• Title/Summary/Keyword: 산화처리

Search Result 2,678, Processing Time 0.03 seconds

수소화 처리된 게이트산화막을 이용한 MIS-NVM소자의 memory특성 향상

  • Lee, So-Jin;Kim, Tae-Yong;Jang, Gyeong-Su;Nguyen, Cam Phu Thi;Kim, Seon-Bo;Lee, Jun-Sin
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2016.02a
    • /
    • pp.339.1-339.1
    • /
    • 2016
  • 본 연구에서는 금속-절연막-반도체 (MIS) 형태를 이용한 비휘발성 메모리 (NVM) 소자의 메모리 특성 향상을 위해 수소화 (Hydrogenation) 처리된 게이트산화막을 블로킹 산화막으로 응용하였다. 기존 연구의 경우 저온 공정시 게이트산화막의 고품위 전기적 특성 확보에 어려움이 있었다. 하지만 이번 연구에서는 게이트산화막 형성 시 H2 또는 NH3가스를 함께 주입시켜 Si-H 결합의 증대를 통한 passivation 효과를 얻을 수 있었다. 형성된 게이트산화막의 전기적 특성을 확인하기 위해 우선적으로 박막트랜지스터 (TFT)를 제작하여 전기적 특성을 확인하였다. 수소화 처리된 게이트산화막을 이용한 TFT 경우 그렇지 않은 게이트산화막을 이용한 TFT 보다 약 5V의 threshold voltage (Vth) 이득이 있으며 Vth의 hysteresis 특성 역시 거의 0V로 매우 안정적이었다. MIS 형태의 NVM 소자의 경우 -20V에서 +15V, +15V에서 -20V로 sweep하여 측정한 flatband voltage (Vfb)의 변화량 역시 약 88%의 메모리 특성 이득이 있음을 확인하였다.

  • PDF

Effect of Direct Current and Pulse Current on The Formation Behavior of Plasma Electrolytic Oxidation Films on Al Alloy (Al 합금의 플라즈마 전해산화 피막 형성 거동에 미치는 직류 및 펄스 전류의 영향)

  • Kim, Ju-Seok;Mun, Seong-Mo;Sin, Heon-Cheol
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
    • /
    • 2018.06a
    • /
    • pp.29.1-29.1
    • /
    • 2018
  • 양극산화 표면처리 방법의 일종인 플라즈마 전해산화(PEO, Plasma electrolytic oxidation)는 금속 소재에 양극 전압을 인가하여 고경도의 산화 피막을 금속 표면에 형성시키는 표면처리 기술이다. PEO 공정은 피막의 국부적 유전체 파괴에 의한 아크의 발생을 동반하며, 형성된 산화 피막이 아크 발생에 의한 높은 열에 의해 결정화 되어 일반적인 양극산화 피막보다 우수한 경도와 내마모성을 가진다. 하지만 PEO 공정은 고전압을 필요로 하여 일반적인 양극산화 처리보다 소모되는 전력량이 많으며, 아크 발생에 의해 형성된 피막의 표면 거칠기가 높기 때문에 활용 분야가 제한되거나 후속 연마 공정을 필요로 하는 단점이 존재한다. 본 연구에서는 전류 파형이 알루미늄 합금의 플라즈마 전해산화 피막의 형성 거동에 미치는 영향을 직류 및 펄스전류를 사용하여 연구하였다. NaOH 및 $Na_2SiO_3$가 혼합된 전해액에서 직류 전류 밀도, 전압, 펄스폭을 달리하여 알루미늄 합금에 전류를 인가할 때 발생되는 아크의 거동, 형성된 산화 피막의 두께, 거칠기, 경도, 표면 및 단면 구조를 비교 분석하였다.

  • PDF

A Study on Starch in Paper Process (제지의 전분처리에 관한 고찰)

  • SeiWoongOh
    • Journal of the Korean Graphic Arts Communication Society
    • /
    • v.7 no.1
    • /
    • pp.5-15
    • /
    • 1989
  • 제지공정에서 전분의 처리에 대하여 고찰하였다. 고찰결과 표면처리제와 안료 coating 제에는 습윤강도가 높고 침투성이 좋은 산화전분, 효소변성전분이 이용되고, 내부첨가제는 전분, ${\alpha}-전분$, 산화전분, cation 전분등이 이용되고 있으나 cellulose와 전분유출을 막아 폐수처리가 용이하며 종이의 강도, 인쇄적성을 위해 cation 전분을 PVA와 함께 처리한다.

