• Title/Summary/Keyword: 산화환경

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Assessment of Peroxy-acid Oxidation for Reduction of Polycyclic Aromatic Hydrocarbons(PAHs) in Field Soil (현장토양내 다환방향족탄화수소 저감을 위한 과산소산 산화효율 평가)

  • Jung, Sang-Rak;Chang, Yoon-Young
    • Journal of Environmental Impact Assessment
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    • v.30 no.2
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    • pp.132-139
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    • 2021
  • Laboratory-scale experiments were conducted to assess the effect of oxidative decomposition of polycyclic aromatic hydrocarbons (PAHs) in field soil using peroxy-acid. The study soil texture is sandy soil containing 19.2 % of organic matter at pH 6.8. Among polycyclic aromatic hydrocarbons (PAHs) in the study soil, the concentration of benzo(a)pyrene is 2.23 mg/kg which is three times higherthan the Korea standard level. Therefore benzo(a)pyrene was selected as the target study PAH for the treatment by peroxy-acid oxidation using peroxy-acid coupled with hydrogen peroxide, and the efficiency of the oxidative decomposition of benzo(a)pyrene was assessed for the different organic acids and dosages of an organic acid and hydrogen peroxide. Propionic acid among the tested organic acids showed the highest efficiency of benzo(a)pyrene reduction in the peroxyacid oxidation treatment and finally satisfied the Korea standard level.

Growth and thermal annealing of polycrystalline Ga2O3/diamond thin films on Si substrates (다결정 산화갈륨/다이아몬드 이종 박막 성장 및 열처리 효과 연구)

  • Seo, Ji-Yeon;Kim, Tae-Gyu;Shin, Yun-Ji;Jeong, Seong-Min;Bae, Si-Young
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.31 no.6
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    • pp.233-239
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    • 2021
  • In this study, Ga2O3/diamond layers were grown on Si substrates to improve the thermal characteristics of Ga2O3 materials. Firstly, diamond thin film was grown on Si substrates by hot-filament chemical vapor deposition. Afterward, Ga2O3 layer was grown in the growth temperature range of from 450~600℃ by mist chemical vapor deposition. We found that layer separation happens at the Ga2O3/diamond interface at the growth temperature of 500℃. This is attributed to the different thermal expansion coefficient of the mixture of amorphous and crystalline structures during cooling process. Therefore, this study might contribute to the heat-sink-layer bonded power semiconductor applications by stabilizing the thermal properties at Ga2O3/diamond interface.

Development of the Biological Oxidation Filter System for Water Treatment (수처리용 생물산화 여과장치 개발)

