• Title/Summary/Keyword: 마이크로챔버

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Humidity Sensor Using Microstrip Patch Antenna (마이크로스트립 패치 안테나를 이용한 습도 센서)

  • Junho Yeo
    • Journal of Advanced Navigation Technology
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    • v.27 no.1
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    • pp.71-76
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    • 2023
  • In this paper, a humidity sensor using a microstrip patch antenna(MPA) and polyvinyl alcohol(PVA) is studied. PVA is a polymer material whose permittivity changes with humidity, and a rectangular slot is added to the radiating edge of the MPA, which is sensitive to changes in electric field, in order to increase the sensitivity to changes in relative permittivity. After thinly coating the area around the radiating edge with the rectangular slot of the MPA fabricated on a 0.76 mm-thick RF-35 substrate with PVA, the changes in the resonant frequency and magnitude of the MPA's input reflection coefficient are measured when relative humidity is adjusted from 40% to 80% in 10% increments at a temperature of 25 degrees using a temperature and humidity chamber. Experiment results show that when the relative humidity increases from 40% to 80%, the resonance frequency of the antenna' input reflection coefficient decreases from 2.447 GHz to 2.418 GHz, whereas the magnitude increases from -7.112 dB to -3.428 dB.

용량 결합형 플라즈마의 유전체기판의 잔류전위 양상 관찰

  • Yun, Yong-Su;Wi, Seong-Seok;Kim, Dong-Hyeon;Lee, Ho-Jun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.130-130
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    • 2015
  • 플라즈마를 이용한 cleaning, etching, sputtering 공정에서 발생하는 마이크로아크방전이나 turn-off후의 잔류정전기는 공정대상물의 절연파괴나 전자소자에 전기적 손상을 유발함으로서 공정의 불량률을 증가시키는 중요한 요인이 된다. 본 연구에서는 잔류정전기를 관찰하기위하여 실린더형 챔버구조의 평행평판 전극구조를 지닌 용량결합형 플라즈마에서 powered electrode에 부착된 유전체 기판 표면의 잔류 정전기의 변화 양상을 planar type probe로 측정해보았다. 300mtorr 압력에서 아르곤가스로 발생시킨 플라즈마가 존재할 때 낮은 음전위 평균값을 가지던 기판표면 전위가 전력인가가 중지되었을때 20V 가량의 양전위를 가질 수 있음을 측정 하였고, 이것을 COMSOL MULTIPHYSICS TOOL을 활용한 시뮬레이션과 비교하였다. 이 현상이 파워인가 전극이 플라즈마 영역에 노출되느냐에 따라 발생할 수 있음을 알게 되었고, 그 크기와 지속시간은 입력전력 및 블로킹 커패시터와 유전체 기판의 정전용량에 의존함을 확인 하였다.

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Development of Control System for Disinfection Unit of Moving Welfare Device (이동식 복지용구 소독장치를 위한 제어시스템 개발)

  • Seong, Chung-Ill;Cho, Seong-Beom;Hwang, Gi-Hyun
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2012.10a
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    • pp.304-306
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    • 2012
  • In this Paper, we develop control system for disinfection of welfare Equipment. In this paper, the developed system including disinfection control circuit using Hydrogen peroxide steam, chamber control circuit for disinfection using low vacuum and washing system control circuit using micro bubble.

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Characteristics of Thermo-Fluid Flow in Dilution Chamber of Micro-Dilution Tunnel for Diesel Particulate Measurement (디젤매연측정용 마이크로 희석터널의 희석챔버에서의 열유동 특성)

  • 김태권;김성훈;임문혁
    • Transactions of the Korean Society of Automotive Engineers
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    • v.10 no.6
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    • pp.90-99
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    • 2002
  • The main purpose of this study lies on the development of micro dilution tunnel based on the Sierra Dilution chamber model. As a primary examination, characteristics of flow and temperature distributions during the steady dilution process in dilution chamber are observed with numerical analysis. The penetration of dilution air through porous tube as well as wall temperature and temperature gradient inside porous tube are examined. The thermophoretic velocity in terms of temperature behavior inside porous tube are defined and examined. Based on the ratio of penetration and thermophoretic velocities, all part of porous tube are shown to be safe from the particulate depositions. However, The inlet portion of porous tube in addition to the portion of impinging of dilution air are marginally safe from the particulate depositions. Generally the safer design against particulate deposition is required in provision f3r steady dilution process and for transient process as well.