  • PDF

A Study on the Regeneration of Ni Catalyst for Hydrogenation(II) (수소첨가반응용 니켈 폐촉매의 활성재생에 관한 연구 (II))

  • Kim, Jung-Hun;Lee, Gun-Dae;Lee, Ho-In
    • Applied Chemistry for Engineering
    • /
    • v.2 no.1
    • /
    • pp.47-55
    • /
    • 1991
  • Regeneration of carbon-deposited Ni catalyst used for hydrogenation reaction was studied. Deposited carbon was removed by oxidation with various concentrations of oxygen. Activity of the catalysts was tested on aniline hydrogenation as a model reaction. When a carbon-deposited catalyst was treated under oxygen atmosphere, the specific surface area of the catalyst increased and then decreased with the increase of treatment temperature. The treatment temperature which gives maximum specific surface area increased with the decrease of oxygen concentration. Pore size of the support was decreased and sintering of nickel particles was more significant with the increase of oxygen concentration. The catalyst treated under 5 % oxygen concentration recovered its catalytic activity up to 90 % of the initial value, but the treatment under 20 % oxygen concentration gave no significant increase of the catalytic activity. Catalytic activity increased with treatment time when the catalyst was treated under 5 % oxygen concentration, but nearly constant after 1 hour.

  • PDF

Antibrowning Effects of Electrolyzed Oxidizing Water with/without Freezing Point Depressing Agents on Peeled Chestnut during Storage (빙점강하제 첨가 전해산화수에 의한 깐밤의 저장 중 갈변억제 효과)

  • 정진웅;이선민;김은미;김종훈;김명호
    • Food Science and Preservation
    • /
    • v.8 no.4
    • /
    • pp.385-392
    • /
    • 2001
  • This study was to investigate the inhibiting effect of electrolyzed oxidizing (EO) water with/without freezing point depressing agents on polyphenol oxidase (PPO) activity of peeled chestnut. 0.85% sodium chloride, 0.5% citron and 0.5% lemon juice were used to freezing point depressing agents. The content of total phenolics was 13.36 mg% at the earlier stage of storage, and then suddenly increased at around 8∼1ldays. At the 11th day, PPO activity of untreated chestnut was 1,152 units, that was higher than any ethers. EO water adding lemon and citron juice showed synergistic effects on the enzyme inhibition, and their PPD activities were 143.3 and 180.22 units after 4 weeks, respectively. Sensory analysis showed that acceptance of peeled chestnuts was dependent on color and taste, which was related to PPO activity and sweetness. The peeled chestnut treated with EO water added citron or lemon juice tended to show the highest score fur acceptance.

  • PDF

플라즈마 전해 산화 공정을 이용한 대면적 6061 알루미늄 합금의 표면 산화막 형성

  • Kim, Seong-Cheol;Yun, Sang-Hui;Seong, Gi-Hun;Gang, Du-Hong;Min, Gwan-Sik;Cha, Deok-Jun;Kim, Jin-Tae;Yun, Ju-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2012.08a
    • /
    • pp.217-217
    • /
    • 2012
  • 플라즈마 전해산화(Plasma Electrolytic Oxidation)는 수용액 중에서 Al, Mg, Ti 등의 금속표면에 산화막을 형성시키는 기술로서, 기존의 양극산화법과 유사한 장치에서 고전압을 가해 미세플라즈마 방전을 유도하여 치밀한 산화막을 형성하는 표면처리 기술이다. 본 연구에서는 6061 알루미늄 합금의 대면적 시편을 이용하여 PEO공정으로 산화막을 형성시켰다. 산화막의 조성 및 미세구조는 XRD와 SEM, EDS를 이용하여 분석하였다. 형성된 산화막은 회색에서 밝은 회색으로 시편 전면에 고르게 나타났다. 피막 성장인자를 정교하게 조절함으로써 강한 피막 접착력과 낮은 표면조도를 가지는 매끈한 표면을 얻을 수 있었고, 그에 따른 물성 변화를 분석하였다. 또한 시편의 크기에 관계없이 동일한 조건에서 동일한 물성이 나오는 것으로 분석되었다. 이를 통해 균질한 대면적 피막의 높은 신뢰성을 요구하는 다양한 산업분야에 적합한 표면처리 방법으로서 PEO공정이 활용될 수 있음을 확인하였다.

