• Title/Summary/Keyword: 열처리조건

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Al 도핑 및 열처리 온도에 따른 용액 공정 기반 AlZnSnO TFT의 특성 향상 연구

  • Kim, Hyeon-U;Choe, Byeong-Deok
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.216.1-216.1
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    • 2015
  • 본 연구에서는 용액 공정 기반 AZTO (Aluminum-Zinc-Tin Oxide, AlZnSnO) 박막 트랜지스터를 제작하여 Al (Aluminum) 도핑과 열처리 온도의 가변을 통한 특성 향상을 확인하였다. ZTO 용액의 Zn:Sn 비율(4:7)을 고정하고 Al 도핑(0~8.3%)과 열처리 온도($350{\sim}550^{\circ}C$)를 가변하였다. 실험 결과 Al 도핑이 증가할수록 드레인 전류는 감소하고 문턱 전압이 양의 방향으로 이동하면서 포화 이동도와 아문턱 기울기가 감소하였다. 열처리 온도가 증가할 때는 드레인 전류가 증가하고 문턱 전압은 음의 방향으로 이동하며 이동도와 아문턱 기울기가 증가하였다. Al 도핑은 강한 금속-산소 결합에 의해 oxygen vacancy와 전자 농도가 감소하게 하여 드레인 전류, 이동도, 아문턱 기울기의 감소와 양의 방향 문턱 전압 이동을 야기한다. 열처리 온도가 높아지면 반도체 층의 분자 구조가 더 밀집되고 oxygen vacancy 가 증가하며, 이는 전자 농도의 증가로 이어져 Al 도핑의 효과와 반대의 경향을 보인다. 실험 결과를 통해 Al:Zn:Sn=0.5:4:7의 비율과 $350^{\circ}C$ 열처리 조건에서 문턱 전압과 이동도, 아문턱 기울기, 전류 온오프 비($I_{on}/I_{off}$)가 각각 3.54V, $0.16cm^2/Vs$, 0.43 V/dec, $8.1{\times}10^5$으로 우수한 특성을 확인하였다.

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RF magnetron sputtering법으로 제작된 IGZO 박막의 Annealing 변화에 따른 특성 연구

  • Jin, Chang-Hyeon;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.184.1-184.1
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    • 2015
  • RF magnetron sputtering법을 이용하여 IGZO박막을 RF power 100W로 일정하게 유지시켜, 열처리 변화에 따른 구조적, 전기적, 광학적 특성 분석을 연구하였다. IGZO 타겟은 $In_2$ $O_3$, $Ga_2$ $O_3$, ZnO 분말을 각각 1:1:2 mol% 조성비로 혼합하여 소결한 타겟을 사용하였고, $20mm{\times}20mm$ XG glass 기판위에 IGZO박막을 증착하였다. sputtering의 조건은 base pressure $2.0{\times}$10^-6Torr, working pressure $2.0{\times}$10^-2Torr, RF power 100 W, 증착온도는 실온으로 고정, 증착된 박막은 Annealing장비로 $500^{\circ}C$, $700^{\circ}C$, $800^{\circ}C$로 열처리를 하였다. XRD 분석 결과 열처리 $700^{\circ}C$부터 2theta=31.4도에서 peak intensity가 증가하며 결정화가 진행되는 것을 확인하였다. AFM분석 결과 열처리 $700^{\circ}C$에서 최소 0.31 Roughness를 갖는 것을 확인하였고, Hall 측정 결과 열처리 $700^{\circ}C$에서 carrier concentration $4.91{\times}$10^19cm^-3, Mobility 14.4cm^2/V-s, Resistivity $8.7{\times}$10^-5${\Omega}-cm$로 확인하였으며, UV-Visible-NIR을 이용하여 열처리 한 모든 IGZO박막은 가시광선 영역에서 평균 85%이상의 광 투과성을 확인하였다.

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Surfacial and Structural Characteristics of Sputtering-deposited CdS Thin Films with a Change of Annealing Temperature (스퍼터링 방법으로 증착한 CdS박막의 열처리 온도에 따른 표면 및 구조 특성)

