• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.08a
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• pp.283-283
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• 2011

본 연구에서는 XRR 측정에 있어 박막두께 표준보급을 하기 위하여 표준물질을 이온빔 스퍼터링 증착법을 이용하여 제작하였다. 시편제작 시 공기 중 노출에 의해 산화가 되지 않는 산화물 박막과 산화물 기판을 선택하였다. 기판 및 타겟물질 등을 변화시키면서 제작된 시편의 특성을 살펴보았다. 사용된 타겟 물질로는 HfO2, Ta2O5, Cr2O3를 사용하였으며, 기판으로는 glass, sapphire, quartz, SiO2(1 ${\mu}m$-thermal oxidation)를 사용하였다. 산화물 타겟을 사용하여 증착 시 타겟 주위로 생기는 전하들의 charge build-up 되는 현상은 neutralizer를 사용함으로써 문제를 해결하였다. 제작된 시편은 XRR을 이용하여 측정하였고, XRR simulation과 curve fitting을 통하여 박막의 두께, 표면 및 계면의 거칠기, 밀도를 평가하였다. 기판으로 사용된 glass, quartz는 타겟 물질과 관계없이 표면 거칠기가 좋지 않아 XRR 반사율이 급격히 떨어지면서 측정되는 각도의 영역이 작아졌다. sapphire로 제작한 시편에서는 측정된 데이터와 simulation의 curve fitting이 양호하지 않았다. 이 문제는 현재 조사중에 있다. SiO2 기판으로 제작한 시편의 경우 타겟 물질과 관계없이 XRR curve fitting 결과가 양호 하였다. 그 중 Cr2O3의 결과가 다른 타겟 물질에 비해 x 2 값이 작았고 반사율 곡선에서의 거칠기와 진폭도 양호하였다. 위 연구결과로써 SiO2 기판을 사용한 Cr2O3 타겟 물질로 제작된 시편이 XRR 박막 두께 표준물질로써 적합한 것으로 판단된다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.02a
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• pp.141-141
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• 2012

X-선 반사율 측정법(XRR)은 비파괴적인 측정방법과 수 nm의 두께를 정밀하게 측정할 수 있는 장점으로 인하여 반도체 산업현장에서 많은 관심과 연구가 이루어지고 있다. 이러한 XRR은 두께 분석 측정의 정밀도를 향상시키고 부정확한 결과를 방지하기 위하여 측정기기를 검증하고 보정할 수 있는 두께 표준물질을 필요로 하고 있다. 본 연구에서는 XRR용 두께 표준물질을 이온빔 스퍼터링 증착방법을 이용하여 제작하였다. 두께 표준물질 제작에 있어 공기 중 노출에 의해 산화가 되지 않는 산화물 박막과 산화물 기판을 선택하였다. 후보물질은 glass, sapphire, quartz, SiO2기판과 HfO2, Ta2O5, Cr2O3 산화물 타켓을 이용하여 박막을 제작하였다. 제작된 후 보물질은 교정된 XRR을 통하여 박막의 두께, 계면 및 표면 거칠기, 밀도등 박막의 구조특성분석을 하였다. Glass, quartz의 경우 기판 표면 거칠기가 좋지 않아 제작된 샘플의 X-선 반사율 곡선이 급격히 떨어지면서 측정되는 각도의 영역이 작아졌다. Sapphire로 제작한 시편은 측정된 데이터와 simulation의 curve fitting이 양호하지 않았다. 이 중 SiO2기판을 사용하고 HfO2박막을 증착한 샘플이 다른 후보물질보다 XRR curve fitting 결과가 가장 양호하여 두께 표준물질로 응용하기에 적절하였다. 그리고 AFM (Atomic Force MicroScope)을 이용하여 기판의 거칠기 및 증착한 박막표면 거칠기 측정을 하였고, TEM (Transmission Electron Microscope)으로 두께 측정을 하여 XRR로 얻은 데이터와 비교하였다. 이러한 결과를 토대로 XRR용 두께 표준물질 제작할 수 있었고, 추후 불확도 평가 및 비교실험을 통하여 제작된 XRR용 두께 표준물질을 이용할 수 있을 것으로 기대된다.

