LiDAR 데이터의 필터링은 원 데이터로부터 건물, 수목 등과 같은 비지면점을 제거하는 과정이며, 이러한 필터링을 통해 DEM을 생성할 수 있다. 대표적인 필터링 방법들로는 분산을 이용한 linear prediction 기법, 주변 점들과의 경사관계를 이용한 slope-based 기법, morphology 필터, local maxima 필터 등이 있으며 이러한 기존의 기법들의 단점을 보완하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 대부분의 필터링 기법들은 필터의 크기(윈도우의 크기)와 같은 인자를 대상 지역에 적합하게 사용자가 직접 설정해주어야 한다. 더욱이 복잡한 지형, 지물이 존재하는 지역에 적용하기 위해서는 인자를 변형시켜줘야 하며 특히, 다양한 크기의 건물이 존재하는 지역에 대하여 적용하기 위해서는 가변적인 크기의 필터가 필요하다. 이에 본 논문에서는 다양한 크기의 건물이 존재하는 지역에 대하여 필터의 크기를 변화시키지 않고 필터링을 수행할 수 있는 연산기법을 제안하였다. 본 연구에서는 수목이나 자동차 등과 같은 작은 개체의 제거를 위해 고정된 작은 크기의 윈도우를 가지는 모폴로지 필터를 우선 적용한다. 그 후 건물과 같은 큰 개체의 포인트는 이웃 포인트와의 고도차이를 이용하여 인식하고 이웃에 위치하는 지면 포인트로 대체하며, 갱신된 값이 바로 다음 연산에 반영 되도록 한다. 또한 상, 하, 좌, 우 네 방향에 대하여 라인별로 독립된 연산을 수행한 후에 이들을 비교함으로써 오차를 보정한다.
본 논문에서는 T형 분기 도파관 내 Septum의 최적설계를 위하여 상용 전자파해석 소프트웨어의 API(Application Program Interface) 기능을 활용하는 VBA(Visual Basic Application) 기반 설계 인터페이스를 개발 하였다. 최적설계의 설계 변수는 도파관 내에서 Septum의 위치와 크기로 하였고, 목적 함수는 도파관의 반사계수($S_{11}$)를 가장 작게 하면서 T형 분기 도파관에서 출력되는 에너지를 2:1로 분배하도록 설정하였다. 목적함수는 본 논문에서 정한 함수이며 설계 목표에 따라 인터페이스 내에서 변경이 가능하다. 설계 인터페이스는 마이크로소프트사의 엑셀을 이용하였고 인터페이스 내에서는 사용자가 원하는 T형 분기 도파관의 크기 설계가 가능하며, 입력 port의 입력 모드를 설정하고, 해석 주파수를 선택하여 사용자가 정한 목적 함수에 맞는 최적화된 Septum의 크기와 도파관 내에서의 위치를 찾을 수 있게 하였다. 또한 사용자가 원하는 위치에서의 E Field, H Field, 전류 밀도를 크기 또는 복소수 형태의 수치 데이터로 획득할 수 있도록 설계하였다.
최근 이동컴퓨터(Mobile computer)는 사용자들이 기하급수적으로 늘고 있다. 그러나, 이동컴퓨터는 기존의 PC나 W/S을 사용하는 환경보다 이동성을 고려하므로, 화면 크기, 부속들의 크기와 무게, CPU에 사용되는 전력, 네트워크 인터페이스에서 제약성을 지니고 있다. 이런 제약으로 인해 이동컴퓨터는 기존의 컴퓨터 보다 성능이 떨어진다. 이런 환경에서 인터넷을 사용할 때 WWW같은 멀티미디어 전송 서비스는 원하는 시간 내에 처리하기 힘들다. 따라서, 현재 이동컴퓨터를 위한 인터넷 서비스들은 Proxy server를 이용하여 멀티미디어 데이터의 크기를 줄이거나 문자로 처리하게 하여 사용자들에게 좀 더 빠른 환경을 제공하고 있다. 그러나, 기존의 Proxy Server들에서 구현된 화면에서 보여지는 그래픽 파일(Graphic File)의 일방적인 size의 조정으로 파일의 양을 줄이기 때문에는 이동컴퓨터에게 똑같은 정보를 제공함으로써 환경이 다양한 이동컴퓨터에는 충분하지 못하다는 단점을 가지고 있다. 본 논문에서는 이동컴퓨터환경에서 사용자들이 원하는 WWW service를 빠른 시간에 받을 수 있게 하면서, 화면크기, 색 표현 능력 등이 각기 다른 이동컴퓨터의 H/W 사양에 맞추어서 효과적으로 보낼수 있게 포트(port)를 다양화한 Prosy server를 설계해 보도록 한다.
