웹을 이용하는 사용자들은 통상적으로 짧은 시간 내에 포탈의 여러 페이지를 방문하는 현상이 있는데, 이 때 방문하는 각 페이지 상에 위치 정보를 필요로 하는 콘텐츠(위치 기반 광고 배너, 위치 기반 날씨 등)가 존재한다면 웹의 특성상 짧은 시간 내에 동일 IP에 대한 위치 정보 검색을 반복하게 된다. 본 논문에서는 이러한 웹 사용 패턴을 캐시를 통해 반영한 고성능 인터넷 위치 검색을 제안, 구현하고 그 성능을 검증한 것이다. 이는 초당 2-3천 건 이상의 대용량 위치 정보를 검색을 수행하데 특히 적합한 방법으로, 적은 비용으로 위치 검색 성능을 획기적으로 높일 수 있었다.
최근 클라우드 컴퓨팅에 대한 관심이 고조됨에 따라, 아웃소싱된 암호화 데이터베이스 상에서의 영역 질의처리 연구가 활발히 진행되고 있다. 그러나 기존 연구 중 데이터 접근 패턴 보호를 지원하는 연구는 전무하다. 따라서 본 논문에서는 데이터 보호, 사용자 질의 보호 및 데이터 접근 패턴 보호를 모두 지원하는 암호화 데이터베이스 상에서의 영역 질의처리 알고리즘을 제안한다. 성능평가를 통해, 제안하는 기법이 정보보호를 지원하는 동시에 효율적인 처리 성능을 제공함을 보인다.
반도체 산업에서 메모리의 고집적화, 회로 패턴의 미세화에 따라 클린룸 공기중에 존재하는 분자상오염 물질 (Airborne Molecular Contaminants, AMCs)이 제조공정에 미치는 영향이 매우 중요하게 대두되었다$^{1)}$ . 분자상 오염물질은 입자상 오염물질과 달리 외관상 관찰이 어려우며, 오염 종류와 형태가 원소의 종류에 따라 매우 다양하게 나타난다. 클린룸에서의 입자상 오염물질은 고효율 필터(HEPA, ULPA)를 사용하여 제거 관리하고 있으나, 분자상 오염물질은 종류 및 형태조차 파악하지 못하고 있다. (중략)
움직이는 패턴을 오랫동안 본 후에 정지된 패턴을 보면. 정지된 패턴이 운동 패턴의 반대 방향으로 움직이는 것으로 지각되는 운동 잔여 효과(motion aftereffect: MAE)가 발생된다. 이 현상에 대한 고전적인 설명과는 달리 복잡운동의 MAE는 운동 순응이 발생되지 않은 영역에까지 확산된다. 본 연구에서는 시각 정보 처리 과정에서 MAE의 확산 현상이 발생되는 신경기제의 상대적인 위치를 알아보기 위해서 하모닉 나선형 패턴을 운동 순응 자극으로 사용하여 고리모양의 창에 제시한 후, 순응이 발생된 고리영역과 순응이 발생되지 않은 안쪽 영역 모두에서 MAE를 측정하였다. 순응자극과 동일한 영상과 거울상을 각각 검사자극으로 사용하여 MAE를 측정하고 두 조건에서 발견된 MAE를 비교하였다. 하모닉 나선형 자극의 특징은 동일 영역에 제시된 원영상과 거울상의 윤곽 방위의 차이가 90도라는 점이다. 이러한 특징에 의해 거울상의 경우 국소 운동 정보를 추출하는 탐지기 수준에서는 순응효과를 기대하기 어렵다. 실험 결과 순응된 영역에서의 MAE 지속시간은 동일상 조건이 거울상 조건보다 더 길게 나타났지만, 운동 순응이 없었던 영역(운동 잔여효과의 확산 영역)에서는 두 조건간 유의한 차이가 발생되지 않았다. 이러한 결과는 복잡운동(complex motion)의 MAE 화산은 국소 운동 정보가 추출되는 V1과 같은 초기 단계에 있는 신경세포의 순응이 아니라 복잡 운동이 처리되는 MSTd 에 있는 신경세포들의 순응에 의해서 발생됨을 시사한다.
