알곤+수소 혼합가스 분위기에서 r.f. 마그네트론 스퍼터링 방식으로 제작된 ITO 박막의 특성
(Properties of ITO films deposited by r.f. magnetron sputtering method under Ar+$H_2$ gas mixture)
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- 한국표면공학회:학술대회논문집
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- 한국표면공학회 2005년도 추계학술발표회 및 workshop
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- pp.170-170
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- 2005