• Title/Summary/Keyword: 룸 상수

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Atomic Layer Deposition of TaC gate electrode with TBTDET

  • Jo, Gi-Hui;Lee, Si-U
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.22.1-22.1
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    • 2009
  • 차세대 CMOS 공정에서 유전상수가 높은 게이트 절연막과 함께 게이트 전극이 관심을 끌고 있다. 게이트 전극은 전도도가 높아야 하고 p-MOS, n-MOS에 맞는 일함수를 가져야 하며 열적 특성이 안정해야 한다. 탄탈룸 계열 탄화물이나 질화물은 게이트 전극으로 관심을 끌고 있는 물질이며 이를 원자층 화학증착법으로 박막화 하는 공정이 관심을 끌고 있다. 원자층 화학공정에서는 전구체의 역할이 중요하며 이의 기상반응 메카니즘, 표면 반응 메카니즘을 제대로 이해해야 한다. 본 연구에서는 TBTDET (tert-butylimido tris-diethylamido tantalum) 전구체의 반응 메커니즘을 FTIR(Fourier Transform Infrared)을 이용해 진단하였다. 또한 수소, 암모니아, 메탄을 이용한 열화학 원자층 증착, 플라즈마 원자층 증착 공정을 수행하여 박막을 얻고 이들의 특성을 평가하였다. 각 공정에 따라 반응 메커니즘이 달라지고 박막의 조성이 달라지며 또한 박막의 물성도 달라진다. 특히 박막에 형성되는 TaC, TaN, Ta3N5, Ta2O5 (증착 후 산소의 유입에 의해 형성됨) 등의 조성이 공정에 따라 달라지며 박막의 물성도 달라진다. 반응메카니즘의 연구를 통해 각 공정에서 어떠한 조성의 박막이 얻어지는 지를 규명하였고 박막의 밀도에 따라 산소유입량이 어떻게 달라지는 지를 규명하였다.

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Investigation of the Indoor Noise of Naval Vessel according to the Sound Absorption and Reverberation Time in a Cabin (함정 격실에 적용되는 흡음재와 잔향시간에 따른 실내 소음 분석)

  • Han, Hyung-Suk;Park, Mi-Yoo;Cho, Heung-Gi;Kim, Joong-Gil;Im, Dong-Been;Son, Yoon-Jun
    • Proceedings of the Korean Society for Noise and Vibration Engineering Conference
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    • 2010.10a
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    • pp.586-591
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    • 2010
  • The sound field can be classified to the direct and reverberant sound field. If the sound absorption material in a room is not applied sufficiently, the reverberant sound field increases and the sound pressure in a room also increases when the sound source exists in a room. Therefore, the reverberation time should be controled in order to reduce the reverberant sound as well as sound pressure level in a room. Even though the reverberation time is specified and researched widely in architectural engineering, it is rarely performed in a marine engineering. Therefore, in this research, the reverberation time in a navel vessel is researched related to the noise reduction in a cabin.

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