목적: 광학적 분자 발광영상은 발광효소를 이용하여 발광하는 빛의 신호를 영상화하는 기법이다. 발광하는 광량이 분자 변화 또는 세포 수와 비례하고 신호 대 잡음비가 좋아서 영상을 얻고, 정략분석이 가능하다. 이 연구에서는 정량적 분석을 위해 비례적 측정 정량화기법을 개발하였다. 대상 및 방법: 개발 중인 ALIS (animal light imaging system) 광학발광영상 카메라에서 박테리아 수를 달리한 박테리아 광원 3가지와 또 다른 3가지 광원을 이용하여 발광영상을 측정하였다. 일정한 세기의 광원에 대해서 측정 방법을 수학적으로 표현하기 위해 cd와 광속의 개념을 이용하여 간단한 수식을 유도하였다. 실험을 통해 측정시간 1초를 기준으로 얻어진 값으로 표준 정량화 함수를 얻었다. 얻어진 정량화 함수를 이용하여 박테리아를 이용한 실험에 필요한 함수의 상수 값을 구했으며, 세 가지 세기가 다른 광원을 이용하여 측정한 값을 측정시간과 함께 정량화 식에 대입하여 측정하였다. 결과: 표준측정함수를 이용하여 측정시간에 비례하는 정량적 값을 얻을 수 있었다. 정량화결과를 측정시간으로 나눠준 값은 일정하였으며, 측정시간에 대비한 비례적 값을 얻을 수 있었다. 결론: 측정한 결과를 정량화 함수에 대입하여 정량화시킨 값은 표준정량화 하기에 적합하였다. 이 정량화 방법은 다른 광학적 분자영상 장비에 적용하여도 빛의 세기를 표준화 시킬 수 있을 뿐 만 아니라 성격이 다른 각각의 광원에 대해서도 보다 정량적인 분석을 시행할 수 있으므로, 새로운 표준 정량화 방법으로 발전시킬 수 있을 것으로 기대한다.
$SF_6$와 $NF_3$는 디스플레이 장치의 제조공정 중 $SiN_x$박막을 건식식각공정에서 사용되고 있다. 이 논문에서는 이 두 가스에 대한 건식식각의 특성을 관찰하기 위해서 CCP-RIE를 이용하여 가스와 산소의 유량비($SF_6$/$O_2$>, $NF_3$/$O_2$), 압력, 전력 비(13.56 MHz/2 MHz)를 변화시키는 다양한 공정조건하에서 실험을 진행하였다. 이 실험에서 $NF_3$를 이용한 $SiN_x$ 박막 건식식각률이 $SF_6$를 이용한 건식식각률보다 모든 공정 조건하에서 높게 나타났다. 불소원자의 OES 강도와 V/I probe 를 이용하여 건식식각률과 비례하는 상관관계 변수를 발견하였고 이를 플라즈마 변수와 관련하여 해석하였다.
Journal of the Korean Data and Information Science Society
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제13권1호
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pp.55-65
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2002
In this paper we present a Bayesian approach for determining an optimal maintenance policy following the expiration of warranty for a repairable system. We consider two types of warranty policies : non-renewing free replacement warranty (NFRW) and non-renewing pro-rata warranty (NPRW). The mathematical formula of the expected cost rate per unit time is obtained for NFRW and NPRW, respectively. When the failure time is Weibull distribution with uncertain parameters, a Bayesian approach is established to formally express and update the uncertain parameters for determining an optimal maintenance policy. We illustrate the use of our approach with simulated data.
본 논문은 미세구조의 마이크로 액추에이터의 구동해석을 위한 결과로써 3차원 유한요소해석(Finite Element Analysis, FEA)을 이용하여 수행하였다. 마이크로머신과 같은 미소구조물을 해석하는 경우, 컴퓨터의 메인 프로세스에 비해 프리프로세서(pre-processor)의 비중이 높아지고 있어 그 효율화가 가장 중요하다. 수작업에 의존해야 했던 지난날의 요소분할법 기술은 최근에 들어 여러 연구자들에 의해 개발되고 있다. 특히, 복합현상을 다루는 정전 액추에이터에 직접적인 적용에 다소 어려움이 있는데 3차원적인 수치 및 실험평가는 실용적인 문제에서 비추어 볼 때 매우 중요하다. 따라서 본 논문에서는 센서로서의 역할을 하는 마이크로 정전 액추에이터의 기본설계를 위한 토대를 구축하고자 3차원적인 FEA 시뮬레이션을 수행하여 미세 회전운동을 분석하였다. 그 결과 설계된 모델에서 먼저 자중해석과 Mode 해석에서 기준치를 모두 만족하였다. 또한 설계된 액추에이터의 형상에 따른 회전자의 변형해석을 수행하여 시작토오크와 탄성한계까지의 위치제어에 필요한 회전각을 구하였으며, 정전장 해석을 통하여 시작토오크는 전압 $V^2$에 비례함을 알 수 있었다.
