• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.08a
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• pp.170-170
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• 2011

최근 진공기술은 세계적으로 유럽, 미국 및 일본을 주축으로 개발되어 보급되고 있다. 국내에서는 초기 기술 단계인 수봉식펌프, 유회전펌프, 유확산펌프가 개발되어 있으나 일반 산업용으로만 사용되고 있으며 반도체용으로는 전혀 적용되지 못하고 있는 실정이다. 특히 고청정공간을 필요로 하는 환경인 고집적 반도체 공정 등에는 사용할 수 없다. 본 연구에서 개발하고자 하는 터보형 드라이펌프는 시스템 내에 전혀 오일을 사용하지 않고 저소음 및 고효율, 저진동, 넓은 사용압력범위 등의 이점 때문에 현재 반도체 공정용 펌프로서 크게 각광을 받고 있다. 그러나 수요가 점차 증가함에도 불구하고 아직까지 우리나라는 전량 수입에 의존하고 있다. 이에 본 연구에서는 반도체 공정에 적합한 배기속도와 압축비를 가지는 에너지 절약형의 반도체 공정용 대유량 터보형 드라이펌프를 개발하여 국산화를 도모하고자 한다. 또한 단순히 외국 제품의 복사품을 제작하는 것이 아닌 체계적인 자료 확보를 통한 설계기술의 정립과 제품개발을 목적으로 하고 있다. 향후 전 세계적으로 최고 수준의 반도체 제조기술을 보유하고 있는 국내에서 국산화 및 상용화에 성공한다면 세계의 드라이 진공펌프 시장에도 충분히 우리의 기술력을 입증할 수 있으며, 결과적으로 상용화까지 이루어지리라 기대한다.

• Electronics and Telecommunications Trends
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• v.27 no.1
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• pp.74-85
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• 2012

차세대 화합물 반도체 플랫폼으로 각광을 받고 있는 GaN 전자소자 글로벌 연구개발 동향에 관하여 기술하고자 한다. GaN 전자소자는 와이드 밴드갭(Eg=3.4eV)과 고온 안정성($700^{\circ}C$) 등 재료적인 특징으로 인하여 고출력 RF 전력증폭기와 고전력용 전력반도체 응용에 큰 장점을 가진다. GaN 전자소자 기술동향에서는 먼저 미국, 유럽, 일본을 중심으로 한 대형 국책 연구프로젝트 분석을 통한 RF 전력증폭기 연구개발 방향을 살펴보고, 후반부에서는 이동통신 기지국, 선박 및 군용 레이더 트랜시버용 고출력 RF 전력증폭기의 응용 분야에 관하여 알아본다. 이러한 총체적인 동향분석을 통하여 차세대 반도체의 신시장 개척과 선진입을 위한 GaN 전자소자의 연구개발 방향과 조기상용화의 중요성을 함께 생각해보고자 한다.

• 전기의세계
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• v.39 no.6
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• pp.6-13
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• 1990

여러산업 분야에서 요구되는 자동화, 정밀화는 인간이 개입할 수 없는 진공프로세서를 요구하기에 이르렀다. LSI제조 프로세서에서 제조공정의 약 70%를차지하는 wafer의 반송에서 flexibility를 갖고 고속위치 결정이 가능한 로보트가 필요하게 되었으며, 핵융합로의 유지용 로보트가 필요하게 되었으며, 핵융합로의 유지용 로보트 및 우주공간에서 운전되는 로보트등 청정진공형 로보트에 대한 기대가 높아지고 있다. 본 강연에서는 미국 및 일본 등지에서 wafer자동반송장치로 현재 개발되었거나 혹은 개발중인 자동화장치 기술에 관한 주요한 몇가지 점을 소개하였다. 반도체 산업이 수출의 주요산업으로 등장하고 있는 이때 반도체 제조공정의 자동화기술의 확보는 매우 시급한 과제이며 이를 해결하기 위하여 특별기술 개발위원회를 구성하여 산학협동하여 조직적으로 최소한 5개년계획으로 추진할 것을 제의한다.

• The Science & Technology
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• v.33 no.5 s.372
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• pp.16-17
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• 2000

디지털문명의 전도사인 미국 MIT의 니콜라스 네그로폰데교수는 한국인에게 하고 싶은 이야기를 묻자 "디지털이 되어야 한다"고 강조했다. 매일 아침 3백개 정도의 E메일을 받는다는 그는 향후 5년 내에 등장할 새로운 과학기술은 반도체와 생명공학이 결합하는 산업과 상식을 지닌 컴퓨터 그리고 새로운 에너지와 무선 테크놀로지의 결합이라고 예견했다.

