichiometric quantaties of gadolinium nitrate hexahydrate and aluminum nitrate nonahydrate in methanol. The solution was spin-coated on $SrTiO_3(STO)$(100) single crystal substrates and heated at $1000^{\circ}C$ for 2h in wet $N_2-5%\; H_2$, atmosphere. A SEM(scanning electron microscopy) observation of the surface morphology of the GAO layer has shown that it has a faceted morphology indicating epitaxy. It was shown from x-ray diffraction(XRB) that GAO buffer layer was highly c-axis oriented epitaxial thin film with both good out-of-plane($FWHM=0.29^{\circ}$ for the (002) reflection) and in-plane ($FWHM=1.10^{\circ}$ for the {112} reflection) alignment.