$BCl_3$ /Ar 유도 결합 플라즈마 시스템을 이용한 ZnO 박막의 식각 특성
(Etch properties of ZnO thin films in the $BCl_3$ /Ar inductively coupled plasma system)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 2007년도 제38회 하계학술대회
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- pp.1319-1320
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- 2007