평판 디스플레이의 효율화를 위한 진공 인-라인 실장기술에 관한 연구

  • 권상직;홍근조;성정호;이창호;권용범
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2000.02a
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    • pp.45-45
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    • 2000
  • PDP, FED, 그리고 VFD와 같은 마이크로 전자디스플레이 장치를 제작하기 위한 가장 중요한 기술중에 하나인 패널 내를 고진공으로 만드는 것과 초기의 진공을 유지하는 것이다. PDP 디스플레이는 전면판과 후면판으로 구성되어 있다. 전면판은 ITO전극, 절연체 그리고 MgO보호막으로 구성되어 있으며, 후면판은 어드레스 전극, 반사층, 격벽, 그리고 형광체층이 있다. 기존의 방식은 대기에서 프릿 글라스를 이용하여 두 장의 유리를 봉입하고, 후면판 모서리 부분에 있는 구멍에 배기 글라스 튜브를 붙이고, 튜브를 통해서 배기하고, 플라즈마 가스를 채우고, 최종적으로 tip-off를 한다. 이러한 기존의 방식을 통해서는 배기 컨덕턴스의 한계로 얻을 수 있는 초기 진공도에 한계가 있다. 아울러 두 장의 유리사이는 150$\mu$m 정도의 간격으로 되어 있고, 이웃한 격벽사이는 320$\mu$m 정도의 미세한 공간이 주어지는 구조가 컨덕턴스를 저하시킨다. 이와 같은 초기 진공도의 한계성을 극복하기 위한 연구로서, PDP 패널을 구성하는 두 장의 글라스를 진공 챔버내에서 IR heater를 이용하여 실장하였다. 대개 PbO, ZnO, SiO2,, 그리고 B?로 구성된 프릿 글라스를 대기에서 전면판에 dispensing하고 가소한다. 그리고 프릿 글라스가 형성된 전면판과 후면판을 loading, align 한 다음, 2 10-7torr까지 펌핑한 후 heating, holding 그리고 cooling 공정을 수행하므로 써 두 장의 유리를 실장하였다. 그러나 온도의 non-uniformity, 프릿 성분에 따라서 crack과 기포문제가 진공 실장과정에서 발생하였다. 이와 같은 문제를 개선하기 위해 프릿 글라스의 새로운 조성과 온도 uniformity를 유지하므로써, 프릿 글라스의 기포와 crack 발생없이 재현성 있게 진공 실장하였다. Leak channel 형성유무를 검증하기 위하여 챔버 자체의 펌핑 속도와 제작된 패널의 펌핑 속도를 비교하므로써, leak channel형성 유무를 평가할 수 있는 방법을 이용하였다. 이와 같은 방법을 이용하여, crack 또는 기포가 있는 패널은 leak channel을 형성하여 패널내의 진공을 유지할 수 없음을 검증하였고, crack 또는 기포가 없는 패널은 leak channel없이 패널내의 진공을 유지할 수 있음을 검증하였다. 결과적으로 진공 인-라인 실장시 가장 중요한 요인인 프릿의 변화를 분석하므로써, 고진공을 요구하는 FPD(PDP, FED, VFD)에 적합하게 적용할 수 있으며, 아울러 실장시 진공도를 개선하므로 패널내부의 오염을 최소화하여 디스필레이로서의 효율을 극대화할 수 있을 것이다.

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Design of Sample Chamber and Implementation of a 4-Channel Electrolyte Analyzer using ISFET Microsensor (ISFET 마이크로센서용 샘플챔버 설계 및 4채널 전해질 분석기의 구현)

  • Bae, Sang-Kon;Lee, Ho-Shin;Won, Chul-Ho;Chae, Seung-Pyo;Kim, Chang-Soo;Cho, Byung-Wook;Sohn, Byung-Ki;Kim, Myoung-Nam;Cho, Jin-Ho
    • Journal of Sensor Science and Technology
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    • v.6 no.4
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    • pp.307-315
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    • 1997
  • In this paper, a sample chamber which provide easy replacement of ISFET sensor and consume only small sample volume for electrolyte analysis is designed and a 4-channel electrolyte analyzer employing 2-point calibration method is implemented. In addition, we proposed sample loading detection circuit for minimizing sample and calibration solutions and implemented it. Developed electrolyte analyzer consists of control system part and flow system part. For the effective control of the developed hardware, system software is developed as three individual routines ; measuring routine, calibration routine and washing routine.

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Study on the Scan Field of Modified Octupole and Quadrupole Deflector in a Microcolumn (마이크로칼럼에서 변형된 4중극 디플렉터와 8중극 디플렉터의 스캔 영역 비교)

  • Kim, Young Chul;Kim, Ho-Seob;Ahn, Seong Joon;Oh, Tae-Sik;Kim, Dae-Wook
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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    • v.19 no.11
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    • pp.1-7
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    • 2018
  • In a microcolumn, a miniaturized electrostatic deflector is often adopted to scan an electron beam. Usually, a double octupole deflector is used because it can avoid excessive spherical aberrations by controlling the electron beam path close to the optical axis of the objective lens and has a wide scan field. Studies on microcolumns have been performed to improve the low throughput of an electron column through multiple column applications. On the other hand, as the number of microcolumns increases, the number of wires connected to the components of the microcolumn increases. This will result in practical problems during the process of connecting the wires to electronic controllers outside of the vacuum chamber. To reduce this problem, modified quadrupole and octupole deflectors were examined through simulation analysis by selecting an ultraminiaturized microcolumn with the Einzel lens eliminated. The modified deflectors were designed changing the size of each electrode of the conventional Si octupole deflector. The variations of the scan field and electric field strength were studied by changing the size of active electrodes to which the deflection voltage was to be applied. The scan field increased linearly with increasing deflection voltage. The scan field of the quadrupole deflector and the electric field strength at the center were calculated to be approximately 1.3 ~ 2.0 times larger than those of the octupole deflector depending on the electrode size.