• Proceedings of the Korean Radioactive Waste Society Conference
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• 2003.11a
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• pp.78-82
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• 2003

For the decomposition of laundry wastewater containing Fe-EDTA produced from the steam generators in nuclear power plants, Supercritical Water Oxidation (SCWO) Process, Photocatalytic Oxidation (PO) Process, and Dielectric Barrier Discharge (DBD) Atmospheric Pressure Plasma Process were evaluated. Even though EDTA was converted over 99.98 % by the SCWO process, it was estimated that the countermeasure against corrosion of the equipment should be reinforced for the process stability. It was considered that the PO process is not appropriate for the decomposition of high concentrated laundry wastewater since the conversion ratio of EDTA was around 10 %. Finally, High efficiency of the decomposition of organic matter (methylene blue) was obtained using DBD process even low energy was supplied. However there is still room for the evaluation of EDTA decomposition in order that the DBD process should be applied for the field samples.

• Journal of the Korean Chemical Society
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• v.37 no.4
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• pp.416-422
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• 1993

As a result of adsorbing phthalocyanine (metal free, ${\alpha}\;and\;{\beta}$-Cu) on zinc oxide in aqueous solution using nonionic surfactant, all of the added dye was adsorbed and Na salt of sulfonated phthalocyanine showed the Langmuir monolayer adsorption. To analyze the effect of adsorption on zinc oxide, photovoltage was measured using surface photovoltmeter. The high photovoltaic effect was observed at intrinsic wavelength of zinc oxide and wavelength of adsorbed phthalocyanine dye. Metal free phthalocyanine, ${\alpha}$-copper phthalocyanine and ${\beta}$-copper phthalocyanine showed the highest photovoltaic effect when the percentage of coverage (${\theta}_{BET}$) for zinc oxide is about 80, while sulfonated phthalocyanine showed the highest photovoltaic effect when the percentage of coverage for zinc oxide is about 30.

• Microbiology and Biotechnology Letters
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• v.34 no.3
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• pp.257-264
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• 2006

An aerobic submerged membrane bioreactor (MBR) treating ammonium wastewater was studied in respect of nitrification characteristics and distribution of nitrification bacteria over a period of 350 days. MBR was fed with ammonium concentration of 500-1000 mg $NH_4-N/L$ at a nitrogen load of $1-2kg\;N/m^3{\cdot}d$. Overall ammonium oxidation rate increased with dissolved oxygen (DO) concentration, temperature, and sludge retention time (SRT). Under a higher concentration of free ammonia ($NH_3-N$) due to the decrease of ammonium oxidation rate, the nitrite ratio ($NO_2-N/NO_x-N$) in the effluent increased. The sudden collapse of nitrification efficiency accompanied by sludge foaming and the increase of sludge volume index (SVI) was observed unexpectedly during the operation. At the later stage of operation, additional carbon source was fed to the MBR and resulted in twice higher value of SVI and the decrease of ammonium oxidation rate. In fluorescence in situ hybridization (FISH) analysis, genus Nitrosomonas which is specifically hybridized with probe NSM156 was initially the dominant ammonia oxidizing bacteria and the amount of Nitrosospira gradually increased. Nitrospira was the dominant nitrite oxidizing bacteria during whole operational period. Significant amount of Nitrobacter was also detected which might due to the high concentration of nitrite maintained in the reactor.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 1999.07a
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• pp.159-159
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• 1999

