• 한국표면공학회:학술대회논문집
• /
• 한국표면공학회 2017년도 춘계학술대회 논문집
• /
• pp.128-128
• /
• 2017

무전해 도금이란 외부의 전원을 사용하지 않고 환원제를 이용하여 금속 피막을 석출시키는 방법이다. 이러한 무전해 도금은 최근에 와서 인쇄회로기판(printed circuit board)등 다양한 전자부품에 적용되고 있다. 최근 급격한 금 가격 상승으로 인해 전자부품용에 사용되는 금의 사용량을 감소시키거나 또는 금을 대체할 수 있는 도금 층에 관한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 금을 대체할 수 있는 즉 비용 경감의 가능성이 있는 도금 재료로는 팔라듐이 유력하다. 팔라듐은 금의 약 1/2가격으로 우수한 내식성 및 낮은 접촉저항을 가지기 때문에 접점재료로서 오래전부터 사용되어져왔다. 무전해 팔라듐-인 도금의 착화제, 환원제, 경도, 접촉저항에 대한 연구는 많이 있지만 도금속도에 미치는 인자에 대해서는 명확하지 않은 것이 많다. 따라서 본 연구는 무전해 팔라듐-인 도금의 석출석도에 미치는 에틸렌디아민 농도의 영향에 대하여 조사하였다. 실험방법으로는 환원제로 차아인산을 사용하고 착화제로는 에틸렌디아민을 사용하여 문전해 팔라듐-인 도금액을 제조하였다. 에틸렌디아민의 농도는 각각 5ml/L, 7.5ml/L, 10ml/L, 12ml/L로 하였다. pH는 7.5, 온도는 $45^{\circ}C$로 하여 30분 동안 도금을 실시하였다. 무전해 팔라듐-인 도금속도는 정밀저울로 무게를 측정하였고 ICP-OES을 사용하여 도금층의 농도를 분석, XRF를 사용하여 성분분석과 XRD를 사용해 결정회절을 분석하였다. 또한 SEM을 사용하여 단면 관찰을 하였으며 석출속도에 미치는 에틸렌디아민의 영향을 전기화학 분극곡선을 통해서 고찰을 시도해 보았다.

• 대한화학회지
• /
• 제40권5호
• /
• pp.302-307
• /
• 1996

디에탄올아민 디티오카바메이트는 염화디스클로로비스에틸렌디아민)코발트(III)와 반응하여 [$Co(dtc)_3$](dtc=디에탄올아민 디티오카바메이트)를 생성한다. 이때 두 황원자는 코발트에 배위된다. 이 착물은 아세톤에 어느 정도 녹으나 이황산산소와 같은 비극성 용매에는 거의 녹지 않았다. 디에탄올아민 디티오카바메이트와 염화디스클로로비스에틸렌디아민)코발트(III)의 반응속도를 측정하고 이들 결과에서 얻어진 활성화 파라미터에서부터 가능한 메카니즘을 제시하고자 한다.

• 대한화학회지
• /
• 제20권3호
• /
• pp.206-211
• /
• 1976

비수용액 에틸렌디아민 중에서 산-알칼리의 전위차 중화 적정 이론을 고찰하여 실험한 결과 이론과 잘 일치하였다.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
• /
• 한국표면공학회 2015년도 춘계학술대회 논문집
• /
• pp.190-190
• /
• 2015

본 연구는 에틸렌디아민을 착체욕에서 팔라듐-니켈 합금도금을 형성하였다. 그리고 전류밀도 $1.0{\sim}20A/dm^2$ 변화를 통해 도금층 내의 니켈함량을 10.4 ~ 27.7 wt% 변화시켰다. 이를 통해 팔라듐-니켈 합금도금의 경도, 접촉저항, 표면 및 단면 조직에 미치는 도금층 내의 니켈함량의 영향에 대하여 조사하였다.

• 대한화학회지
• /
• 제17권4호
• /
• pp.229-234
• /
• 1973

非水溶液 에틸렌디아민中에서, K-Hg,KI($C_1$) II ($C_2$)KI, Hg-K의 農談電位를 構成하여, 電位差法으로 電位差를 測定하여, Debye-Huckel型의 活性係數式으로 計算한 理論値와 比較한 결과 Marshall-Grunwald 식이 잘 適用되었다.

• 대한화학회지
• /
• 제31권6호
• /
• pp.534-541
• /
• 1987

$Hg^{2+}$이온의 존재하에서 $[CoCl(Hedta)]^-$ 착이온에 대한 에틸렌디아민(en) 치환반응기구에 대해서 uv 및 CD스펙트럼을 이용하여 조사하였다. 속도론적인 자료로부터 $Hg^{2+}$ 이온이 금속과 작용하여 첫 en이 치환될때는 회합반응 경로를 거치며 제2, 제 3의 en은 단계적으로 치환됨을 알 수 있었다. 그리고 생성된 $[Co(en)_3]^{3+}$의 광학순도로 부터 광학수율을 결정짓는 적절한 중간체를 제시하여 치환반응에 대한 새로운 반응경로를 제시하였다.

