• Title/Summary/Keyword: 산소제어

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High Density Cultivation of Methylobacillus sp. SK1 in Fed-Batch System (Methylobacillus sp. SK1의 고농도 유가배양)

  • 이형춘;이계호김시욱
    • KSBB Journal
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    • v.5 no.3
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    • pp.269-277
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    • 1990
  • Methylobacillus sp. SK1, an obligate methylotroph, was cultivated in a fed-batch culture using DO as a methanol feeding indicator with a micro computer-aided control system. While 2.07g/l of cell density was obtained after 13 hr in the batch culture (initial methanol concentration: 1.0%(v/v)),45.3g/l of cell density was obtained after 17 hr by feeding methanol and metal ions in the fed-batch culture with oxygen supply. The high-density biomass was obtained in short cultuivation time by fed-batch culture with feedback control, and consequently the biomass productivity was significantly increased. It was mainly due to extension of logarithmic growth period by methanol feeding without methanol inhibition and intensive aeration without DO limitation with microcomputer-aided control system.

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스퍼터링 공정 중 알루미늄 타겟 오염이 알루미늄 산화막 증착에 미치는 영향

  • Lee, Jin-Yeong;Gang, U-Seok;Heo, Min;Lee, Jae-Ok;Song, Yeong-Hun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.302.2-302.2
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    • 2016
  • 알루미늄 산화막 스퍼터링 공정 중 타겟이 반응성이 있는 산소와 결합하여 산화되는 타겟 오염은 증착 효율의 감소[1]와 방전기 내 아크 발생을 촉진[2]하여 이를 억제하는 방법이 연구되어 왔다. 본 연구에서는 알루미늄 산화막 증착 공정 중 타겟 오염 현상이 기판에 증착된 알루미늄 산화막 특성이 미치는 영향을 분석하였다. 실험에는 알루미늄 타겟이 설치된 6 인치 웨이퍼용 직류 마그네트론 스퍼터링 장치를 활용하였다. 위 장치에서 공정 변수 제어를 통해 타겟 오염 현상의 진행 속도를 제어하였다. 공정 중 타겟 오염 현상을 타겟 표면 알루미나 형성에 따른 전압 강하로 관찰하였고 타겟 오염에 의한 플라즈마 변화를 원자방출분광법을 통해 관찰하였다. 이 때 기판에 증착 된 알루미나 박막의 화학적 결합 특성을 XPS depth로 측정하였으며, 알루미나 박막의 두께를 TEM을 통해 측정하였다. 측정 결과 타겟 오염 발생에 의해 공정 중 인가 전압 감소와 타겟 오염에 소모된 산소 신호의 감소가 타겟 오염 정도에 따라 변동되었다. 또한 공정 중 타겟 오염 정도가 클수록 기판에 증착한 막과 실리콘 웨이퍼 사이에 산소와 실로콘 웨이퍼의 화합물인 산화규소 계면의 형성 증가됨을 확인했다. 위 현상은 타겟 오염 과정 중 발생하는 방전기 내 산소 분압 변화와 막 증착 속도 변화가 산소의 실리콘 웨이퍼로의 확산에 영향을 준 것으로 해석되었다. 위 결과를 통해 스퍼터링 공정 중 타겟 오염 현상이 기판에 증착 된 알루미나 막 및 계면에 미치는 영향을 확인하였다.

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Effect of Salinity on Dissolved Oxygen Characteristics in an Ejector-Aerator (이젝터-폭기 시스템의 용존산소특성에 미치는 염도의 영향)

  • Yang, Hei-Cheon;Park, Sang-Kyoo
    • Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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    • v.35 no.5
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    • pp.640-646
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    • 2011
  • Dissolved oxygen (DO) refers to the volume of oxygen that is contained in water, and is a major indicator of water quality. The objective of this paper was to investigate the effect of salinity on the dissolved oxygen characteristics in an ejector-aerator. An experimental aeration system composed of a motor-pump, an ejector, a motor-blower, a set of aeration and recirculation tank and a control panel. The dissolved oxygen concentrations decreased with the water salinity. The volumetric mass transfer coefficient increased with increasing the water salinity.

