산업용 폐 니켈-카드뮴 전지를 효율적으로 재활용하기 위하여 케이스에서 분리된 양극 및 음극 스크랩을 cut mill로 분쇄하여 분급하였으며, 철 성분 제거를 위하여 습식 자력선별법을 이용하였다. 또한 얻어진 양극 및 음극 분말을 습식법을 이용하기 위하여 다양한 조건에서의 산 침출 실험을 실시하였다. 최적 침출조건으로 2.0 M $H_2SO_4$, 반응온도 $90^{\circ}C$, 15 wt% $H_2O_2$, L/S=20의 조건에서 3시간 침출을 하여 유가금속인 니켈 및 카드뮴의 침출율을 99% 이상 얻을 수 있었다.
배가스 탈황 공정은 흡수제의 형태에 따라 습식과 건식, 반응생성물로부터 흡수제의 회수여부에 따라 재생법과 비재생법으로 분류할 수 있으며, 현재 전 세계적으로 상용화되고 있는 처리공정은 비재생 습식 석회석-석고 공정이 채택되어 전체 설치용량의 80% 이상을 점유하고 있다.(중략)
항균성 및 원적외선 방사량이 높은 원적외선 방사 항균 글라스 및 글라스 세라믹스의 양산화를 위한 유리 용융에 있어 대량용융의 가능성을 확인할 수 있었으며, 열처리온도는 5Li₂Oㆍ36CaOㆍ20TiO₂ㆍ27P₂O/sub 5/와 1Ag₂Oㆍ4Li₂Oㆍ36CaOㆍ20TiO₂ㆍ27P₂O/sub 5/ 조성에서 최적핵형성온도가 620℃, 최적결정성장온도가 각각 78℃, 800℃였다. 원가절감을 위산 건식법과 습식법의 결정상분석의 결과 피크의 차이는 거의 없었다. 이온교환의 경우 5.0mol AgNO₃수용액에 담지한 시편에서는 많은 LTP 결정상이 AgTP 결정상으로 변환되기 시작하여 1.0omol 농도의 AgNO₃ 수용액에서는 결정상의 주피크가 AgTP 절정상으로 변이 되었다. 이 결과로 AgNO₃ 수음액 0.5mol 농도 이상의 이온교환시 항균특성에 있어서도 매우 유리하리라 예상되어진다.
In this study the thin film air core and magnetic core inductors consisting of planar coil and/or CoNbZr amorphous magnetic layers on a Si substrate were fabricated as spiral type by using rf magnetron sputtering and wet etching methods. The etchant solution was achieved by iron chloride solution(17.5 mol%) mixed with HF (20 mol%) during 150 sec which etched Cu films and CoNbZr/Cu/CoNbZr multi-layer films. They were about 10${\mu}{\textrm}{m}$ of thickness and 10$\times$10 mm$^2$of size. The properties of thin film magnetic core inductor were 400 nH of Q value at 10 MHz and the resonance frequency was about 300 MHz.
황산동 수용액으로부터 치환법을 이용하여 흑연입자에 동을 코팅시켰다. 흑연입자표면에 연속적이고 균질하게 동이 코팅된 최적조건을 확립하기 위하여 동이온 농도, 교반속도, 반응시간 및 반응온도 등의 영향을 조사하였다. 이때 동 코팅반응의 활성화에너지는 3.59kcal/mole이었다.
일본에서는 분뇨를 비료로서 오래동안 사용해왔으나 1954년 일본학술회의가 $\ulcorner$분뇨처리타개책$\lrcorner$을 정부에 권고하여 그해 $\ulcorner$청소법$\lrcorner$이 제정되고, 비료로서의 분뇨의 안전화$.$안정화를 도모해온 역사에 의하여 이들 일반폐기물로서 분뇨를 처리한다는 방향이 정해졌다 그리하여 수회에 결쳐 분뇨처리 시설의 구조기준이 정해졌는데 1977년에는 $\ulcorner$분뇨 처리시설구조지침$\lrcorner$이 나오게 되고 현재까지의 기술의 집대성이 등장하게 된 것이다. 이 지침에 나타나 있는 바는 다음과 같다. 1) 혐기성소화방식 2) 호기성처리방식 a. 호기성소화처리방식 b. 희석폭기처리방식 c. 일반활성오이처리방식 d. 이단활성오이처리방식 3) 무리화학적처리방식 습식산화처리방식 이들 중 혐기성소화방식은 악취때문에 환경에 나쁜 영향을 주는 경우가 많으므로 현재 그 건설수는 감소하고 있다. 습식산화방식은 한국에서 수개시설이 건설되어 있고 연구도 진행되고 있는 것으로 듣고 있다. 저자들은 호기성소화처리를 중심으로 한 호기성처리법의 연구를 1969년 이래 실시해왔는데, 최근의 시설은 호기성처리의 방식을 채택하는 경우가 주로 많아지고 있다. 따라서 호기성처리법에 대하여, 저자등의 연구를 중심으로 한 일본의 연구자의 성과를 소개하겠다.
본 연구는 높은 분산 안정성을 유지하는 antimony-doped tin oxide (ATO) 분산액을 제조하기 위하여, 습식 볼밀법으로 분쇄시간에 따른 ATO의 입자크기, 입도분포, 분산성의 변화를 고찰하였다. 또한 각각의 습식 볼밀 처리된 ATO 분산액의 pH를 변화시켜 ATO 분산액의 분산 특성을 고찰하였다. 습식 볼밀 분쇄 조건에 의하여 ATO의 입자크기 및 입도 분포 변화는 레이저회절 입도분석기와 주사전자현미경을 이용하여 평가하였고, 습식 볼밀 분쇄 시간 및 pH조건에 따른 ATO 입자의 분산성은 제타전위 측정법과 다중광산란(multiple light scattering)법을 이용하여 평가하였다. 분쇄 조건 중 60 min 동안 처리된 ATO 입자 크기는 30% 이하로 작아지고, $1{\sim}35{\mu}m$에서 $0.1{\sim}5{\mu}m$로 입도분포를 갖는 균일한 입자를 얻을 수 있었다. 그러나 분쇄조건을 60 min 이상 처리한 것은 역분쇄 및 재응집 현상의 발생으로 인하여 한계 분쇄 시간이 나타나는 것을 알 수 있었다. 이러한 결과로부터 ATO 분산액은 습식 볼밀 분쇄 시간을 증가시킬수록 입자 크기가 감소하고 표면 에너지가 증가하여 입자간의 반발력이 커지게 됨을 알 수 있었고, 또한 용액의 pH를 증가시킬수록 입자의 표면 이온화도가 커짐으로 인하여 ATO 분산액의 분산성이 향상되는 것을 알 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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