  • PDF

알루미늄 양극산화 피막의 색조에 미치는 전해 인자의 영향

  • Choe, In-Cheol;Jo, Hyo-Jae;Son, In-Jun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
    • /
    • 2017.05a
    • /
    • pp.131-131
    • /
    • 2017
  • 알루미늄은 내식성, 내마모성과 같은 물리적, 화학적 성질이 우수하지 못하여 이를 향상시키기 위해서 양극산화법이 산업적으로 널리 사용되고 있다. 알루미늄 양극산화법을 적용하면 강도, 내마모성 및 내식성이 향상될 뿐만 아니라 알루미늄 표면에 규칙적으로 배열된 30nm~100nm 크기의 pore에 염료를 흡착시켜 다양한 색상의 외관을 가지는 양극산화피막을 형성시킬 수 있다. Pore간의 간격은 수십nm~수백nm 정도이며, pore의 크기와 간격 및 깊이는 양극산화조건(양극산화 전압, 전해액의 종류와 농도 및 온도)에 의해 크게 변화된다. 또한 염료의 농도와 착색 시간에 따라서 양극산화 피막의 색조가 변화되는 것으로 알려져 있다. 따라서 본 연구에서는 양극산화피막의 색조에 미치는 전해조건의 영향을 조사하고, 분광측색계를 사용하여 산화피막의 색조를 정량적으로 분석하고 또한 산화피막의 pore에 흡착된 염료를 정량분석하기 위해서 UV-visible을 사용하여 분석하였다. Al5052 합금을 이용하여 에칭, 양극산화, 착색처리, 봉공(sealing)처리를 실시하였다. $55^{\circ}C$ 100g/L NaOH 용액에서 에칭을, $25^{\circ}C$ 10 vol.% $HNO_3$ 용액에서 디스머트를 실시한 다음, $25^{\circ}C$ 10 vol.% $H_2(SO_4)$ 용액에서 15V의 정전압으로 양극산화를 실시하였다. 이후, $55^{\circ}C$ 5~8g/L의 오렌지, 블랙 착색염료(일본 OKUNO 사(社)의 TAC-LH(301), TAC-BLH(411))를 사용하여 착색처리를, $85^{\circ}C$ 초산니켈 수용액에서 봉공처리를 실시하였다. 착색조건으로는 양극산화 시간(5분, 10분, 15분, 20분), 착색 시간(15초, 1분, 2분, 5분) 및 착색 농도(오렌지 -2.5g/L, 5g/L, 7.5g/L, 블랙 - 4g/L, 8g/L, 12g/L)를 변화시켰으며, 산화피막의 색조를 정량 분석하기 위해 분광측색계를 사용하였고 흡착된 염료의 농도를 정량 분석하기 위해서 $55^{\circ}C$, 1M NaOH에 재용해하여 UV-visible로 흡광도를 측정하였다. 양극산화피막의 색조는 양극산화 시간이 길어질수록, 착색시간이 길어질수록, 착색농도가 진할수록 산화피막에 흡착되는 염료의 양이 증가하며 색조가 더 선명해지고 진해지는 것을 확인하였다. 이를 분광측색계로 분석하였을 때 각 전해조건하에서 경향성을 나타내었다. 또한 흡광도 측정을 통해 계산한 염료의 양과 전해조건의 상관관계를 조사하였다. 양극산화 시간이 길어지면 산화피막의 두께가 증가하여 염료가 흡착될 수 있는 표면적이 넓어지고, 착색 시간이 길어지면 동일한 산화피막에 더 많은 염료가 흡착이 된다. 그리고 착색 농도가 진할수록 동일면적, 동일시간 하에서 더 많은 염료가 흡착되어 결과적으로 전해조건이 강해질수록 산화피막의 색조가 진해지는 것으로 판단된다.