  • Ryu, Seung-Han;Lim, Chae-Hyun;Park, Ju-Sun;Kim, Nam-Hoon;Yang, Jang-Tae;Lee, Woo-Sun
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2009.07a
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    • pp.1266_1267
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    • 2009
  • 신재생 에너지 태양광을 활용하기 위한 태양광 발전에 있어서 기존의 고가의 실리콘 기판 대신 저가의 박막형 태양전지 연구가 활발히 진행 되고 있다. 본 연구에서는 박막형 태양전지에 있어서 태양광의 투과층으로 사용되는 CdS 박막의 열처리에 따른 특성을 연구하였다. 실험은 CdS박막을 Sputtering법으로 동일한 조건에서 제조하였고 이 박막을 $200^{\circ}C$, $300^{\circ}C$, $400^{\circ}C$, $500^{\circ}C$, $600^{\circ}C$까지 열처리 하였다. 열처리 전과 후 Ellipsometer를 이용한 박막의 두께 변화, 표면의 RMS Roughness와 Peak to Valley Roughness의 변화 그리고 결정 구조변화 등을 조사하였다. 박막의 두께는 열처리 전보다 처리 후 두께가 얇아졌으나 거칠기나 결정성은 열처리 온도에 따라 거칠어지고 결정성이 떨어졌다.

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The Effects of Heat-treatment on Magnetic Properties for Gas-atomized MPP Dust Cores (가스분무법으로 제조한 MPP 분말코어의 자기적 특성에 미치는 열처리 효과)

  • 노태환;김구현;김광윤;정인범;최광보
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.11 no.4
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    • pp.173-178
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    • 2001
  • The effects of heat-treatment with magnetic or non-magnetic field on magnetic properties of gas-atomized MPP dust cores subjected to various cooling processes after annealing were investigated. Upon magnetic-field annealing, ac permeability and core loss decreased with the increase of cooling rate, which were attributed to the generation of inhomogeneous internal stress and anomalous eddy current loss, respectively. It was not observed the formation of ordered phase and the related change in magnetic properties at the cooling stage for MPP dust cores. In MPP alloys, magnetic anisotropy was easily induced through the directional order, and permeability and core loss were changed under the conditions of low cooling rate and magnetic annealing.

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Rapid Grain Growth of $SrBi_2Nb_2O_9$ Thin Films for Improving Programming Characteristics of Ferroelectric Gate Field Effect Transistor (강유전체게이트 전계효과 트랜지스터의 정보저장특성 향상을 위한 $SrBi_2Nb_2O_9$ 박막의 급속 결정성장방법)

  • Lee, Chang-Woo
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.12 no.4 s.37
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    • pp.339-343
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    • 2005
  • Pt-$SrBi_2Nb_2O_9(SBN)-Pt-Y_2O_3-Si$ gate field effect transistors (MFMISFETs) have been fabricated and the SBN thin films are rapid thermal annealed in oxygen plasma. The grain size of the SBN becomes 4 times much larger than that of furnace annealed SBN films even at the same annealing temperature of $700^{\circ}C$, remnant polarization value of Pt-SBN-Pt is improved by 2 times. Using the rapid grain growth of SBN for the MFM-ISFET, memory window and programming characteristics of on/off states are fairly well improved.

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The Effect of Field Annealing on Magnetic Properties of Amorphous Alloy (비정질 재료의 자기특성에 미치는 자장중 열처리의 영향)

  • 김원태;장평우;이수형
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.7 no.4
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    • pp.180-185
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    • 1997
  • Variations of core loss and coercivity with heat treatment condition have been studied in amorphous ribbon core specimens. All measurements were performed at 10 kHz with a maximum induction of 0.1 T. With increasing annealing time, both core loss and coercivity of core specimens decreased first, reaching minimum values, and increased thereafter. Specimen heat treated in an air showed better soft magnetic properties than those treated in Ar atmosphere. The specimens annealed under magnetic field higher than 6 Oe in radial direction showed reduced core loss and coercivity. The field annealing effects were increased with increasing cooling rate near Curie temperature of the material. The specimen annealed under an applied field in perpendicular direction of the core showed increased coercivity and decreased permeability.

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Plasma CVD 법에 의한 ITO 박막제작

  • 김형근;박연수;곽민기;장경동;손상호;이상윤;이상걸
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 1994.11a
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    • pp.86-86
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    • 1994
  • 박막 EL소자의 투명전극으로 제작된 ITO막의 전기적, 광학적 특성을 조사하였다. Plama CVD방법으로 제작된 ITO막은 증착시 산소결핍으로 인한 비 다량결합(non-stochiometry) 에 의해 In이 석출되어 흑화현상이 일어나 전기전도도와 광투과율을 향상을 위해 산소분위기에서 30$0^{\circ}C$로 4분간 열처리를 행하였다. 한편 ITO막의 비저항 $\rho$와 광투과율 T를 Van der pauw법과 단색 분광계로 각각 측정하였다. 그 결과 상온에서 10-15$\Omega$/$\square$의 면저항과 400-1000nm의 파장영역에서 85-95%의 광투과율을 가져 박막 EL소자의 투명전극 조건을 만족하였다. 열처리에 대학 ITO막의 구조적 특성을 알아보기 위해 X-선회절장치(JEOL.JDX-8030)로 조사하였다. Fig.1은 X-선 회절 패턴을 나타낸다. 열처리후 ITO막은 상대적으로 최대 강도(peak intensity) 가 증가함으로써 열처리에 의해 결정성 향상이되었음을 알수 있다. Fig.2는 파장에 따른 ITO막의 광투과도를 나타낸다.