니켈 산화물 박막을 전자비임 증착법으로 기판온도는 RT~25$0^{\circ}C$의 범위에서 제작하였다. 제작시 초기 베이스 압력은 2$\times$10-6mbar로 하고 산소주입후 작업진공도를 3$\times$10-4mbar로 유지하여 증착하였다. 제작시 기판온도에 따라 제작된 시료들은 각각 X선회절장치(XRD)로 막의 구조과 그림과 같이 입방체 구조 또는 팔면체구조를 갖음을 알 수 있었으며 막의 표면형상은 SEM을 이용하여 분석하였다. 각각의 여러 기판온도에 따라 제작된 니켈 산화물 박막의 전기 화학적인 특성을 분석하기 위해 순환전압전류법을 이용하였다. 또한, 전기적인 광학소자로써의 특성을 분석하기 위해 UV-Vis 광분광기를 사용하여 투과율을 측정하여 그 특성을 알아보았다. 순환전압전류법에 의한 각 시료에 대한 박막의 전기화학적 특성은 0.5M KOH 전해질 수용액에서 기판온도가 150~20$0^{\circ}C$로 제작된 니켈 산화물 박막이 다른 온도에서 제작된 시료들보다 높은 전기화학적 안정성을 보임을 알 수 있었다. 마찬가지로 광학적 특성에서 착색과 탈색의 순환과정시 분광광도계에서 나타나는 광투과율을 비교해 보면 100~20$0^{\circ}C$에서 제작된 니켈 산화물 박막이 가역적인 착탈색의 색변화가 현저하게 나타남을 알 수 있었다. 결과적으로 광학적 특성 및 전기화학적 안정성 분석으로 인해 막의수명과 전기적착색 물질의 특성면에서 증착시 기판온도가 150~20$0^{\circ}C$에서 제작된 시료가 가장 내구성면에서 막의 이온 누적이 적고 활성적인 광투과율의 성질을 갖는다는 것이다. 이와같이 니켈산화물 박막제작시 기판온도가 전기적착색물질의 특성과 내구성에 큰 영향을 미침을 분석할 수 있었다.electron Microscopy)과 AFM(Atomim Force microscopy)으로 증착박 표면의 topology와 roughness를 관찰하였다. grain의 크기는 10nm에서 150nm이었고 증착막의 roughness는 4.2nm이었다. 그리고 이 산화막에 전극을 형성하여 유전 상수와 손실률 등을 측정하였다. 이와 같이 plasma를 이용한 3-beam에 의한 증착은 금속의 산화막을 얻는데 유용한 기술로 광학 재료 및 유전 재료의 개발 및 연구에 많이 사용될 것으로 기대된다.소분압 조건에서 RuO2의 형성을 관찰하였으며, 이것은 열역학적인 계산을 통해서 잘 설명할 수 있었다.0$\mu\textrm{m}$, 코일간의 간격은 100$\mu\textrm{m}$였다. 제조된 박막 인덕터는 5MHz에서 1.0$\mu$H의 인덕턴스를 나타내었으며 dc current dervability는 100mA까지 유지되었다. CeO2 박막과 Si 사이의 결함때문이라고 사료된다.phology 관찰결과 Ge 함량이 높은 박막의 입계가 다결정 Si의 입계에 비해 훨씬 큰 것으로 나타났으며 근 값도 증가하는 것으로 나타났다. 포유동물 세포에 유전자 발현벡터로써 사용할 수 있음으로 post-genomics시대에 다양한 종류의 단백질 기능연구에 맡은 도움이 되리라 기대한다.다양한 기능을 가진 신소재 제조에 있다. 또한 경제적인 측면에서도 고부가 가치의 제품 개발에 따른 새로운 수요 창출과 수익률 향상, 기존의 기능성 안료를 나노(nano)화하여 나노 입자를 제조, 기존의 기능성 안료에 대한 비용 절감 효과등을 유도 할 수 있다. 역시 기술적인 측면에서도 특수소재 개발에 있어 최적의 나노 입자 제어기술 개발 및 나노입자를 기능성 소재로 사용하여 새로운 제품의 제조와 고압 기상 분사기술의 최적

• Applied Chemistry for Engineering
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• v.20 no.5
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• pp.486-492
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• 2009

Wet oxidations (WO) of quinoline in aqueous solution were carried out at $225^{\circ}C$ and $250^{\circ}C$. In the WO at $250^{\circ}C$, quinoline was degraded completely within 30 min and the reduction in total organic carbon (TOC) of 63% was achieved during 120 min. However, the rate of the reduction in TOC was only 13% within 240 min during the WO at $225^{\circ}C$. Nicotinic and acetic acid were found to be main intermediates formed during the oxidation of quinoline. With the addition of the homogeneous catalyst $CuSO_4$ or more easily oxidizable phenol, WOs of quinoline were also carried out under moderate conditions at $200^{\circ}C$. The catalytic WO with $CuSO_4$ of 0.20 g/L showed the destruction rates of quinoline and TOC comparable to those in the WO at $250^{\circ}C$. The WOs of quinoline-phenol mixture exhibited induction periods to degrade quinoline and phenol during which free radicals were produced to initiate WOs. With increasing initial concentrations of phenol at a given initial concentration of quinoline, the induction periods in the destructions of quinoline and phenol became shorter and the reduction in TOC increased from 60% to 75% during 180 min of the WOs. The reduction rate of an induction period decreased as increasing the initial concentration ratio of phenol to quinoline. On the other hand, phenol degradation in the WOs of quinoline-phenol mixtures required a longer induction period and proceeded slower compared to the case of the WO of phenol.

