Kang, Yubin;Choi, Jin-Ju;Park, Jae Layng;Lee, Chan Gi
Resources Recycling
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v.29
no.6
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pp.57-64
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2020
In this study, removal of OCA and organic impurities for recycling LCD touch panel glass was conducted by mechanical and chemical dissolution methode. Cut mill and oscillation mill were used for mechanical crushing of touch panel, and water, ethanol, dichloromethane were used to remove OCA and organic impurities. As a result of TGA, when applied only dicloromethane in the process, the efficiency of organic removal was to be best. In addition, removal effect of organic impurities increased as the cleaning temperature increased. As a result of zeta potential analysis to confirm the dispersion degree of touch panel glass in the solvent, the absolute value of the zeta potenial of water with the lowest cleaning effect was lower than other solvents, and it was confirmed that efficiency of organic removal is affected not only by the chemical dissolution properties but also the physical dispersion properties in the solvent.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.08a
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pp.268-268
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2010
단일벽 탄소 나노튜브(SWCNT)는 그 뛰어난 전기적, 물리적 특성 때문에 반도체 공정에 있어서 중요한 p-type 채널 물질로 꼽히고 있다. 본 연구에서는 SWCNT를 성장하여 이를 이용한 전계효과 트랜지스터를 제작하고 또한, 부분적인 폴리머의 코팅으로 타입을 변화하는 연구를 보이고자 한다. Ferritin용액을 DI-water에 2000배 희석하여 SiO2 기판 위에 뿌린 뒤 Methanol을 이용하여 기판 표면에 촉매가 붙어있게 한다. 이 기판을 $900^{\circ}C$로 가열하여 유기물질을 제거한 뒤 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition)방법으로 SWCNT를 성장하게 된다. 이렇게 성장된 SWCNT는 촉매의 농도에 비례하는 밀도를 가지게 되며 이 위에 전극을 증착하고 back-gate를 설치하여 FET를 제작한다. 메탈릭한 SWCNT는 breakdown 공정을 통하여 제거한 뒤, 전자 농도가 높은 NADH를 전체적으로 코팅을 한다. NADH는 기존의 다른 폴리머(polyethyleneimine: PEI)에 비교하여 코팅 후 전자 제공 효과가 크며 그 성질의 재현성이 높고 공기 중에서 안정성을 유지하는 능력이 있다. 이러한 NADH의 코팅으로 n-type으로의 SWCNT FET를 제작하였으며 type conversion 현상을 이용하면 국부적인 NADH의 코팅으로 homojunction-diode의 제작 등 다양한 소자의 제작에 적용될 것으로 예상한다.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.303-303
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2013
표면에 부착된 나노/마이크로 입자는 다양한 분야에서 오염물질로 작용한다. 특히 형상이 미세하고 공정 단계가 복잡한 반도체 및 디스플레이 등의 전자 소자 공정에서 미치는 영향이 크다. 따라서 입자상 오염물질의 제거에 관하여 상용화된 습식 세정 방법이 다양하게 존재하지만 표면 손상, 화학 반응, 부산물, 세정 효율 등 여러 가지 문제점이 있어 새로운 세정 방법이 요구된다. 이에 건식 세정 방법, 그 중에서도 입자의 충돌을 통해 제거하는 방법인 에어로졸 세정, 필렛 세정 등이 개발되었으나 마이크로 크기로 생성되는 입자로 인하여 형상의 손상이 크다. 따라서 본 연구에서는 나노 단위로 기체/고체 혼합물만 생성하여 세정하는 가스 클러스터 세정 방법을 이용하여 이러한 문제점을 해결하고자 하였다. 클러스터 세정 장비를 이용한 표면 처리는 충돌에 의한 제거에 기반한다. 따라서 생성 및 가속되는 클러스터로부터 대상으로 전달되는 운동량의 정도가 세정 특성에 영향을 미치며 이는 생성되는 클러스터의 크기에 종속적이다. 생성 클러스터의 크기 분포는 분사 거리, 유량, 분사 각도, 노즐 냉각 온도 등의 변수에 관한 함수이다. 따라서 본 연구에서는 $CO_2$ 클러스터를 이용한 세정 특성을 정의 및 제어하기 위하여 생성되는 클러스터 특성에 관하여 이론적, 수치 해석적, 실험적 연구를 수행하였다. 먼저, $CO_2$의 물리적 특성 및 이를 이용한 특정 크기 오염 물질을 제거하는데 요구되는 임계 클러스터 크기 계산을 이론적으로 구하였다. 이는 오염물질의 부착력과 클러스터의 운동량 전달에 의한 제거력의 비교를 통해 이루어졌다. 두 번째로 클러스터 크기분포를 수치 해석적으로 예측하기 위하여 각 조건에 대하여 유동해석을 수행하고 이를 통해 구해진 노즐 내 기체의 냉각 속도를 GDE (General Dynamic Equation) 계산에 대입하여 구하였다. 마지막으로 PBMS(Particle Beam Mass Spectrometer)를 이용하여 실험적으로 클러스터 크기분포를 각 조건에 대하여 구할 수 있었다. 또한 크기 분포 경향에 대한 간접적 확인을 위하여 포토레지스트가 코팅된 웨이퍼에 클러스터의 충격으로 생성된 크레이터 크기의 경향을 분석하였다. 이와 같은 방법에 의하여 생성되는 클러스터는 노즐의 유량 증가, 온도 상승에 각각 비례하여 작아지는 것을 확인할 수 있었다.