공유 스토리지 시스템에서 개별 클라이언트의 요구 QoS (Quality of Service) 를 만족시켜주기 위해서 각 클라이언트의 워크로드를 개별화 하고 성능을 차별화해 줄 수 있는 방안이 필요하다. 이것을 위해서 기존 스토리지 시스템에서 사용해온 방범은 YFQ [1], WFQ와 같이 스토리지에 명령 큐를 관리하는 방식을 사용하여 왔다. 그러나 큐 관리 방식은 스토리지 요구명령 크기(Request Size)가 일정하다는 가정 하에서 가능하다. 그런데 플라이언트의 요구명령 크기는 다양하다. 따라서 초당 IO의 수를 규제하여 QoS를 제공하는 큐 관리 방식은 다양한 요구명령 크기를 가지는 네트워크스토리지 QoS를 위한 최선의 방안이 될 수 없다. 본 논문에서는 클라이언트의 요구명령 크기가 다양하다는 것을 인정하고. 네트워크 스토리지에서 사전에 약정된 QoS를 제공하기 위해서 클라이언트와 서버간 네트워크 대역폭을 규제하는 방법을 이용하였다. 본 논문에서는 제안된 방법을 검증하기 위해서 iSCSI를 이용한 네트워크 스토리지 시스템을 사용하였다.
반도체 소자의 미세화와 더불어 세정공정의 중요성이 차지하는 비중이 점점 커지고, 이에 따라 세정 기술 개발에 대한 요구가 증대되고 있다. 기존 세정 기술은 화학약품 위주의 습식 세정 방식으로 표면 손상, 화학 반응, 부산물, 세정 효율 등 여러 가지 어려움이 있다. 따라서 건식세정 방식이 활발하게 도입되고 있으며 대표적인 것이 에어로졸 세정이다. 에어로졸 세정은 기체상의 작동기체를 이용하여 에어로졸을 형성하고 표면 오염물질과 직접 물리적 충돌을 함으로써 세정한다. 하지만 이 또한 생성되는 에어로졸 내 발생 입자로 인해 패턴 손상이 발생하며 이러한 문제점을 극복하기 위하여 본 연구에서는 가스클러스터 장치를 이용한 세정 특성 평가에 관한 연구를 수행하였다. 가스 클러스터란 작동기체의 분자가 수십에서 수백 개 뭉쳐 있는 형태를 뜻하며 이렇게 형성된 클러스터는 수 nm 크기를 형성하게 된다. 그리고 짧은 시간의 응축에 의해 수십 nm 크기까지 성장하게 된다. 에어로졸 세정과 다르게 클러스터가 성장할 환경과 시간을 형성하지 않음으로써 작은 클러스터를 형성하게 되며 이로 인해 패턴 손상을 최소화 하고 상대적으로 높은 효율로 오염입자를 제거하게 된다. 클러스터 세정 장비를 이용한 표면 처리는 충돌에 의한 제거에 기반한다. 따라서 생성 및 가속되는 클러스터로부터 대상으로 전달되는 운동량의 정도가 세정 특성에 영향을 미치며 이는 생성되는 클러스터의 크기에 종속적이다. 생성 클러스터의 크기 분포는 분사 거리, 유량, 분사 각도, 노즐 냉각 온도 등의 변수에 관한 함수이다. 