아미노산의 광학 이성질체를 분리하는 방법을 확립하고 식품이나 생체에 있는 광학이성질체를 분리 정량하여 영양학이나 생화학적 관계를 연구한다. 필수아미노산 20종을 포함하여 총 38종의 d, l-from 아미노산을 검색 대상으로 삼았다. 단백질은 한국산 콩, 된장, 고추장, 간장, 분유 및 환자의 백내장을 시료로 하여 산 가수분해 후 esterification과 acylation으로 TFA-IPA 유도체를 만들어 chirasil val GLC column을 사용하여 분리하였다. 이성질화가 일어나는 아미노산은 alanine, aspartic acid, glutamic acid, phenyl alanine으로 식물성 시료인 된장에서는 d-alanine이 검출되었으나 동물성 시료인 백내장과 분유에서는 검출되지 않았다. 연령추정 등 생리적으로 이용이 가장 적적한 것은 분리능과 함량을 비교했을 때 aspartic acid였다. d-from 아미노산의 분율은 가정용 된장이 3~6, 시판용 된장이 약 3%, 간장이 2~4%, 콩이 약 1%, 백내장 시료에서 1~2%, 분유에서 1.0~1.5%로 검출되었으며, 숙성 발효시 광학이성질체의 변환이 현저함을 알 수 있다.
본 실험에서는 들기름에 약 60%로 존재하는 ${\alpha}$-linolenic acid를 알칼리 이성질화 반응을 이용하여 CLnA(conjugated linolenic acid)와 CLA(conjugated linoleic acid)를 생산하고자 하였다. 들기름을 가수분해한 뒤에 10분에서 6시간까지의 반응시간과 5%에서 60%까지의 NaOH 농도에서 CLnA와 CLA의 생성을 표준물질과 함께 GC와 spectrophotometer를 이용하여 확인하였다. 시간에 따른 CLnA와 CLA 함량 변화는 나타나지 않았으나, NaOH 농도가 증가함에 따라서 CLnA와 CLA가 유의적으로 증가하는 경향을 보였다. 반응조건 중, 20% KOH, $180^{\circ}C$, 1시간 반응에서 14.5%와 14%의 CLnA와 CLA의 함량을 나타냈으며, 42.2%의 C18:3 conjugated 이성질체가 생성되었다. 이성질체를 확인하기 위해 GC-MS 그리고 FT-IR을 이용한 실험을 수행하였다. GC-MS의 ion peak 분석 결과, conjugated 형태에서만 특징적으로 나타나는 m/z=91 ion peak를 확인할 수 있었고, CLA와 CLnA의 분자량이 C18:2와 C18:3과 일치하는 것을 확인할 수 있었다. 그리고 NIST Library에서 검색된 methyl 9c, 11t-CLA, methyl 10t, 12c-CLA와 methyl 9cis, 11trans, 13trans-octadecatrienoate의 결과와 일치하는 ion peak를 형성하였다. 이 외의 이성질체는 FT-IR 분석 결과, 높은 trans fatty acid 함량을 보여 알칼리 이성질화 반응 시, $180^{\circ}C$의 높은 열에 반응을 하여 trans 형태의 conjugated form이 다량 생성된 것으로 사료된다. conjugated 이성질체의 생성 양을 높이기 위해 들기름 가수분해물을 우레아 분별을 한 뒤에, ${\alpha}$-linolenic acid의 함량을 70%까지 높인 뒤에 알칼리 이성질화 반응을 수행한 결과 CLnA의 생성 양이 16.6%까지 증가한 것을 확인할 수 있었다. 그러나 CLnA 이외의 conjugated 지방산 함량의 변화는 없었다.