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Effects of Heat Treatment on Corrosion Resistance Properties of Gas Nitrided Stainless Steels (스테인레스강의 가스질화 후 내식특성에 미치는 열처리조건의 영향)

  • Kim, H.G.;Kim, Y.H.
    • Journal of the Korean Society for Heat Treatment
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    • v.22 no.5
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    • pp.298-306
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    • 2009
  • Gas nitriding and post oxidation were performed on stainless steels and SACM 645 steel. With increasing gas nitriding time, the increasing rate of nitrided layer was most rapid on SACM 645 steel and the nitriding depth of nitrided layer was most narrow on STS 304 steel among three steels. Corrosion resistance was increased with post oxidation on stainless steels and with increasing time the effect of corrosion resistance was decreased to compare with relatively short gas nitriding time. An improvement effect of corrosion resistance was consisted of predominantly on austenitic stainless steel by post oxidation after gas nitriding among three steels and it was relatively less influenced on martensitic stainless steel.

Fabrication of CIS absorber layer by non-vacuum precursor solution coating technique (용액 코팅법에 의해 제조된 저가형 CIS박막의 특성연구)

  • Kim, Chae-Woong;Ahn, Se-Jin;Yun, Jae-Ho;Lee, Jeong-Chul;Yoon, Kyung-Hoon
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2007.06a
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    • pp.313-316
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    • 2007
  • 본 연구에서는 Cu와 In 성분을 포함하는 메탄올 용액을 닥터 블레이딩 방법으로 코팅한 후 이를 Se Evaporator 열처리하여 CIS 광흡수층을 제조하였다. $Cu(NO_{3})_{2}$, $INCl_{3}$ 를 출발 물질로 선정하고, 이를 메탄올 용매에 녹여 전구체 용액을 만든 후, 여기에 유기물 바인더 물질을 첨가하여 닥터 블레이드 코팅에 적합한 점도를 맞춘 후, 이를 Mo/glass 기판에 코팅하였다. 코팅된 Cu, In 함유 유기물 혼합체를 공기중에서 1차 열처리 한 후 Evaporator 를 이용해 Selenization 하여 태양전지용 CIS 광흡수층을 만들었다. 본 연구에서는 전구체 합성, 유기물 첨가, 공기중 열처리 및 Se 열처리 각 단계에서 광흡수층 막의 형상, 결정구조, 화학조성의 변화과정을 분석하여 CIS 박막의 형성 과정을 고찰하였다. 특히 Se 증발 온도가 CIS막의 특성과 조성에 미치는 영향을 분석하여, 최적의 셀렌화 조건을 도출하고자 하였다.

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Interdiffusion in Pd/Cu Multilayered Film and Its Thermal Stability (Pd/Cu 다층박막의 상호확산 및 열안전성)

  • 전인준;이영백;홍재화
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.3 no.1
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    • pp.51-58
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    • 1994
  • 확산 현상은 박막성장 과정 및 박막의 기계, 전기, 자기적 성질 이해에 중요한 역할을 한다. 열 처리에 의한 상호확산 때문에 생긴 Pd/Cu 다층박막의 조성변화를 AES depth-profiling 방법을 이용해 서 조사하였다. 열처리전 시료에서의 각형의 초기 조성분포가 여러온도에서의 열처리에 의해 정현파 모 양의조성분포로 변화되었다. 조성의존성을 고려하지 않은 상호확산 계수를 정현파 분포의 진폭으로부터 구하였으며, 1.66 eV의 값을 갖는 활성화에너지는 Arrhenius plot으로부터 산출하였다. 또한 Boltzmann-Matano 방법을 사용해서 15$0^{\circ}C$에서의 조성의존 상호확산계수도 구하였다. 열처리에 의해 조 성균일화가 되는 것으로만 알려졌던 본물질계에서도 상분리가 생성됨을 관찰하였고, 그 열처리 조건은 $180^{\circ}C$에서 150분 보다 짧아야함을 밝혔다.

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