Numerical Investigation of Ion and Radical Density Dependence on Electron Density and Temperature in Etching Gas Discharges (식각공정용 가스방전에서 이온 및 활성종 밀도의 전자밀도 및 온도 의존성에 대한 수치해석적 분석)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- v.20 no.6
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- pp.422-429
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- 2011