따라서 본 연구에서는 $CO_2$ 클러스터를 이용한 세정 특성을 평가하기 위하여 이러한 변수에 따라서 오염 입자의 종류, 크기에 따른 PRE (particle removal efficiency)를 평가하고 다양한 선폭의 패턴을 이용하여 손상 실험을 수행하였다. 제거 효율에 사용된 입자는 $CeO_2$와 $SiO_2$이며, 각각 30, 50, 100, 300 nm 크기를 정량적으로 오염시킨 쿠폰 웨이퍼를 제조하여 세정 효율을 평가하였다. 정량적 오염에는 SMPS (scanning mobility particle sizer)를 이용한 크기 분류와 정전기적 입자 부착 시스템이 사용되었다. 또한 패턴 붕괴 평가에는 35~180 nm 선폭을 가지는 Poly-Si 패턴을 이용하였다. 실험 결과 클러스터 형성 조건에 따라 상대적으로 낮은 패턴 붕괴에서 95% 이상의 높은 오염입자 제거효율을 전반적으로 보이는 것을 확인할 수 있었다. 따라서 이론적 계산에 기반하여 세정에 요구되는 클러스터 크기를 가정하고, 이를 통하여 세정에 적용할 경우 높은 기존 세정 방법의 단점을 보완하면서 높은 세정 효율을 가지는 대체 세정 방안으로 이용할 수 있음을 확인하였다.
서로 다른 입자크기를 갖는 WC와 Co 분말 원료를 사용하여 $WC-10\;wt\%$Co 초경합금을 제조하였다. 이로부터 WC와 Co 원로. 입자크기가 제조된 초경합금의 성질에 미치는 영향에 대해 고찰하였다. WC 원료 입자크기가 클수록 제조된 초경합금이 파괴인성이 높고 경도는 낮게 나타나는데, 이러한 경향은 Co 원료 입자크기에 크게 영향 받지 않음을 알 수 있었다. Co 원료 크기의 영향 외에도 Co 원료 크기가 초경합금의 특성에 영향을 주는 것으로 밝혀졌는데, 동일한 WC 원료를 사용하여도 미세한 Co 원료를 사용할 경우, 보다 조대한 WC를 함유하여 인성이 우수한 초경합금을 제조할 수 있었다. 이로부터 Co 원료 입자크기가 초경합금의 미세구조 및 그 특성에 중요한 역할을 함을 알 수 있었다
8 MHz 고주파 유전형 가열장치로 모형을 가열할 때에 전극의 크기와 모형의 두께에 따른 온도 분포를 알아보기 위하여 다양한 크기의 전극과 다양한 두께의 모형을 조합하여 실험하였다. 전극은 10, 15, 20, 25, 그리고 30 cm 크기를 사용하였고 모형은 10, 15, 20, 25, 그리고 30 cm 두께를 사용하였다. 모형의 두께가 25 cm 이상일 경우에는 전극의 크기가 모형의 두께보다 크거나 혹은 같을때에 중심부에 균일한 온도 분포를 얻을 수 있었으나, 모형의 두께가 20 cm 이하일 경우에는 전극의 크기가 모형의 두께와 같을 때는 균일한 온도 분포를 얻을 수 없었고 전극의 크기가 모형의 두께보다 클 때만 균일한 온도 분포를 얻을 수 있었다. 크기가 다른 한쌍의 전극을 사용하여 가열시에는 작은 전극 쪽으로 가열 부분이 집중되었고 그 현상은 전극크기의 차가 클 수록 심하였다.
