• Title/Summary/Keyword: 리소그라피

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Nano Imprinting Lithography

  • 이응숙;정준호
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 2004.05a
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    • pp.12-12
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    • 2004
  • 나노임프린트 관련되어 전 세계적으로 지금까지 4개회사가 장비 및 공정기술 개발을 하고 있으나 대부분 수년 전에 창업한 회사이며, 4개의 나노임프린트 장비 관련 회사는 미국의 Nanonex, 오스트리아의 EVG사, 미국의 Molecular Imprint Inc. (MII),스웨덴이 Obducat이다. 개발된 장비의 대부분은 수작업이 필요한 연구용 장비로 현재 공정 기술개발을 위해 활용되고 있으며, MI사 장비가 최초로 양산 적용을 목표로 개발하여 국내에도 도입 되어있다. 일본에서는 아직 장비 개발이 시도된 바 없으며 현재 관련 공정 기술개발을 하고 있다.(중략)

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Five Mirror System with Minimal Central Obscuration and All Zero 3rd Order Aberrations Suitable for DUV Optical Lithography (모든 3차 수차를 영으로 하고 Central Obscuration이 최소화된 극자외선 리소그라피용 5-반사광학계)

  • 이동희;이상수
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.5 no.1
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    • pp.1-8
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    • 1994
  • A five mirror system with a reduction magnification(M=+1/5) is designed for DUV optical lithography. First, for spherical mirror systems, the numerical solutions of all zero 3rd order aberrations are derived and the 3-dimensional shape of the solution-domain is obtained. In these solutions, we select solutions which have as less residual aberrations and smaller central obscurration as possible and the aspherization is carried out to the last two spherical mirrors to obtain a system that has as higher NA as possible. Finally we obtain the system of which NA is 0.45, the central obscuration is about 25% and the resolution is about 650 cycles/mm at the 50% MTF value criterion and the depth of focus of 0.8${\mu}m$ for the nearly incoherent illumination (${\sigma}$=1.0) and the wavelength of 0.193${\mu}m$ (ArF excimer laser line).

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피라미드 크기가 PDMS Mold 구조에 미치는 영향

  • Pyo, Dae-Seung;Gong, Dae-Yeong;Jeon, Seong-Chan;O, Jeong-Hwa;Hong, Pyo-Hwan;Kim, Bong-Hwan;Lee, Jong-Hyeon;Jo, Chan-Seop
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.294-294
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    • 2013
  • 소수성을 띄는 표면은 자연으로부터 시작된 연구이다. 연잎, 소금쟁이 다리, 매미 날개 등 많은 자연의 표면은 150o보다 높은 접촉각을 지니기 때문에 물에 대한 반발이 심해져 약간의 기울임에도 쉽게 물방울이 굴러 떨어지고 이때 먼지를 제거할 수 있다. 자연현상을 이용해 물질 표면의 소수성 제어에 대한 다양한 연구가 진행 중이다. 친수성과 소수성은 일반적으로 표면에서 물방울의 contact angle 측정으로 확인 할 수 있다. Contact angle이 $90^{\circ}$ 작을 경우 친수성, $90^{\circ}$보다 클 경우 소수성이라고 한다. 이러한 기술을 이용해서 solar cell, 자동차 유리, 건물외벽, 등 다양한 분야에서 사용하고 있으며, 소수성 구조를 만드는 방법으로는 laser ablation, wet etching, 리소그라피 공정이 있는데, laser ablation의 경우 가격이 비싸다는 단점을 가지고 있으며, 반면 가격이 저렴한 wet etching의 경우 제어가 힘들다는 단점을 지니고 있다. 리소그라피 공정은 비싼 비용과 시간을 소비해야 하는 단점을 지니고 있다. 본 연구에서는 이러한 단점들을 개선하기 위해 공정 시간의 감소와, 저 비용으로 제작이 가능한 RIE (Recative Ion Etching)로 피라미드 구조를 만들었다. 형성된 구조물에 투명하고 균일하며, 낮은 계면에너지를 갖고 있는 PDMS (polydimethelsiloxine)로 mold을 수행하였다. RIE를 이용한 표면 구조는 Gas, Flow rate, Pressure, Power, Time 등을 조절하여 단결정 실리콘 기판 위에 피라미드의 크기를 조절하였다. 피라미드의 크기가 커짐에 따라 물과 PDMS가 닿는 면적이 줄어들면서 높은 소수성을 가지게 되는데, 높은 소수성 구조를 가지는 피라미드 형상을 찾기 위한 실험을 진행하였다. RIE 조건은 Flow rate: 30 sccm, Temperature: $10^{\circ}C$ Pressure: 100 mTorr, Power: 200 W, Process Time: 5~50 min으로 조절하며 공정을 수행하였고 RIE공정 후 SAMs (Self-Assembly Monolayers)을 진행하였으며, 마지막으로 PDMS를 이용하여 mold공정을 진행하였다. 그리고 SEM (Scanning Electron Microscope)장비를 이용하여 Etching된 단면을 관찰하였으며, 접촉각을 측정하였다. Process Time을 50 min로 공정하였을 때, 측정된 접촉각은 $134^{\circ}$였다.