• 대한화학회지
• /
• 제29권6호
• /
• pp.629-636
• /
• 1985

아세톤-물 혼합용매에서 trans-$[Co(AA)_2Cl_2]^+$ 착이온의 가용매분해반응속도를 전도도법과 분광광도법을 사용하여 1~2000bar의 압력범위ㅣ에서 측정하였다. 여기서 AA는 에틸렌디아민(en), N-에틸에틸렌디아민(N-eten), N-메틸에틸렌디아민(N-meen)과 트리메틸렌디아민(tn)을 각각 의미한다. 속도상수에 대한 압력의 영향으로부터 구한 활성화 체적은 AA가 en, N-eten, N-meen 및 tn 일때 각각 -0.2∼0.9 $cm^3mole^{-1}$, -0.2∼0.6 $cm^3mole^{-1}$, -0.8∼6.0 $cm^3mole^{-1}$, 0.7∼7.0$cm^3mole^{-1}$이었다. 이들 착이온의 가용매분해반응성은 excess 자유에너지와 자유에너지 사이클로부터 얻을 결과를 비교하여 검토하였다. 가용매분해반응성은 압력이 감소할수록, 그리고 아세톤의 함량이 증가할수록 $S_N1$ 경향성이 증가하였다. 또한 가용매 분해반응의 메카니즘에 미치는 하전분리 효과도 고찰하였다.

• 대한환경공학회지
• /
• 제29권5호
• /
• pp.564-570
• /
• 2007

본 연구에서는 저전압 및 고전류에 의해 운전되는 수중 전기방전 기술을 이용하여 고농도(70,000 mg/L) 철(III)-에틸렌디아민테트라아세트산(Fe(III)-EDTA) 폐액을 처리하였다. 폐액내의 두 전극사이에 교류전압을 인가하면 폐액이 저항체의 역할을 하므로 전극주변 폐액의 온도가 빠르게 상승하며 동시에 전기화학반응에 의해 물이 분해되어 산소 및 수소 기체가 생성된다. 물의 기화 및 전기분해에 의해 생성된 기체가 전극주변을 감싸게 되면 이 기체층에서 강력한 전기방전이 일어난다. 과산화수소의 주입이 없을 때는 전기방전에 의해 약 50%의 Fe(III)-EDTA가 제거되었으며, 과산화수소 주입량이 증가됨에 따라 Fe(III)-EDTA 제거효율이 크게 증가하였다. 초기 Fe(III)-EDTA에 대한 과산화수소의 몰비가 24.7 이상일 때는 1 kWh의 에너지로 80 g 이상의 Fe(III)-EDTA를 제거할 수 있었다. 텅스텐 전극과 철전극을 비교한 결과 전극재질이 Fe(III)-EDTA 제거효율에 미치는 영향은 거의 없는 것으로 나타났다. 본 연구의 공정에서는 초기 Fe(III)-EDTA에 대한 과산화수소의 몰비가 24.7 이상일 때 30분 이내에 Fe(III)-EDTA 제거반응이 완료되었다.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
• /
• 한국표면공학회 2015년도 추계학술대회 논문집
• /
• pp.267-267
• /
• 2015

본 연구에서는 에틸렌디아민을 착화제로 사용하여 전해도금으로 Ni-Pd 합금피막을 형성하였다. 염화팔라듐 농도 1~5 mM, 전류밀도 $0.2{\sim}1.5A/dm^2$ 구간에서 고용체 합금피막이 형성되었으며, 이의 격자상수는 X선회절 분석을 통하여 확인하였다. Pd 함량은 전류밀도가 증가할수록 감소하였고, 경도는 전류밀도가 증가할수록 증가하다가 전류밀도 $1.3A/dm^2$ 이후 급격히 감소하였다. 경도증가 원인은 결정립미세화이고, 전류밀도 $1.3A/dm^2$ 이후에서 잔류응력으로 인한 크랙 발생으로 사료되었다.

• 대한화학회지
• /
• 제14권1호
• /
• pp.13-18
• /
• 1970

非水溶液 Ethylenediamine 中에서 水銀電極의 標準電位 및 水銀鹽化物, $HgCl_2,\;HgBr_2,\;HgI_2$의 Ion-Pair 形成恒數를, Hg電極/$HgX_2$ 또는 $HgX_2$+NaX//亞鉛아마르감 參照電極과 같은 Cell의 構成으로서 電位差法에 依하여 測定하였다.