Development of airflow control technology for Korean-type bioreactor based on influent water quality (유입수질 기반 한국형 생물반응조 송풍량 제어 기술 개발)

  • Yeo, Wooseok;Woo, Jea Suk;Song, Dong Hoon;Shin, Sung Bok;Kim, Jong Kyu
    • Proceedings of the Korea Water Resources Association Conference
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    • 2022.05a
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    • pp.388-388
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    • 2022
  • 하수처리 공정 중 생물반응조에서는 미생물의 산화 반응을 통해 하수 내 각종 유기물들을 처리하고 있다. 블로워는 호기조를 유리산소상태로 만들어 미생물들의 유기물 제어, 질산화가 원활하게 이루어질 수 있도록 지원하는 역할을 담당하고 있다. 그러나 실제 하수처리장에서는 유기물을 원활하게 처리하기 위하여 과도하게 블로워를 가동하고 있어 경제적인 측면에서 문제를 겪고 있다. 블로워를 통해 수중에 산소를 부족하게 공급할 경우 활성슬러지의 침전성이 저해되어 방류수 수질이 저해되는 반면, 용존산소가 과도하게 공급되어도 유기물질의 처리 효율은 증대되지 않으며 잉여용존산소는 대기 중으로 방류된다. 이러한 이유로 국내 하수처리장에서는 강화된 방류수 수질 기준을 만족하기 하고자 유입수질에 관계없이 과도하게 송풍기를 운영하고 있다. 이러한 하수처리장의 운영 및 경제적인 문제점을 해결하고자, 본 연구에서는 하수처리장으로 유입되는 원수의 수질을 처리하는 데 실제로 미생물이 필요한 산소요구량 및 공기공급량을 산정하는 프로그램을 개발하였다. 이를 통해 실제 하수처리장에서 필요한 산소요구량, 공기공급량을 산출하여 효율적인 하수처리장 운영이 가능하다. 실제 하수처리장에서의 프로그램을 통한 송풍량 절감 효율을 분석하고자 한 달간의 A 하수처리장 수질 데이터를 기반으로 하수처리에 필요한 산소요구량 및 공기공급량을 산정하였다. 실험 결과 프로그램 적용시 약 평균적으로 10%의 송풍량을 절감이 가능하며, 연구 결과를 바탕으로 효율적이고 경제적인 송풍기 운영조건의 기준을 제시하고자 한다.

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Control the Length of Carbon Nanotube Array by Using Oxygen Plasma Etching Process (산소플라즈마 에칭공정을 응용한 탄소나노튜브 Array 길이 제어 연구)

  • Song, Yoo-Jin;Kang, Seong-Jun
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.18 no.6
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    • pp.488-493
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    • 2009
  • We developed a simple method to control the length of carbon nanotube array by using oxygen plasma etching. In this way, we could obtain a carbon nanotube with a uniform length (20, 30, 50, $70\;{\mu}m$), that was parallel to the substrate. Moreover, our growing method of carbon nanotube array gives a uniform diameter ~3.5nm, which is consistent with our previous results. Using the same etching method, we demonstrated the carbon nanotube radio frequency identification (RFID) antenna. The results could be useful for carbon nanotube applications such as flexible and transparent conductive films.

Trial Manufacture and Disinfection Evaluation of Anoxic Chamber System for Museum Insects (저산소 농도 살충 챔버 시스템 시제작 및 박물관 해충 살충 성능 평가)

  • Oh, Joonsuk;Choi, Jungeun;Lee, Jangmook
    • Journal of Conservation Science
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    • v.28 no.4
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    • pp.377-385
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    • 2012
  • Anoxic treatments using argon and nitrogen gas in controlled atmospheres have been used as a alternative to methyl bromide for insect disinfection in museums. Anoxic chamber system was manufactured and installed at The National Folk Museum of Korea for the first time in Korea. The internal capacity of anoxic chamber is 0.5m3 in which is able to use argon, nitrogen and carbon dioxide gas. This system is equipped with oxygen concentration, temperature and ralative humidity control devices and automatically controlled oxygen concentration from 0.01 to 20%, temperature from 10 to $50^{\circ}C$ and relative humidity 30 to 80%. To control the oxygen concentration, anoxic chamber system is adopted semi-dynamic method which supplies mixture of humidified gas and dry gas whenever oxygen concentration in chamber becomes higher than setting value. It has kept regularly oxygen concentration, temperature and relative humidity for 20 days using argon gas. To evaluate the disinfection of cigarette beetle larvae and adults and varied carpet beetle larvae, the anoxic chamber system maintained 0.01% of oxygen concentration, $25^{\circ}C$ in temperature and 50% in relative humidity for 30 days. Cigarette beetle larvae were killed in 7 days and adults in 3~5 days. And varied carpet beetle larvae were killed in 3 days. It reaches the conclusion form the evaluation this anoxic chamber system can be used to develop anoxic treatment as an alternative of methyl bromide for insect disinfection of infested cultural properties in museums.