본(本) 실험(實驗)은 리기다소나무(Pinus rigida Mill)를 petroleum ether로 추출(抽出)한 추출액(抽出被)과 흑액(黑液)으로부터 얻은 tall oil과의 조성(組成)의 변화(變化)를 조사(調査)하기 위하여 실시(實施)하였다. 생재(生材)의 유기용매(有機溶媒) 추출액(抽出液)과 tall oil 을 DEAE-Sephadex 칼럼과 aluminum oxide 칼럼을 사용하여 수지산(樹脂酸)과 지방산(脂肪酸)으로 분리(分離)한 후 이를 개스크로마토 그래프로 분석(分析)하였다. 본(本) 실험(實驗)에서 얻는 결과(結果)는 다음과 같다. 생재(生材)의 유기용매(有機溶媒) 추출액(抽出液힘)과 tail oil은 주로 수지산(樹脂酸)으로 구성(構成)되어 있고 특히 abietic-type acide의 함량(含量)이 매우 높게 나타났으며, tall oil의 조성(組成)은 생재(生材)의 유기용매(有機溶媒) 추출물(抽出物)에 비(比)해 지방산(脂肪酸)의 함량(含量)이 증가(增加)한 반면 수지산(樹脂酸)은 감소(減少)하였고, 증해시(蒸解時) 고온(高溫)과 증해약품(蒸解藥品)에 의하여 불포화(不飽和) 지방산(脂肪酸)의 이중결합(二重結合) 위치(位置)의 변화(變化) 및 이성질화(異性質化)에 의하여 미확인(未確認) 물질(物質)의 양(量)이 증가(增加)하였다.
We carried out this subject to observe photoisomerization using 1,2-dioleoyl-sn- glycero-3-phosphocholine(DOPC) mixed with fatty acid containing azobenzene group which has reversible to cis-trans by light irradiation. Spreading solutions for the LB films were prepared in chloroform($5.0{\times}10^{-5}$mol/L).We investigated the photoisomerization and property of the organic ultra thin film of fatty acid containing azobenzene was prepared on the hydrophilic ITO(idium tin oxide) glass plate by LB method. As a result, the absorption spectra of 8A5H and DOPC of mixture LB films was induced to photoisomerization by alternating irradiation of ultraviolet and visible light, because the condensation of pure azobenzene monolayers was loosened by the introduction of phospholipid into the monolayers, and the molecular high aggregation in pure azobenzene monolayers is also weakened by the introduction of phospholipid. We found that it was reversibly induced to cis-trans photoisomerization in several solvents and mixture LB films.
We carried out this subject to observe electrochemical properties of 1,2-dioleoyl-sn- glycero-3-phosphocholine(DOPC) mixed with fatty acid containing azobenzene group by using cyclic voltammetry with a three-electrode system, An Ag/AgCl reference electrode, a platinum wire counter electrode and LB film-coated ITO working electrode in $NaClO_4$ solution. We investigated the photoisomerization and electrochemical property of the organic ultra thin film of fatty acid containing azobenzene was prepared on the hydrophilic ITO(idium tin oxide) glass plate by LB method. As a result, the absorption spectra of BASH and DOPC of mixture LB films was induced to photoisomerization by alternating irradiation of ultraviolet and visible light. A measuring range was reduced from initial potential to -1350mV, continuously oxidized to 1650 mV and measured to the initial point. The scan rate were 50, 100, 150 and 200 mV/s. As a results, LB films of BASH-DMPC appeared reversible process caused by the reduction-oxidation current from the cyclic voltammogram.
비휘발성 메모리는 전원이 공급되지 않아도 저장된 정보를 계속 유지하는 메모리로써 현재 다양한 차세대 전자소자의 집적화 구현을 위해 저전압 동작 및 저장능력의 향상 등에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 이때 삽입되는 전하저장층의 경우 기존 널리 이용되는 질화막(SiNx) 외에 최근에는 산화 알루미늄(Al2O3) 등의 고유전상수 물질 뿐만 아니라, 밴드갭 조절을 통해 전하저장능력을 향상시키는 산화막(SiOx)에 대한 연구도 진행 중이다. 이번 연구에서는 전하저장능력을 향상시키기 위해 전하저장층으로 산화막을 이용할 뿐만 아니라, 기존의 평편한 구조가 아닌 표면 조절을 통해 전하저장능력을 보다 향상시키고자 한다. 또한 이번 연구에서는 비휘발성 메모리 소자의 응용을 위해 우선적으로 금속-절연체-반도체 형태의 MOOxOyS 구조를 이용하였다. 이 때 실리콘 표면적을 변화시키기 위해 이용된 실리콘 웨이퍼는 1) 평편한 실리콘, 2) 수산화암모늄, 이소프로필 알코올 및 탈이온수를 혼합한 용액에 식각시킨 삼각형 구조, 3) 불산, 질산 및 아세트산을 혼합한 용액에 식각시킨 라운드 구조이다. 정전용량-전압 측정을 통해 얻어진 메모리 윈도우는 1) 평편한 실리콘의 경우 약 5.1 V, 2) 삼각형 구조의 경우 약 5.3 V, 3) 라운드 구조의 경우 약 5.9 V를 얻었다. 이 때, 라운드 구조의 경우 가장 넓은 표면적으로 인해 상대적으로 전하트랩이 가장 많이 되어 메모리 윈도우가 가장 커지는 특성을 볼 수 있었다.