  • 염병호;정충혁;문정석;최승일
    • Environmental engineer
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    • s.181
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    • pp.70-75
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    • 2001
  • 본 연구는 '99년 7월에 벤처형 중소기업 기술개발 지원사업으로 신규 계약된 과제로서 상수원수의 전처리 및 하수 2차 침전수의 재처리 공정에 활용될 생물 산화 여과지를 개발하는 것이다. 생물 산화 여과 system은 상수 원수의 전처리, 상수도의 고도정수 처리, 하수 및 폐수처리에 이용될 수 있는 것으로, 특히 물리적 여과기능과 포기 과정을 통한 산화 기능을 포함하는 생물학적 분해 및 자연정화처리환경을 유지하여 수질이 악화된 상수도의 전·후처리나 하.폐수의 3차 처리에 적용하기 위한 것이다. 생물 산화 여과 시스템은 여과지의 하부 장치에 균등한 공기(산소)공급시설을 하여 여과층에 연속적으로 공기를 공급하면서 여과를 함으로서 생물막 여과 및 산화 기능으로 유기물질, 철, 망간 등을 제거하고 공기의 부상력에 의하여 조류, 부유물질, 냄새 등을 동시에 제거하는 System이다. 현재 상수처리 공정으로서의 생물 산화 여과지 개발을 위해 Bench-scale과 semi-pilot plant를 거쳐 Y시 M취수장애 pilot plant를 설치하여 연구를 진행중에 있으며, 또한, G시 G하수처리장에 하수처리 공정에 관한 연구를 위해 pilot plant를 설치하고 하수 3차 처리와 저농도 하·폐수 처리를 중심으로 연구중에 있다. 아래의 연구 결과는 정수처리 공정 연구를 위한 Bench-scale plant실험을 통해 얻은 결과치이며 현재까지 진행된 연구는 주로 정수처리 공정 중심으로 이루어 졌으나 pilot plant에서는 정수 및 하수처리에서의 생물산화여과공정의 연구가 진행중이다. 현재 연구가 진행중이므로 각 인자별 최적운전조건 등은 계속적인 실험과 연구를 통해 찾아지겠으나 현재까지 수행된 연구자료를 기반으로 볼 때 생물산화 여과장치는 탁도, SS, VSS 등의 제거에 탁월한 효능을 보이고 있다. 수처리용 장치로서의 이러한 기본적인 기능 이외에 NPOC, DOC 제거에도 뛰어난 효능을 보이고 있으며 특히 정수처리 공정에서 문제시 되고 있는 동절기 암모니아성 질소제거 또한 큰 가능성을 보여주고 있다. 그 동안 외국기술에 전면 의존해 오던 생물 산화 여과방식의 국내개발은 비용 절감뿐만 아니라 국내 실정에 맞는 기술개발이라는 점에서 향후 그 적용 범위를 넓혀 갈 수 있을 것이다.

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트렌치 게이트 Power MOSFET의 고신뢰성 게이트 산화막 형성 연구

  • Kim, Sang-Gi;Yu, Seong-Uk;Gu, Jin-Geun;Na, Gyeong-Il;Park, Jong-Mun;Yang, Il-Seok;Kim, Jong-Dae;Lee, Jin-Ho
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.108-108
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    • 2011
  • 최근 에너지 위기와 환경 규제 강화 및 친환경, 녹색성장 등의 이슈가 대두되면서 에너지 절감과 환경보호 분야에 그린 전력반도체 수요가 날로 증가되고 있다. 이러한 그린 전력반도체는 휴대용컴퓨터, 이동통신기기, 휴대폰, 조명, 자동차, 전동자전거, LED조명 등 다양한 종류의 전력소자들이 사용되고 있으며, 전력소자의 수요증가는 IT, NT, BT 등의 융복합기술의 발달로 새로운 분야에 전력소자의 수요로 창출되고 있다. 특히 환경오염을 줄이기 위한 고전압 대전류 전력소자의 에너지 효율을 높이는 연구 개발이 활발히 진행되고 있다. 종래의 전력소자는 평면형의 LDMOS나 VDMOS 기술을 이용한 소전류 주로 제작되어 수십 암페어의 필요한 대전류용으로 사용이 불가능하다. 반면 수직형 전력소자인 트렌치를 이용한 power 소자는 집적도를 증가 시킬 수 있을 뿐만 아니라 대전류 고전압 소자 제작에 유리하다. 특히 평면형 소자에 비해 약 30%이상 칩 면적을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 평면형에 비해 on-저항을 낮출 수 있기 때문에 수요가 날로 증가하고 있다. 트렌치 게이트 power MOS의 중요한 게이트 산화막 형성 기술은 트렌치 내부에 균일한 두께의 산화막 형성과 높은 신뢰성을 갖는 게이트 산화막 형성이 매우 중요하다. 본 연구에서는 전력소자를 제조하기 위해 트렌치 기술을 이용하여 수직형 전력소자를 제작하였다. 트렌치형 전력소자는 게이트 산화막을 균일하게 형성하는 것이 매우 중요한 기술이다. 종래의 수평형 소자 제조시 게이트 산화막 형성 후 산화막 두께가 매우 균일하게 성장되지만, 수직형 트렌치 게이트 산화막은 트렌치 내부벽의 결정구조가 다르기 때문에 $1000^{\circ}C$에서 열산화막 성장시 결정구조와 결정면에 따라 약 35% 이상 열산화막 두께가 차이가 난다. 본 연구는 이러한 문제점을 해결하기 위해 트렌치를 형성한 후 트렌치 내부의 결정구조를 변화 및 산화막의 종류와 산화막 형성 방법을 다르게 하여 균일한 게이트 산화막을 성장시켜 산화막의 두께 균일도를 향상시켰다. 그 결과 고밀도의 트렌치 게이트 셀을 제작하여 제작된 트렌치 내부에 동일한 두께의 게이트 산화막을 여러 종류로 산화막을 성장시킨 후 성장된 트렌치 내벽의 산화막의 두께 균일도와 게이트 산화막의 항복전압을 측정한 결과 약 25% 이상 높은 신뢰성을 갖는 게이트 산화막을 형성 할 수 있었다.

