• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2011.06a
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• pp.247-248
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• 2011

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2011.07a
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• pp.59-60
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• 2011

본 논문에서는 기존의 PCR 장비가 가지고 있는 낮은 경제성, 장비의 대형화, 긴 분석 시간 등과 같은 단점을 해결하기 위하여 ATMEGA128 마이크로 칩을 사용 continuous-flow PCR 칩의 온도를 제어 하였다. Polydimethylsiloxane (PDMS)와 산화 인듐-주석(Indium tin-oxide, ITO) 유리 기판을 사용하여 continuous-flow PCR 칩을 제작하였고 PDMS를 주조 하여 마이크로 채널을 형성하였다. 또한 유리 기판위에 ITO 전극을 패터닝하여 마이크로 히터를 제작하였다. 이 결과 continuous-flow PCR 칩에서 빠르고 정확한 온도 제어를 통한 DNA 중합 효소 연쇄반응 결과를 얻을 수 있었다.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.21 no.12
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• pp.160-166
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• 2004

Self-Assembled Monolayers(SAMs) by alkanethiol adsorption to thin metal film are widely being investigated fer applications as coating layer for anti-stiction or friction reduction and in fabrication of micro structure of molecule and bio molecule. Recently, there have been many researches on micro patterning using the advantages of very thin thickness and etching resistance of Self-Assembled Monolayers in selective etching of thin metal film. In this report, we present the several machining method to form the nanoscale structure by Mask-Less laser patterning using alknanethiolate Self-Assembled Monolayers such as thin metal film etching and heterogeneous SAMs structure formation.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2003.06a
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• pp.219-222
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• 2003

Self-Assembled Monolayers(SAMs) by alkanethiol adsorption to thin metal film are widely being investigated for applications as coating layer for anti-stiction or friction reduction and in fabrication of micro structure of molecular and bio molecular. Recently, there have been many researches on micro patterning using the advantages of very thin thickness and etching resistance in selective etching of thin metal film of Self- Assembled Monolayers. In this report, we present the micromachining thin metal film by Mask-Less laser patterning of alknanethiolate Self-Assembled Monolayers.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2008.11a
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• pp.102-103
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• 2008

EHD(Electrohydrodynamics, 전기수력학)를 기반으로 한 정전기장 유도 잉크젯(또는 EHD jet) 헤드는 적층, 식각 작업 등의 일련의 과정을 생략하게 해줌으로써 마이크로 단위의 패 터닝 작업을 용이하게 해주고, 대기압 플라즈마 발생장치를 이용한 표면의 개질은 친수성 특성을 갖는 표면을 소수성 특성을 갖도록 변형시켜 주어 접촉각을 높임으로써 패턴의 크기를 줄여주는 효과가 있다. 본 연구에서, 대기압 플라즈마 발생 장치를 이용하여 유리의 표면을 소수성 특성을 갖도록 개질하여 정전기장 유도 잉크젯 헤드 장치를 이용한 패터닝 작업시, 패턴의 크기를 대폭 감소시키는 효과를 얻을 수 있었다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2005.07c
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• pp.1898-1899
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• 2005

반도체 집적회로 공정에서 사용되는 폴리이미드 포토레지스트(P12723, Dupont)를 감습막으로 사용하는 마이크로 습도센서 소자를 제작하였다. 마이크로 습도센서는 실리콘 웨이퍼 기판 위에 $SiO_2$ 박막을 건식열산화 공정으로 제작하고, Al 박막을 포토리소그라피 공정으로 패터닝 한 IDT (Interdigital Transducer)를 전극 위에 폴리이미드 포토레지스트를 공정변수를 다양하게 조절하면서 감습막으로 제작하였다. 폴리이미드 감습막은 스핀코팅법으로 제작하였으며, 회전수를 조절하여 두께를 변화시켰다. 완성된 마이크로 습도센서 소자의 상대습도 변화$(10{\sim}90% RH)$에 따른 정전용량 값 변화를 항온항습조 내에서 다양한 온도에서 HP4192A Impedance Analyzer를 사용하여 조사함으로써, 폴리이미드 포토레지스트를 사용하는 마이크로 정전용량형 습도센서의 제작 가능성을 검토하였다. 폴리이미드 정전용량형 마이크로 습도센서는 다양한 인가 전원 주파수에서 기준 센서로 사용된 상용 Vaisala Hygrometer와 유사한 감습특성 및 응답특성을 보였다.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2012.05a
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• pp.473-474
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• 2012

• Journal of the KSME
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• v.49 no.8
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• pp.45-50
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• 2009

오늘날 인쇄기술은 문자 인쇄만이 아닌 전자소자공정, 재료공정, 바이오 분야 등에서도 핵심기술의 하나로 여겨지고 있으며 관련 연구가 매우 활발히 이루어지고 있다. 최근 들어 잉크젯 프린팅 기술을 활용한 마이크로 패터닝 기술은 많은 분야에서 경쟁력 있는 공정으로 그 확고한 위치를 구축할 것으로 기대하고 있다. 특히 롤투롤 연속공정(roll-to-roll)에 접목되어 인쇄 속도를 증진하고 인쇄 정밀도를 개선하면 평판디스플레이뿐만 아니라 유연디스플레이 분야에 이르기까지 잉크젯 기술의 활용 가능성은 매우 높다고 판단된다.

• Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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• v.29 no.9
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• pp.571-575
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• 2016

Recently, there has been much focus on the controlled alignment and patterning process of nanowires for nanoelectronic devices. A simple and effective method for patterning of highly aligned nanowires using a microcontact printing technique is demonstrated. In this method, nanowires are first directionally aligned by contact printing, following which line and space micropatterns of nanowire arrays are accomplished by microcontact printing with a micro patterned NOA mold.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.21 no.8
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• pp.152-156
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• 2004

A new tool of surface patterning technique for general purpose lithography was developed based on shadow mask method. This paper describes the fabrication of a new type of miniaturized shadow mask. The shadow mask is fabricated by photolithography and etching of 100-mm full wafer. The fabricated shadow mask has over 388 membranes with apertures of micrometer length scale ranging from 1${\mu}{\textrm}{m}$ to 100s ${\mu}{\textrm}{m}$ made on each 2mm${\times}$2mm large low stress silicon nitride membrane. It allows micro scale patterns to be directly deposited on substrate surface through apertures of the membrane. This shadow mask method has much wider choice of deposit materials, and can be applied to wider class of surfaces including chemical functional layer, MEMS/NEMS surfaces, and biosensors.