일반적인 세포 배양 기술은 평평한 표면에 세포 부착을 위한 화학적, 생화학적 표면처리를 하는 것이 기본이지만, 요즘 들어 마이크로나 나노 크기의 구조체를 형성하여 세포 부착을 하는 연구들이 많이 진행되고 있다. 본 연구에서는 전도성 고분자인 피롤과 나노임프린트 기술을 이용하여 300 nm 선 패턴과 150 nm 원기둥 패턴의 나노구조체 제작 후 대표적인 암세포인 HeLa 세포를 배양하여, 주사전자현미경과 공초점 현미경을 이용하여 세포의 부착 특성을 연구하였다. 상용 페트리 접시와 평면 피롤에서는 세포들이 부정형의 형태로 부착 및 배양되었지만, 선폭 300 nm 선패턴 상에서는 길이 방향으로 세포가 부착되고 세포 내의 핵과 액틴 역시 배열되어 있고, 지름 150 nm 원기둥 패턴 상에서는 단일 세포로 고정되고 세포 내 액틴은 방사상으로 나노구조체에 고정되어 있는 것을 확인할 수 있었다.
기존의 패턴 탐사 기법들은 대부분 객체가 갖는 공간 정보의 연속적인 변화에 대한 패턴 탐사는 가능하나, 추출하고자 하는 패턴에 반드시 포함되어야 하는 공간 정보에 대한 제약이 없어 특정 지점들 사이의 최적 경로 탐색 문제나 단위기간 동안 이동 객체가 순회해야 하는 지점들에 대한 경로 예측 문제 등에 적용하기 어렵다. 본 논문에서는 Road Network 상의 특정한 지점들 사이를 이동한 객체의 위치 데이터들 중 최다 빈발 패턴과 시간 및 비용 등의 가중치를 복합적으로 고려하여 최적의 이동 경로를 탐색하는 방법(Spatial-Temporal Optimal Moving Pattern(with Frequency & Weight) algorithm)[13]을 이용하여, 공간 개념 계층에 따른 경로 탐색의 정확도를 분석한다. 분석의 결과는 패턴 탐사 과정에 있어 공간 제약을 적용하여 검색 데이터 범위를 축소함으로써 데이터베이스 검색 시간을 최소화함을 보이고, 또한 공간 추상 계층의 각 계층별 영역 내 포함여부를 고려함으로써 효율적으로 최적 이동 패턴을 탐색하여 제공하도록 한다.
본 연구는 비전도성 폴리머 표면을 개질하여 감광성 금속을 유전체 표면에 흡착시키고, 감광성 금속의 광화학 반응을 이용하여 귀금속 촉매를 비전도성 폴리머 표면에 선택적으로 흡착시켜 무전해 Cu 도금을 수행하여 금속패턴을 형성하였다. 기능성 유연 필름은 일반적으로 투명한 플라스틱 고분자 기판을 기반으로 전기 전자, 에너지, 자동차, 포장, 의료 등 다양한 분야에서 폭넓게 활용 되고 있으며, 본 연구에서는 습식 도금 공정을 이용하여 폴리이미드 필름상에 $10{\mu}m$ 이하의 미세패턴을 형성하기 위한 공정을 개발하고자 하였다. 비전도성 폴리머 표면에 무전해 도금을 위해서 우선 폴리머 필름의 표면을 개질하는 공정이 필요하다. 이에 KOH 또는 NaOH 알카리 용액을 이용하여 표면을 개질하였으며 개질된 표면에 감광성 금속이온의 흡착시키기 위한 감광성 금속이온은 주석을 사용하였으며, 주석 용액의 안정성 및 퍼짐성 향상을 위해 감광성 금속 용액의 제조 및 특성을 관찰하였으며, 감광성 금속화합물이 흡착된 비전도성 유전체 표면을 포토마스크를 이용하여 특정 부위, 즉 표면에 금속패턴 층을 형성하고자 하는 곳은 포토마스크를 이용하여 광원을 차단하고 그 외 부분은 주 파장이 365nm와 405nm 광원을 조사하여 선택적으로 감광성 금속화합물의 산화반응을 유도하는 광조사 공정을 수행하였다. 광원이 조사되지 않은 부분에 귀금속 등의 촉매 입자를 치환 흡착시켜 금속 패턴이 형성될 수 있는 표면을 형성하였다. 위의 활성화 공정이후에 활성화 처리된 표면을 세척하는 수세 공정을 거친 후 무전해 도금공정에 바로 적용할 경우 미세한 귀금속 입자가 패턴이 아닌 부분 즉 자외선(UV) 조사된 부분에도 남아있어 도금시 번짐 현상이 발생한다. 이에 본 연구에서는 활성화 처리 후 약 알칼리 용액에 카르복실산을 혼합하여 잔존하는 귀금속 입자를 제거한 후 무전해 Cu 도금액을 이용하여 $10{\mu}m$ 이하의 Cu 금속 패턴을 형성하였다.