반도체 공정 및 디스플레이 공정에서 발생하는 오염입자는 공정 불량을 일으키는 가장 큰 인 중의 하나이며, 수십 나노에서 수 백 나노의 크기를 갖는다. 최근 반도체 산업이 발전함에 따라 회로의 선폭이 점차 감소하고 있으며 오염입자의 임계 직경(critical diameter) 또한 작아지고 있다. 또한 디스플레이 산업에서는 패널이 대형화되고 공정이 발달함에 따라 입자에 의한 패널 오염이 이슈가 되고 있는 실정이다. 현재 반도체 및 디스플레이 산업에서 사용되는 측정방법으로는 레이저를 이용하여 공정 후 표면에 남아있는 오염입자를 측정하는 ex-situ 방법이 주를 이루고 있다. Ex-situ 방법을 이용한 오염입자의 제어는 웨이퍼 전체를 측정할 수 없을 뿐만 아니라 실시간 측정이 불가능하기 때문에 공정 모니터링 장비로 사용이 어려우며 오염입자와 공정 간의 상관관계 파악에도 많은 제약이 따르게 된다. 이에 따라 저압에서 in-situ 방법을 이용한 실시간 오염입자 측정 기술 개발이 요구되고 있다. 또한 입자의 크기 뿐 아니라 성분과 형상까지 측정할 수 있는 장치의 개발 요구가 높아지고 있는 실정이다. 이를 위해 입자의 크기 및 분포를 측정할 수 있는 Particle Beam Mass Spectrometer (PBMS)와 형상을 측정할 수 있는 Scanning Electron Microscope (SEM)의 기능을 통합하여 실시간으로 나노입자의 복합특성(크기, 성분, 형상)을 측정할 수 있는 장치를 개발하였다. 또한 기존 장치들의 문제점 중 하나가 실시간으로 교정이 불가능하다는 것이었는데 이 장치의 경우 실시간으로 측정되는 결과의 조합으로 실시간 교정까지도 가능한 장점을 가지고 있다.
구름에서의 다중산란 효과는 Mie 산란현상을 이용하는 탄성산란 라이다에서 그 해를 구하는데 있어서, 매우 중요한 오차요인으로 작용하기 때문에 이 효과를 보정하는 것은 그 자체만으로도 매우 중요하다. 이를 위하여 구름에서 다중산란되는 현상을 Monte Carlo 방법으로 계산하였으며, 이 결과를 적용하여 물방울 구름의 총량과 유효입자크기를 추출하는 방법을 제안하였다. 구름의 유효입자 크기가 $2.5{\mu}m$ 이하일 경우엔 355 nm나 1064 nm에서 얻은 두 파장의 소광계수로 쉽게 그 값들을 구할 수 있음을 알 수 있었다. 크기가 큰 경우엔 라이다 신호의 안정화된 선형편광도가 유효입자크기, 총량, 그리고 소광계수와 관련이 있음을 알 수 있었으며, 이 관계를 통하여 큰 입자의 경우에도 라만 라이다와 편광 라이다를 이용한다면 유효입자크기와 총량을 구할 수 있다는 것을 알 수 있었다.
정사각형 기판의 크기가 패치 안테나의 방사 특성에 미치는 영향에 대하여 연구하였다. 기판의 크기가 공진 주파수와 대역폭에 미치는 영향은 매우 작지만 방사 패턴에 미치는 영향은 매우 큼을 볼 수 있었다. 전방방사 이득과 이득이 최대가 되는 각도는 기판의 크기에 따라 거의 주기적으로 변화함을 볼 수 있었다. 전방방사 이득이 최대가 되는 변의 길이와 최소가 되는 변의 길이는 기판의 전기적 두께가 커질수록 작아짐을 볼 수 있었다. 기판의 전기적 두께가 클수록 기판 크기에 따른 전방방사 이득 변화 폭이 큼을 볼 수 있었다. 기판 크기에 따른 방사 패턴의 변화도 기판의 전기적 두께와 매우 밀접한 관계를 가짐을 볼 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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