플라즈마 처리에 의한 원뿔형 다중벽 탄소나노튜브 다발의 형성기전

  • Im, Seon-Taek;Kim, Gon-Ho
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.129-129
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    • 2010
  • 플라즈마 처리를 통하여 수직 합성된 다중벽 탄소나노튜브가 원뿔형 다발이 될 수 있으며 원뿔형 탄소나노튜브 다발은 기존의 구조적, 기계적 성질의 향상과 더불어 향상된 전계방출 능력을 가질 것으로 기대되어 이를 X-선원, 전계방출디스플레이(FED), 유기발광다이오드(OLED) 백라이트 등의 전자빔 원으로 적용하기 위한 연구가 진행되고 있다. 원뿔형 탄소나노튜브 다발의 형상 제어를 통하여 전계방출특성을 향상시킬 수 있으며 이를 위해 원뿔형 탄소나노튜브 다발이 생성되는 메커니즘과 조사되는 플라즈마의 역할에 대해서 이해하는 것이 중요하다. 본 연구에서는 플라즈마 생성부와 조사부를 분리한 유도결합형 플라즈마 원을 사용하여 입사되는 이온의 에너지, 조사량, 입자 종을 독립적으로 제어하였고 이를 통하여 원뿔형 탄소나노튜브 다발이 형성되는 메커니즘과 플라즈마의 역할을 밝혀내었다. 알곤 및 수소 플라즈마 처리에서는 원뿔형 탄소나노튜브 다발이 형성되지 않았으나 질소 및 산소 플라즈마 처리에서는 원뿔형 탄소나노튜브 다발이 형성되었다. 특히 산소 플라즈마 처리가 원뿔형 탄소나노튜브 다발 형성에 효과적이었다. 원뿔형 탄소나노튜브 다발의 형성 메커니즘은 탄소나노튜브의 분극과 쉬스 전기장의 상호작용을 이용한 모델을 사용하여 설명하였다. 질소 및 산소 플라즈마 처리에서는 탄소나노튜브 끝단에 생성되는 C-N, C-O 결합에 의해 향상된 유도 쌍극자와 쉬스 전기장에 의해 탄소나노튜브 끝단이 모여 원뿔형 탄소나노튜브 다발이 생성됨을 밝혀내었다. 산소 플라즈마 처리에서 입사되는 이온의 에너지 조절에 의한 쉬스 전기장 조절과 조사량 조절을 독립적으로 수행하여 원뿔형 탄소나노튜브 다발의 직경 및 높이가 쉬스 전기장 및 조사량에 따라 조절 가능함을 보였다. 이로부터 입사되는 이온의 입자 종, 쉬스 전기장 및 조사량 조절 등의 플라즈마 인자 조절을 통하여 원뿔형 탄소나노튜브 다발의 형상 제어가 가능함을 보였다. 탄소나노튜브의 형상 제어와 더불어 세슘 입자 삽입을 통한 탄소나노튜브의 일함수 감소를 통하여 향상된 전계 방출 특성을 갖는 탄소나노튜브 팁의 제조 가능성을 확인하였다.

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Raman and Photoluminescence Studies of Plasma-Induced Defects in Graphene and MoS2

  • Na, Yun-Hui;Go, Taek-Yeong;Ryu, Sun-Min
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.194.2-194.2
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    • 2014
  • 기저면에 구조적 결함을 도입함으로써 그래핀과 $MoS_2$와 같은 이차원 결정의 물리, 화학, 전기 및 기계적 성질을 제어하려는 연구가 폭넓게 수행되고 있다. 본 연구에서는 플라즈마 속의 산소 래디컬을 이용하여 기계적 박리법으로 만들어진 단일층 그래핀과 $MoS_2$ 표면에 구조적 결함을 유도하고 제어하는 방법을 개발하였다. 라만 및 광발광 분광법을 통해 생성된 결함 밀도를 측정하고 전하 밀도 등의 화학적 변화를 추적하였다. 그래핀의 경우 산소 플라즈마 처리 시간에 따라 결함(defect)의 정도를 보여주는 라만 D-봉우리의 높이와 넓이가 커짐을 확인하였고 이를 G-봉우리의 높이와 비교하여 정량하였다. $MoS_2$의 경우 $E{^1}_{2g}$$A_{1g}$-봉우리의 높이가 점점 감소하고 광발광의 세기 또한 감소함을 확인하였다. 또한 본 연구에서는 기판의 편평도가 결함 생성 속도에 미치는 영향을 비교 및 분석하여 반응 메커니즘을 제시하고자 한다.

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