• KIPE Magazine
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• v.9 no.2
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• pp.15-22
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• 2004

요즈음 AVR이 뜨고 있다. 전기기술 분야에서는 AVR이라고 하면 보통 자동전압조정기 (Automatic Voltage Regulator)를 지칭하지만, 마이크로프로세서 시장에서 AVR이라고 하면 Atmel사의 작지만 강력한 8비트 RISC 마이크로콘트롤러 시리즈를 지칭한다. 1984년에 설립된 미국의 신생 반도체 회사인 Atmel에서 1997년에 처음 발표하여 불과 7년 정도의 짧은 역사를 가지고 있는 AVR이 시장에서 기라성 같은 선배 제품들을 속속 물리치고 강세를 보이는 괴력을 발휘하고 있다.(중략)

• The Inventors News
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• no.17
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• pp.3-4
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• 2003

기능성 보도 블록, 특허 출원 증가 - 한$\cdot$중$\cdot$일, 3국간 특허협력 본격 추진 - SK텔레콤 스피드 010 상표등록 추진 - LG전자, 미국서 세탁기 특허침해 피소 - 올해 가장 쿨한 발명품 - `반도체배치설계 공모전` 시상식 개최 - 한국 기술경쟁력 세계6위 - 특허청 분쟁조정위원회 유명무실 - 북한 특허등록 대행변리사 등장

• The Science & Technology
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• v.33 no.9 s.376
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• pp.34-35
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• 2000

모든 직원이 대학생과 대학원생으로 구성된 '소프트 캠프'가 컴퓨터시스템 보호프로그램(PC-KEEPER)을 독자 개발, 국내시장 독점은 물론 일본의 대표적 반도체 회사인 NEC와 국내소프트웨어업계 사상 최대 규모인 2백억원어치 수출계약을 맺고 미국시장 개척에도 나서공 있다.

• Ceramist
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• v.7 no.3
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• pp.28-33
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• 2004

1987년 미국 버클리 대학의 연구진은 반도체 미세공정 기술을 이용해 머릿카락 굵기의 초소형 모터를 발표하였다(Fig. 1).1) 이는 MEMS(Micro Electro Mechanical System, 혹은 MST , Micro System Technology)라는 새로운 학문 분야의 실질적 효시로, 명실공히 마이크론 단위의 기계-전자 시스템의 구현이라는 새로운 장을 열게되었다. (중략)

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.08a
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• pp.92-92
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• 2012

최근 반도체 산업 경기의 활황에 따라 반도체 생산 설비 또한 꾸준히 증설되어가는 추세이며 고진공 펌프의 수요 또한 점차적으로 증가하고 있는 현실이다. 하지만, 국내 기술의 부족으로 고진공 펌프는 대부분 해외로부터의 수입에 의존하고 있다. 반도체 생산 설비는 매우 보수적인 설비로써 새로 개발되는 고진공 펌프가 반도체 생산 설비에 사용되기 위해서는 원천기술, 상품화 기술 및 신뢰성 기술을 확보해야 하며, 특히 한미/한일/한-EU FTA 등에 대비하여 제품의 국산화가 시급한 실정이다. 이에 고진공펌프의 수입이 급증할 것으로 예상되어 국내 진공업체에서도 크라이오펌프의 개발이 진행되고 있다. 본 연구에서는 지식경제부 제조기반 산업원천기술개발사업에 주관기관으로 수행하여 한국기계연구원 및 한국원자력연구원과 급속재생형 저진동 크라이오펌프의 기술 개발을 통해 전량 수입하는 크라이오펌프를 국산화를 도모 하고자 한다. 크라이오펌프의 주요 생산업체는 미국기업의 CTI사이며, 상품화 기술의 성능 확보를 위한 CTI사의 GM 극저온 냉동기와 현재 개발 및 상용화 준비를 하는 극저온 맥동관 냉동기에 대해 성능평가 지표를 제시하며, 신뢰성 확보를 위한 한국과학기술원 나노종합팹센터의 스퍼터 공정장비에 대한 CTI사 크라이오펌프와 상용화를 위한 개발품의 공정 현장시험에 대해 소개하고자 한다.

• Journal of the Korean Institute of Gas
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• v.20 no.4
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• pp.15-24
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• 2016

In the semiconductor industry, the risk of chemical accidents due to miscibility between the many types of chemicals and leakage of toxic chemicals has increased. In order to evaluate the reactivity with miscibility of chemicals, experimental method is the most reliable, but there is a time and cost limitations to be evaluated through experiment all the chemicals. In the study, the reactivity of process gases in the semiconductor industry was considered by the CRW (Chemical Reactivity Worksheets) 3.0 program developed by US NOAA (National Oceanic and Atmospheric Administration) and EPA. The reactivity informations with the miscibility of process gases for semiconductor industry provided, and also a KOSHA guide for the storage/separation of gas cylinders in dispensing cabinets in the semiconductor industry was proposed.