Diffusion of In Situ-Doped Boron in $Si_{1-x}Ge_{x}$ /Si heterostructure Grown by Solid-Source Molecular Beam Epitaxy
(분자선에피텍시를 이용하여 성장한 $Si_{1-x}Ge_{x}$ /Si 이종접합구조에서의 In Situ-Doped Boron 의 확산 거동에 관한 연구)
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- Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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- 1994.05a
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- pp.128-129
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- 1994