Donghyeon Lee;Joung-Man Park;Hyung Mi Lim;Dong-Jun Kwon
Composites Research
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v.37
no.3
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pp.204-208
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2024
De-icing/anti-icing fluid is essential for removing ice formation on aircraft. It chemically removes ice using organic solvents, which can cause damage to the topcoat surface in the process. In this study, glycol-based deicing/anti-icing fluid was used to remove ice, and the resulting damage to the topcoat was examined. USB microscope was used to observe the formation and growth of ice, while a confocal microscope was employed to observe the surface morphology after treatment with de-icing/anti-icing fluid. Additionally, coating thickness measurements and Fourier transform infrared (FT-IR) analysis were conducted to investigate the physical and chemical changes on the surface. The repeated application of de-icing/anti-icing fluid showed a reduction in the ice formation rate and an increase in the growth rate. Damage during the pressurization process and surface damage to the polyurethane topcoat caused by ethylene glycol were observed during the de-icing process. Although no chemical changes were detected, the analysis revealed that surface uniformity decreased, with physical damage such as cracks and undulations forming on the surface. It was confirmed that while de-icing/anti-icing fluid is effective in removing ice, it also causes surface damage.
Kim, Jihee;Kim, Jincheol;Park, Sungwan;Song, Jooyoung
Review of KIISC
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v.24
no.5
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pp.46-50
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2014
제어시스템은 일반 업무환경에서 사용하고 있는 시스템과는 달리 업무망과 분리되어 운영되며, 비공개 제어프로토콜 사용으로 해커나 악성코드에 의해 사이버공격을 받을 가능성이 없다고 인식되어 왔다. 그러나 2010년 스턱스넷(Stuxnet) 악성코드가 이란의 핵시설 제어시스템에 침투하였고 2012년 듀크, 플레임 등 제어시스템을 대상으로 한 위협이 증가하게 되면서 제어시스템과 업무망 연계 지점의 보안 위협을 제거하기 위한 방안으로 물리적 일방향 자료전달 시스템의 도입이 추진되어 왔다. 본 논문에서는 배전DAS 업무망 연계를 위한 물리적 일방향 자료전달 시스템 구현에 대해서 설명하고 실증에 따른 결과를 제시한다.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.20
no.1
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pp.81-86
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2016
In this paper, we present multi-channel authentication based security card design. Since this security card is written on the transparent paper, security information is extracted by overlaying the card with smartphone screen. This method removes the limitations of physical layout in previous security card and improves the security level. Furthermore, our security card is secure when our card is exposed to malicious users.
In the dimethyl ether (DME) synthesis and separation process, over 8% by mole of $CO_2$ is fed to the DME synthesis reactor which lowers DME productivity. Therefore, this work focused on the removal of $CO_2$ using three kinds of processes with physical absorbents by comparing the utility consumption through computer simulation of each process. Among the processes selected for comparison are Rectisol$^{(R)}$ process using methanol, Purisol$^{(R)}$ process using n-methyl pyrrolidone (NMP), and SelexolTM process using dimethyl ethers of polyethylene glycol (DEPG) as a solvent. As a result of this study, it was concluded that Purisol$^{(R)}$ process consumes the least energy followed by SelexolTM process. Therefore, it is considered that Purisol$^{(R)}$ process is the most suitable method to absorb $CO_2$ contained in the feed of DME synthesis reactor.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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