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A Study on the Harmfulness of Silicon Oxide Dust and Measures for the Work Environment Improvement in Construction Sites (건설현장에서 발생하는 산화규소분진의 유해성 및 작업환경 개선대책에 관한 연구)

  • Hwang, Jeong-Suk
    • Journal of the Society of Disaster Information
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    • v.18 no.3
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    • pp.478-486
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    • 2022
  • Purpose: Although the working environment is measured at the construction site, only a few noise and vibration that are typically exposed for each process are performed without measuring the working environment by segmenting the exposed harmful factors. Therefore, it is intended to find the harmfulness of silicon oxide dust, which is most exposed at construction sites, and the complementary points of improvement measures currently being implemented at construction sites. Method: The status was analyzed using the actual condition survey report issued by the Korea Occupational Health Corporation and the Korea Occupational Health Association and data from the work environment measurement institution, and compared and analyzed with the rules on work environment measurement of the Occupational Safety and Health Act. Result: The harmfulness of silicon oxide dust was identified and improvement measures were derived. Conclusion: It is expected that occupational diseases against silicon dust can be reduced if the harmfulness of silicon oxide dust at construction sites is derived and improvement measures are actively applied at the site.

Study on characteristic of Advanced oxidation process for improvement of dyeing wastewater effluent quality (염색폐수 방류수 수질개선을 위한 고도산화처리에 관한 연구)

  • Lee, Sang-Hun;Park, Jun-Hyung;Shin, Dong-Hoon;Ryu, Seung-Han
    • Proceedings of the Korean Society of Dyers and Finishers Conference
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    • 2012.03a
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    • pp.118-118
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    • 2012
  • 현재 정부는 친환경녹색성장을 모티브로 환경기준을 강화하고 있으며, 오염 발생원을 최소화 하고자 현재 가동중인 환경기초시설을 대상으로 고도산화공정을 추가하여 오염 배출량을 최소화 하도록 정부와 지자체가 독려하고 있는 중이다. 따라서 대표적인 환경오염 업종인 섬유/염색 관련업체는 강화되는 환경기준을 만족하기 위한 공정검토가 불가피한 현실이다. 특히 대구 OO염색공단은 염색업체가 집적되어 있어 난분해성 오염물질과 색도유발물질이 다량 발생되고 있으며, 폐수처리장에서 운영 중인 재래식 폐수처리공정으로는 강화되는 방류수 수질기준을 충족할 수 없다. 따라서 본 연구에서는 방류수 수질기준을 만족하기 위한 고도산화 공정을 검토하였으며, 그 공정의 최적인자를 도출하고자 하였다. 고도산화 공정에서 오존산화, Peroxone AOP, Fenton oxidation 공정을 검토하였으며, 강화되는 수질기준을 만족할 수 있는 최적인자 및 처리효율을 검토하였다. 그 결과 조건에 따라 COD, T-N, T-P, 색도 등에서 처리효율은 40 ~ 90% 범위로 경제성을 고려하여 최적의 운전조건을 도출 하였다.

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