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Total-internal-reflection Holographic Photo-lithography by Using Incoherent Light (비가간섭광을 이용한 내부전반사 홀로그래픽 리소그라피)

  • Lee, Joon-Sub;Park, Woo-Jae;Lee, Ji-Whan;Song, Seok-Ho;Lee, Sung-Jin
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.20 no.6
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    • pp.334-338
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    • 2009
  • Recently, with increasing demand for flat-panel display product, methods for large area patterning are required. TIR (total internal reflection) holographic photo-lithography isstudied as one of the methods of large area lithography. In conventional TIR holography, light sources for hologram recording and image reconstruction are coherent beams such as laser beams. If the image is reconstructed with an incoherent light source such a UV lamp, the image noise from the coherence of light will be reduced and the UV lamp will be a better light source for large area exposure. We analyzed the effect of spectral bandwidth and angular bandwidth of the light source in image reconstruction and verified image blurring with experiments. For large area patterning which has micro-scale line width, it is expected that TIR holographic photo lithography by UV lamp will become a low-noise and low-priced technique.

Fabrication of Superhydrophobic molecules Nanoarray by Dip-pen Nanolithography (나노리소그라피 기술을 이용한 초소수성 불소 실란 분자의 나노패턴 제조)

  • Yeon, Kyung-Heum;Kang, Pil-Seon;Kim, Kyung-Min;Lim, Jun-Hyurk
    • Journal of Adhesion and Interface
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    • v.19 no.4
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    • pp.163-166
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    • 2018
  • Dip-pen nanolithography(DPN) is an atomic force microscope (AFM) based method of generating nano- or micro-patterns. This technique has been used to transfer various ink materials on the substrate through water meniscus formed between AFM tip and the substrate surface. In this study, the heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyltrimethoxysilane (HDFDTMS) ink materials were coated on the pre-coated AFM tip surface with the HDFDTMS molecules. When the tip brought into contact with the hydroxyl-functionalized silicon surface, HDFDTMS ink molecules have been successfully transported from the tip onto the surface via water meniscus. The created array and passivation area showed stable structures on the surface, and the transport of ink materials from the AFM tip to the surface followed linear increase in pattern size with contact time.

$NH_3$ Gas Sensor Based on ZnO Nanowires as Sensing Material

  • No, Im-Jun;Sin, Baek-Gyun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.08a
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    • pp.378-379
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    • 2012
  • ITO 만큼 높은 전도성과 광학적 투과성을 갖는 Al-doped ZnO (AZO) 박막을 DC-Pulse magnetron sputtering을 이용하여 40 nm 두께로 증착 후 리소그라피 공정을 통해 $30{\mu}m$ 간격으로 패터닝 하였다. 간격 30 ${\mu}m$로 배열된 AZO를 촉매층으로 하는 수열합성법을 리사이클 공정을 반복하여 수행하여 ZnO 나노선을 성장시켰다. 이와 같이 AZO 전극 사이에 길이 $30{\mu}m$의 ZnO 나노선이 래터럴 구조로 연결된 소자의 $NH_3$ 가스감지 특성을 조사하였다. 합성된 나노선의 전기적, 광학적, 구조적인 특성을 분석하여 높은 가스 감지도를 예상할 수 있는 특성을 확인하였다. 제작된 가스센서를 진공 챔버에 설치 후 양 전극간에 동작전압(Operating voltage)을 1 V로 인가하여 고정한 후에 $NH_3$를 주입(Injection)과 퍼지(Purge)를 반복하며 그 주입량(10 ppm, 20 ppm, 40 ppm, 60 ppm)에 변화를 주었고, 그에 따른 전류변화를 관찰하여 $NH_3$ 가스감지특성을 평가하였다.

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Improvement of Extraction Efficiency of OLED by Nanosphere Lithography (나노스피어 리소그라피를 이용한 OLED 광추출 효율의 향상)

  • Han, Gwang-Min;Yeo, Jong-Bin;Lee, Hyun-Yong
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.24 no.12
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    • pp.1002-1009
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    • 2011
  • The light extraction efficiency of top-emitting organic light-emitting diode (OLED) was improved by insertion of corrugation patterns between indium tin oxide and organic layers. The corrugation patterns was fabricated by nanosphere lithography, which could form a self-assembled particle monolayer over a large area. The electrical and optical properties for the OLED devices fabricated by vacuum evaporation, were investigated. We have demonstrated the enhancement of the power efficiency of corrugated OLED. As a result, the power efficiency of the corrugated OLED was found to be more than 42%.

Optical Autofocus System for Wafer Steppers using PSD as the Position Sensor (PSD를 이용한 광학적 자동 촛점장치)

  • 박기수
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.4 no.2
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    • pp.157-161
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    • 1993
  • An optical autofocus system for a DUV KrF excimer laser wafer stepper was developed by using the PSD (Position Sensitive Detector) as the position sensor. The laser beam was incident on the surface of wafer and the reflected beam was magnified optically by a lens. And the beam was directed onto the surface of PSD by a mirror system. The spatial resolution of the autofocus system was found to be $0.03{\mu}m$.

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Nano stamp fabrication for photonic crystal waveguides (나노 광소자용 나노스탬프 제조공정 연구)

  • Jeong, Myung-Yung;Jung, Une-Teak;Kim, Chang-Seok
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.22 no.12 s.177
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    • pp.16-21
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    • 2005
  • Photonic crystals, periodic structure with a high refractive index contrast modulation, have recently become very interesting platform for the manipulation of light. The existence of a photonic bandgap, a frequency range in which the propagation of light is prevented in all directions, makes photonic crystal very useful in application where the spatial localization of light is required, for example waveguide, beam splitter, and cavity. However, the fabrication of 3 dimensional photonic crystals is still difficult process. A concept that has recently attracted a lot of attention is a planar photonic crystal based on a dielectric membrane, suspended in the air and perforated with two dimensional lattice of hole. The fabrication of Si master with pillar structure using hot embossing process is investigated for two dimensional, low-index-contrast photonic crystal waveguide. From our research we show that the multiple stamp copy process proved to be feasible and useful.