• Journal of Energy Engineering
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• v.8 no.1
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• pp.150-158
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• 1999

본 연구는 저온플라즈마를 이용하여 배기가스중의 SOx와 NOx를 동시에 처리하는 공정을 개발하는 것으로서, 최적의 반응제 선정과 효율적인 공정의 구성을 위해 SOx, NOx와 반응제와 반응기구를 밝히고자 하였다. 실험은 1.0 N㎥/h의 모사가스를 이용한 기초실험과 20 N㎥/h의 실제 연소가스를 이용한 실험으로 진행되었으며, 반응제로는 NH3와 파리핀계 및 올레핀계 탄화수소를 사용하였다. NH3를 반응제로 한 SO2 제거반응은 비플라즈마 조건에서는 NH4HSO3, 플라즈마 조건에서는 (NH4)2SO4의 생성반응이었고, 두 조건 모두 높은 제거율을 나타냈다. 반응제를 사용하지 않은 플라즈마 조건에서 SO2는 환원반응이 일어나고 O2 농도의 증가는 역반응을 증가시키는 화학평형에 의해 SO2의 제거율이 감소되었다. 플라즈마 조건에서 NO는 O2농도가 낮은 경우는 NO의 환원반응이 주로 일어나고, O2 농도가 높을 경우는 산화반응이 지배적이었다. 올레핀계 탄화수소는 플라즈마 조건에서 NO 산화 반응에 탁월한 효과를 보였을 뿐만 아니라 SO2 제거에도 효과를 보여 최대 40%의 제거율을 나타냈으며, NH3의 사용을 줄일 수 있음을 확인하였다.

• Journal of Biosystems Engineering
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• v.21 no.1
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• pp.10-20
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• 1996

관개방제 기술의 변수 및 효력예측을 위한 컴퓨터 시뮬레이션 프로그램이 유화/산화액적의 부착율, 유충의 추계적 난보운동 및 무작위 농약흡수 이론을 이용하여 개발되었다. 시뮬레이션 결과는 밤나방 유충, Spodaptera frugiperda (J.E. Smith) (Lepidoptera : Noctuidae)을 이용한 방제효력 실험결과와 비교하였다. 이론치와 실험치는 서로 일치되었다. 방제율은 농약유효성분량이 증가함에 따라 증가하였으며 크로포(chlorpyrifos) 약제의 표준 권고량인 670g[AI]/ha에서 완전방제가 예상되었다. 유화액적(emulsion)은 상대적으로 직경이 큰 산화액적(dispersion) 보다 작물잎 표면에 부착이 어려워 낮은 방제율을 나타내었다. 액적직경이 방제효력에 미치는 영향은 목화작물에 대하여 낮은 약제량에서 뚜렷하게 나타났고, 그 영향은 약제량이 증가할수록 목화 및 옥수수 모두에서 저하되었다. 엽형계수는 작물의 엽상구조에 따른 액적의 부착 및 계류에 미치는 영향을 의미한다. 고찰된 관계방제기술의 영향요소에 대한 이해는 농약사용의 감소 및 효력의 증가에 중요한 역할을 한다.

• Proceedings of the Korean Institute of Resources Recycling Conference
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• 2005.10a
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• pp.266-270
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• 2005

본 연구는 Ta, Nb, Zr, 및 희토류 등을 복합적으로 함유한 복합광을 대상으로 사염화탄소에 의한 염화반응을 알아보기 위한 기초연구로서 각 산화물의 염화반응 특성을 알아보고 이를 토대로 복합광의 염화반응을 비교하여 보았다. 실험결과 산화물 상태의 Nb, Ta 및 Zr은 비교적 낮은 온도에서 염화반응이 일어나고 염화물이 휘발됨을 알 수 있었다. 복합광을 반응 온도 $400^{\circ}C,\;CCl_4$ 분압 0.28 일때 반응시간이 10분에서 60분으로 변함에 따라 니오븀 및 탄탈륨은 $91%{\sim}99%$의 높은 회수율을 나타내었으나 지르코늄은 각각 16.5%에서 27.5%로 약간 증가하는 경향을 나타내었다. 희토류의 경우 세륨은 반응율이 71.7에서 73% 정도였고 란타늄은 51%에서 54% 정도의 반응율을 나타내었다.