  • PDF

Study on Plasma Treatment of electrode for CCFL (CCFL 전극의 플라즈마 처리에 관한 연구)

  • Park, Hyun-Sik
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
    • /
    • v.12 no.3
    • /
    • pp.1308-1312
    • /
    • 2011
  • CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp)for BLU of LCD and special lighting has been widely utilized. The removal of oxide film formed on electrode of CCFL in manufacturing process is required. In this pape Plasma treatment was carried out to remove the oxide film. To ensure the optimum process, the analysis of sheet resistance, XRD, AFM and solder test was conducted. A minimum sheet resistance and the maximum percentage of the solder coverage ratio were measured in optimal process conditions such as plasma power consumption 600W and processing time of 70 seconds. As the plasma treatment is confirmed to be due to removal of copper oxide, this process is expected to be used as a treatment of electrode for CCFL.

UV/ozone Cleaning Processes for Organic Films on Si Studied by in-line XPS and AFM (in-line XPS와 AFM을 이용한 유기물의 UV/ozone 건식세정과정 연구)

  • 이경우;황병철;손동수;천희곤;김경중;문대원;안강호
    • Journal of the Korean Vacuum Society
    • /
    • v.4 no.3
    • /
    • pp.261-269
    • /
    • 1995
  • 본 실험에서는 실리콘 웨이퍼 위에 photoresist(PR)와 octadecyltrichlorosilane(OST, CH3((CH2)17SiCI3)를 입혀서 UV/zone 처리를 어떻게 유기물질들이 UV/zone과 반응하여, 어떻게 표면에서 제거되는지를 in-line으로 연결된 XPS로 분석하고 반응시킨 표면들의 거칠기(roughness)를 AFM을 이용하여 관찰하였다. 실험결과 상온에서 UV/zone 처리를 했을 경우, PR과 OTS같은 유기물질이 표면에서 산화되는 것을 알 수 있었으나 이들이 제거되지 않고 표면에 그대로 남아있음을 알 수 있었다. 그러나 가열하면서(PR:$250^{\circ}C$, ORS:$100^{\circ}C$)UV/ozone 처리를 하였을 경우 표면에서 산화됨과 동시에 이들 산화물들이 표면에서 제거됨을 알 수 있었다. XPS 분석으로부터 이들의 산화반응물은 PR과 OTS 모두 -CH2-, -CH2O-, =C=O, -COO-를 가지는 것으로 나타났으며, 열에너지에 의해서 이들이 표면에서 제거되는 것으로 나타났다. AFM 분석결과는 상온에서 UV/ozone 처리를 하였을 경우에 표면의 거칠기가 적은 반면, 가열하면서 UV/o-zone처리를 하였을 경우에는 표면의 거칠기가 다소 증가하였다.

  • PDF

The Effect of Powder Oxidation on the Thermoelectric Properties of β-FeSi2 (β-FeSi2의 열전변환특성에 미치는 분말산화의 영향)

  • ;Kunihito Koumoto
    • Journal of the Korean Ceramic Society
    • /
    • v.40 no.11
    • /
    • pp.1106-1112
    • /
    • 2003
  • For the purpose of making clear the role of oxygen in the thermoelectric properties of FeSi$_2$, thermoelectric measurements and spectroscopic characterization were conducted for the oxidized specimens fabricated from ($\alpha$+$\varepsilon$)-phases and/or $\beta$-phase. Addition of oxygen to FeSi$_2$ prevented both densification during sintering and transformation from metallic phases to semiconducting phase during annealing treatment. In an specimens, electrical conductivity and thermal conductivity decreased with oxidation time. The Seebeck coefficient was positive and small for pure FeSi$_2$. And/or the oxidized specimens fabricated from ($\alpha$+$\varepsilon$)-phases. However, it was negative and showed a maximum peak at about 500 K for the oxidized FeSi$_2$ fabricated from $\beta$-phase. The value of maximum peak increased with oxidation time.