Plasma nitrocarburising and post oxidation were performed on SCM435 steel by a pulsed plasma ion nitriding system. Plasma oxidation resulted in the formation of a very thin ferritic oxide layer 1-2 $\mu\textrm{m}$ thick on top of a 15~25 $\mu\textrm{m}$$\varepsilon$-F $e_{2-3}$(N,C) nitrocarburized compound layer. The growth rate of oxide layer increased with the treatment temperature and time. However, the oxide layer was easily spalled from the compound layer either for both oxidation temperatures above $450^{\circ}C$, or for oxidation time more than 2 hrs at oxidation temperature $400^{\circ}C$. It was confirmed that the relative amount of $Fe_2$$O_3$, compared with $e_3$$O_4$, increased rapidly with the oxidation temperature. The amounts of ${\gamma}$'-$Fe_4$(N,C) and $\theta$-$Fe_3$C, generated from dissociation from $\varepsilon$-$Fe_{2-3}$ /(N,C) phase during $O_2$ plasma sputtering, were also increased with the oxidation temperature.e.
Nitriding or carburizing of carbon steels results in good mechanical properties such as high surface hardness and wear resistance but it has no affection on the corrosion resistance. Corrosion properties of nitriding and carburizing steels could be deteriorated. So, recently, there have been great demand for oxi-nitriding to enhance both mechanical properties and corrosion resistance. In this study, the corrosion resistance of carbon steel, S35C, and free cutting steel, SUM222, are prepared by vacuum nitriding and vacuum post-oxidation were compared with those treated by nitriding. After vacuum post-oxidation, $5{\mu}m$ oxide layer was formed on the nitride layer with $20{\sim}30{\mu}m$ depth. Potentio-dynamic polarization curve in corrosion test showed that the corrosion potential after post oxidation was increased from 200 mV to 800 mV in S35C and from 600 mV to 1200 mV in SUM222. SEM analyses showed that pores was increased and surface roughness became rougher with post oxidation. However, the formation of $Fe_3O_4$ resulted in the enhanced corrosion resistance of steels.
We have investigated to observe the photoisomerization using the mixture solutions in chloroform and LB monolayers mixed with DPPA and BASH containing azobenzene group which has reversible to cis-trans by light irradiation.. Spreading solutions for the LB films were Prepared in chloroform($5.0{\times}10^{-5}mol/L$). We investigated the photoisomerization and property of the organic ultra thin film of fatty acid containing azobenzene was Prepared on the glass plate by LB method. As a result, the absorption spectra of 8A5H and DPPA mixture of LB films was induced to photoisomerization by alternating irradiation of ultraviolet and visible light, because the condensation of pure azobenzene monolayers was loosened by the introduction of phospholipid into the monolayers, and the molecular high aggregation in pure azobenzene monolayers is also weakened by the introduction of phospholipid. We found that it was reversibly induced to cis-trans photoisomerization in a various mixture molar ratio.
This study aimed to address the limitations of traditional plasma nitriding methods by implementing a short-term plasma oxy-nitriding treatment on the surface of AISI 420 martensitic stainless steel. This treatment involved the sequential formation of nitride and oxide layers, to enhance surface hardness and corrosion resistance, respectively. The process resulted in the formation of a 20 ㎛-thick nitride layer and a 3 ㎛-thick oxide layer on the steel surface. Initially, the hardness increased by 2.2 times after nitriding, followed by a subsequent decrease of approximately 31 % after oxidation. While the nitriding process reduced corrosion resistance, the subsequent oxidation process led to the formation of a passive oxide film, effectively resolving this issue. The pitting corrosion of the oxide passive film started at 82.6 mVssc, providing better corrosion resistance characteristics than the nitride layer. Consequently, the trade-off between surface hardness and corrosion resistance in plasma oxy-nitrided AISI 420 martensitic stainless steel is anticipated to be recognized as an innovative and comprehensive surface treatment process for biomedical components.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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