SRM의 토오크는 상전류의 제곱과 인덕턴스 기울기에 비례한다. 그러나 SRM의 인덕턴스는 자기회로의 포화현상을 회전자위치각과 상전류에 따라 비선형적으로 변화하여 순시적으로 원하는 토오크를 제어하기 어렵다. 본 논문에서는 비선형 해석에 우수한 성능을 보이는 신경회로망을 이용하여 인덕턴스를 모델링하는 방법을 도입하여 인덕턴스의 변화를 관측하였다. 그리고 이를 이용하여 맥동토오크를 해석하였으며 맥동토오크를 저감하는 전압, 전류조건을 시뮬레이션하였다.
PP에 PE를 용융혼합하여 방사불안정성을 줄일수 있는 방사조건에 대한 연구를 수 행하였다. 연신공명에 대한 주파수 분석결과 harmonic overtone이 나타나고 연식공명의 주 기가 체류시간에 비례함을 밝혔다. PP에 PE를 혼합시킴으로써 연신공명을 줄일수 있었으나 PE가 연속상이 되는 PE함유량에서는 임계연신비보다 낮은 연신비에서 사절이 발생하였다. 또한 낮은 방사온도에서는 melt fracture 현상이 연신공명을 쉽게 일어나게 하는 용인으로 작용하여 PP/PE 혼합물의 방사 안정성을 저해하였다, 토출량이 같을 때 방사구 지름은 연 신공명의 Dmax/Dmax 값에 영향을 미치지 않았고 방사길이가 짧으면 임계연신비가 증가하였 다. 방사구 L/D가 클때에는 방사구 L/D가 연신공명에 영향을 미치지 않았으나 방사구 L/D 가 짧을 때에는 임계연신비가 크게 저하되었다.
시간 상관 단일 광자 계수법을 사용하여 PVP/C/sub 2/H/sub 5/OH와 PEG/H/sub 2/O 혼합 용매에 위치한 rhodemine 6G 분자의 회전 재배열 시간을 측정하였다. 주어진 온도에서 혼합비를 변화시키면서 측정한 결과, PEG/H/sub 2/O와 PVP/C/sub2/H/sub 5/OH에서 각각 회전 이완 시간이 혼합액의 점성도에 선형적으로 비례하지 않는 것으로 관측되었다. 고분자 주의에 cluster가 형성된다는 관점에서 혼합비에 따른 회전 이완 시간의 변화를 설명하였다.
그리드 전압을 +20V에서 -20V까지 변화시켜 줌을 이용해 확산 영역의 전자의 온도를 2-0.6eV까지 제어할 수 있었으며, 전자 밀도는 1010cm-3 - 1011cm-3, 플라즈마 전위는 3-25V까지 제어할 수 있었다. <그림1>은 실험결과이다. 그 외 전자의 온도는 입력 전력의 주파수 및 크기에는 거의 무관하나 압력에 반비례하였으며, 밀도는 전력의 크기에 비례하고, 압력에 반비례하나, 전력의 주파수에는 무관하였다. 그리드 전압이 20V에서 -20V로 변함에 따라 전자의 온도가 떨어져 높은 에너지를 가진 전자들이 줄어들게 되어 CF3+의 양은 많아지고 CF2+와 CF+의 양은 상대적으로 줄어들어 CF3+와 CF2+ 비는 4-18 CF3+와 CF+ 비는 2-5까지 변화하였으며, 변화모양은 전자 온도에 크게 의존하였다. <그림2>는 결과를 나타낸 것이다. 그 외 CF3+ / CF2+ 와 CF3+ / CF+는 입력 전력의 크기에 반비례하며, 압력, 가스 주입량에 따라서도 이온들의 분포 변하였다. 그러나 입력 전력의 주파수와는 무관하였다. Appearance mass spectrometry를 이용한 결과 CF, CF 중성종의 분포도 그리드 전압에 따라 변하여 그리드 전압이 높은 경우 더 많이 존재하였다.
본 논문은 비선형 시스템에서 시스템의 출력이 주기적인 특징을 가지는 궤적을 따라가도록 하는 슬라이딩 모드 반복 제어기를 소개한다. 본 논문에서 제안하는 제어기는 전체 시스템을 안정화시키며 출력오차를 어떤 범위 안으로 지수적으로 수렴시키는 슬라이딩 모드 제어기와 추적 오차의 수렴을 위해서 사용되는 반복 제어기로 구성되어 있다. 본 논문에서는 제안하는 슬라이딩 모드 제어기는 기존의 방법과는 다르게 제어입력의 크기가 추적오차의 크기에 비례하게 되어 있어서 시스템의 차수를 올리지 않고 정상상태에서의 채터링(chattering) 문제를 크게 개선하는 특징을 가지고 있다.
Incorrections between model and plant are parameter, system order uncertainties and modeling error due to disturbance like friction. Therefore to achieve a good tracking performance, adaptive discrete time sliding mode tracking controller is used under time-varying desired position. Based on the diophantine equation, a new discrete time sliding function is defined and utilized for the control law. Robustness is increased by using both a recursive least-square method and a sliding function-based nonlinear feedback. The effectiveness of the proposed control algorithm is proved by the results of simulation and experiment.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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