Type Object 디자인 패턴은 하나의 클래스가 수많은 하위 클래스를 갖거나, 그 하위 클래스의 개수를 소프트웨어 개발시에 예측할 수 없는 상황을 해결하고자 제시된 패턴이다. 그러나, 이 패턴은 적용력과 여러 장점에도 불구하고 인스턴스를 생성하는 클래스와 그 인스턴스의 실제적 클래스가 분리되어 있고 또한 객체 레퍼런스에 의해서 서로 연관되어 있으므로 이에 대한 관리를 위한 메커니즘과 패턴의 이해에 있어서 많은 복잡성을 갖는 문제점이 있다. 본 논문에서는 이러한 문제를 해결하기 위한 Type Object Class의 설계와 구현을 제시한다. 즉, Type Object 패턴의 Type Class와 Object Class로부터 Type Object Class를 설정하고, 이를 런타임에 생성되고 사용되게 함으로써, 인스턴스들이 객체 지향프로그래밍 언어에서 제공하는 고유의 클래스를 참조하게 되어 별도의 클래스 참조 메커니즘을 가질 필요가 없도록 하였다. 따라서, 별도의 클래스 참조 메커니즘을 개발하는 부담과 이 메커니즘의 동작으로 인한 실행 상의 성능 저하의 문제가 개선되는 효과가 있다.
Oraganic Light Emitting Diodes (OLED) 소자의 광추출 효율을 향상시키기 위한 방안으로 나노급 사이즈의 고 굴절률 패턴을 기판의 내부 패턴에 적용하였다. 100 nm 및 300 nm의 직경을 갖는 Si3N4 나노 패턴을 나노 임프린트 리소그래피와 건식 식각 공정을 통하여 OLED의 유리기판에 형성을 하였다. 그리고 Silicon On Glass (SOG) 물질을 패턴이 전사된 기판에 스핀 코팅으로 평탄화 공정을 진행 함으로써 OLED소자의 전기적인 특성이 떨어지는 문제점을 개선하였다. 그러고 나서 Si3N4 나노 패턴이 형성되고 평탄화 공정을 마친 기판상 OLED 소자를 제작하였다. OLED의 발광층에서 발생한 빛은 Si3N4 나노패턴에 의해 산란되어 광 추출 효율을 개선할 수 있다. 본 연구에서 두 가지 종류 100nm, 300nm 높이의 Si3N4 나노패턴으로 높이에 따른 광 추출 효율을 비교하고자 OLED 소자를 제작하였다. 기판에 Si3N4 패턴이 형성된 OLED의 효율은 Si3N4 300nm에서 13.1% 증가하였다.
IEEE 1149.1 바운다리스캔은 보드 수준에서 고장점검 및 진단을 위한 테스트 설계기술이다. 그러나, 바운다리스캔 제어기의 특성상 테스트 패턴의 주입에서 관측까지 2.5 TCK가 소요되므로, 연결선상의 지연고장을 점검할 수 없다. 본 논문에서는 Update_DR 신호를 변경하여, 테스트 패턴 주입에서 관측까지 1 TCK가 소요되게 함으로써, 지연고장 점검을 가능하게 하는 기술을 소개한다. 나아가서, 정적인 고장점검을 위한 테스트 패턴을 개선해 지연고장 점검까지 가능하게 하는, N개의 net에 대한 2log(N+2)의 새로운 테스트패턴도 제안한다. 설계와 시뮬레이션을 통해 지연고장 점검이 가능함을 확인하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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