기존의 초소형 렌즈모듈들은 초점 거리 가변을 위한 구동장치가 필요하여 소형화 한계, 큰 전력소모, 부품의 기계적 결함 등 해결해야 할 부가적인 문제점들이 존재하였다. 액체렌즈는 이러한 문제를 해결할 수 있는 유력한 기술로 주목받고 있으며, 특히 부가적인 구동 장치가 필요없고 비교적 간단한 원리로 렌즈 곡률을 조절할 수 있는 일렉트로웨팅 기반의 액체렌즈는 초점 거리 조절 및 줌 조절이 필요한 휴대폰, 캡슐 내시경 등에 적용이 가능하다. 그러나 기존의 일렉트로웨팅 기반의 액체렌즈는 렌즈 캐비티의 크기에서 큰 단점이 있으며, 렌즈모듈구성 시에도 소형화하는데 한계가 존재하였다. 본 연구에서는 렌즈 캐비티를 MEMS 기술을 이용하여 실리콘 기판 상에 제작함으로써 구동회로의 집적이 가능한 액체렌즈를 제작하였다.
회절격자와 굴절률을 알고있는 액체내에 있는 렌즈사이의 퓨리에 변환관계를 이용하여 렌즈 굴절률에 대한 수식을 유도하였다. 층밀리기 간섭기술을 이용하여 정확한 렌즈의 후면촛평면의 위치를 결정하였으며 슬릿을 스텝핑 모터로 구동하는 이동장치에 부착시켜 회절격자의 퓨리에 변환 스펙트럼 간격을 축정하였다. 세가지 액체를 사용하여 얇은 렌즈의 굴절률을 측정하였으며 높은 측정정확도를 확인하였다.
자동초점이란 영상을 획득하는 시스템에서 고정된 촬상면에 자동으로 초점이 맺히도록 렌즈를 구동시키는 방식으로 컴퓨터비전과 카메라 등에서 매우 중요하게 사용된다. 소형 카메라의 경우 자동초점에서 렌즈구동부인 actuator의 기술은 대량생산이 이용이하고, 위치센서가 불필요하며, 회로구성이 용이한 VCM방식이 널리 사용되고 있으며, 구동의 안정성에 비해 크기와 소음이 큰 스테핑모터 방식, 크기는 가장 작지만 납 함유문제 및 습도 취약성을 갖는 피에조 방식이 있다. 그 외에 액체렌즈방식이 있는데, 소형 구조에 저전력의 장점이 있지만 화질 및 신뢰성 검증 그리고 고압이 필요한 특징을 가지는 구조도 있다. 본 논문에서 5Mpixel급 이미지 센서를 통해 획득한 영상의 선예도를 이용하여 VCM의 actuator처럼 액체렌지를 제어할 수 있는 제어 시스템을 두 가지를 구현하여 자동으로 초점을 맞추는 기능을 구현 검증하였다.
디지털 홀로그래피 현미경은 기준광과 시료의 굴절률과 두께에 의한 광경로 차이를 간섭 방법을 이용하여 측정하여 3차원 형상을 측정하는 방법이다. 그리고 광 경로차는 시료의 두께와 시료와 시료 주변의 굴절률 차이에 의존한다. 시료 형상 기울기가 매우 큰 경우에는 광 경로차가 커져 일반적인 간섭 방법으로는 측정이 어렵다. 이런 경우 시료를 액체에 담그어 측정하면 광 경로차가 매우 작아져서 일반적인 간섭 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 본 연구에서는 디지털 홀로그램 현미경과 액체를 이용하여 기울기가 큰 비구면 렌즈의 형상을 측정하는 연구를 하였다. 시료의 굴절률과 비슷한 액체를 선택함으로서 비구면 렌즈의 정밀한 3차원 측정이 가능하였다.
자동초점이란 영상을 획득하는 시스템에서 고정된 촬상면에 자동으로 초점이 맺히도록 렌즈를 구동시키는 방식으로 컴퓨터비전과 카메라 등에서 매우 중요하게 사용된다. 소형 카메라의 경우 자동초점에서 렌즈구동부인 actuator의 기술은 대량생산이 이용이하고, 위치센서가 불필요하며, 회로구성이 용이한 VCM방식이 널리 사용되고 있으며, 구동의 안정성에 비해 크기와 소음이 큰 스테핑모터 방식, 크기는 가장 작지만 납 함유문제 및 습도 취약성을 갖는 피에조 방식이 있다. 그 외에 액체렌즈방식이 있는데, 소형 구조에 저전력의 장점이 있지만 화질 및 신뢰성 검증 그리고 고압이 필요한 특징을 가지는 구조도 있다. 본 논문에서 5Mpixel급 이미지 센서를 통해 획득한 영상의 선예도를 이용하여 VCM의 actuator처럼 액체렌지를 제어하여 자동으로 초점을 맞추는 제어방식을 구현하고 검증하였다.
집속 이온빔 기술은 고해상도의 이온빔 리토그라피, 마스크가 필요없는 이온주입, 그리고 Ion beam induced deposition 등 반도체 소자의 미세가공에 널리 이용되어 왔다. 좋은 안정도와 높은 전류밀도, 적은 에너지 퍼짐 그리고 낮은 에미턴스와 높은 선명도를 갖는 집속 이온빔 장비를 위한 액체 갈륨 이온원이 한국에서 개발 시업되었다. 이온빔의 전압이 15kV, 렌즈전압이 7kV 그리고 렌즈상단에 위치한 aperture의 직경이 0.2mm일 때, 0.1$mu extrm{m}$의 빔 직경으로 집속되는 정전 einzel렌즈가 설계 조립되었고, FIB 진공 chamber는 렌즈부와의 차 등 진공시스템으로 구성되어 설계제작되었다. FIB 장비가 조만간 한국에서 이온빔 밀링, ion beam induced deposition 그리고 잘못된 부분의 수정 등 반도체 제작공정에서의 응용에 큰 기여를 할 것이라 기대된다.
확산에 관한 Fick 법칙 및 연속법칙을 사용하여 액체(눈물)-콘택트 렌즈-눈물 층을 통하여 각막으로 유입되는 산소 flux 및 각막 표면의 산소 분압을 계산할 수 있는 일련(一連)의 방정식을 세우고 이들 식에 의거하여 피팅에 따른 눈물 층의 두께, 콘택트 렌즈의 Dk 및 두께 변화가 각막에 유입되는 산소 flux에 어떠한 영향을 미치는가를 예측하였다. 본 모델을 사용하여 적절한 피팅 조건에 부합하고 또한 각막 표면의 산소 분압이 보장되는 콘택트 렌즈의 Dk 및 두께를 결정할 수 있다. 대단히 높은 Dk값을 지닌 콘택트 렌즈라도 너무 flat 또는 tight하게 피팅된 경우 콘택트 렌즈의 주변부와 각막 사이 눈물 층의 간격이 커짐으로 인하여 각막 주변부에 도달하는 산소 flux 및 각막 주변부 표면의 산소 분압이 급격히 감소하게 될 수 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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