A Study on Lunar Soil Simulant Pretreatment for Effective Simulation of Lunar Surface Environment (달 지상 환경의 효과적 모사를 위한 인공월면토 전처리에 관한 연구)

  • Chung, Taeil;Kim, Young-Jae;Ryu, Byung-Hyun;Shin, Hyu-Soung
    • KSCE Journal of Civil and Environmental Engineering Research
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    • v.40 no.1
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    • pp.51-58
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    • 2020
  • As interest in lunar exploration increases, studies on lunar surface environment simulation including a lunar soil simulant are being conducted. One of the problems when creating a vacuum environment with lunar soil is that it takes long time to reach high vacuum due to outgas from the soil. Most of the outgas is water, and the time to reach high vacuum can be significantly reduced by a pretreatment process that removes moisture adhering to the surface of the lunar soil before putting soil into a vacuum chamber. The existing soil drying methods were examined to determine how these methods were effective to remove moisture from the lunar simulant soil. Drying experiments of lunar soil samples were carried out using a dry oven, a microwave oven, direct heating method and a vacuum oven, and the results of the drying experiment were presented. Drying soil at 110℃ using a dry oven and drying soil by a microwave oven were not enough to remove moisture, and vacuum oven drying method and direct heating drying method at more than 200℃ were effective in water removal.

In-situ Observation of Electromigration Behaviors of Eutectic SnPb Line (공정조성 SnPb 솔더에 대한 실시간 Electromigration 거동 관찰)

  • Kim Oh-Han;Yoon Min-Seung;Joo Young-Chang;Park Young-Bae
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.12 no.4 s.37
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    • pp.281-287
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    • 2005
  • in-situ electromigration test was carried out for edge drift lines of eutectic SnPb solder using Scanning Electron Microscopy (SEM). The electromigration test for the eutectic SnPb solder sample was conducted at temperature of $90^{\circ}C$ and the current density of $6{\times}10^4A/cm^2$. Edge drift at cathode and hillock growth at anode were observed in-situ in a SEM chamber during electromigration test. It was clearly revealed that eutectic SnPb solder lines has an incubation stage before void formation during electromigration test, which seemed to be related to the void nucleation stage of flip chip solder electromigration behaviors.

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Large area diamond nucleation on the Si substrate using ECR plasma CVD (ECR 플라즈마 CVD에 의한 대면적의 Si기판상에서의 다이아몬드의 핵생성)

  • Jeon, Hyeong-Min;Lee, Jong-Mu
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.7 no.4
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    • pp.322-329
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    • 1997
  • ECR 마이크로 플라즈마 CVD법에 의하여 단결정 Si기판위에서 대면적에 걸쳐 방향성을 가진 다이아몬드박막을 성공적으로 성장시키고, 막 증착공정을 바이어스처리 단계와 성막단계의 2단계로 나누어 실시할 때 바이어스처리 단계에서 여러 공정 매개변수들이 다리아몬드 핵생성밀도에 미치는 효과에 관하여 조사하였다. 기판온도$600^{\circ}C$, 압력 10Pa, 마이크로파 전력 3kW, 기판바이어스 +30V의 조건으로 바아어스 처리할 때, 핵생성에 대한 잠복기간은 5-6분이며, 핵생성이 완료되기 까지의 시간은 약 10분이다. 10분 이후에는 다이아몬드 결정이 아닌 비정질 탄소막이 일단 형성된다. 그러나 성장단계에서 이러한 비정질 탄소막은 에칭되어 제거되고 남아있는 다이다몬드 핵들이 다시 성장하게 된다. 또한 기판온도의 증가는 다이아몬드 막의 결정성을 높이고 핵생성 밀도를 증가시키는 데에 별로 효과가 없다. ECR플라즈마 CVD법에서 바이어스처리 테크닉을 사용하면, 더욱 효과적임을 확인하였다. 총유량 100 sccm의 CH$_{3}$OH(15%)/He(85%)계를 사용하여 가스압력 10Pa, 바이어스전압 +30V마이크로파 전력 3kW, 온도 $600^{\circ}C$의 조건하에서 40분간 바이어스처리한 다음 다이아몬드막을 성장시켰을 때 일시적으로나마 제한된 지역에서 완벽한 다이아몬드의 에피성장이 이루어졌음을 SEM으로 확인하였다. 이것은 Si기판상에서의 다이아몬드의 에피성장이 가능함을 시사하는 것이다. 그밖에 라만분광분석과 catodoluminescence 분석에 의한 다이아몬드의 결정질 조사결과와 산소방전 및 수소방전에 의한 챔버벽의 탄소오염효과 등에 관하여 토의하였다.

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