Proceedings of the Korean Institute of Industrial Safety Conference
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1997.11a
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pp.129-134
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1997
가스폭발사고를 방지하기 위하여 사용하는 방폭형 전기기기중에서 본질안전 방폭구조는 폭발위험장소에 설치되는 전기기기 및 배선의 어떤 부분에서 정상동작 및 사고시(단락, 지락, 단선 등)에 발생하는 불꽃, 아크, 과열이 주위에 있는 폭발성 가스에 점화되지 않도록 한 구조로서, 회로의 전압과 전류를 폭발성 가스의 점화한계 이하가 되도록 구성하는 원리이며 국내외에서 사용이 증가추세에 있다. (중략)
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.2
no.2
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pp.45-48
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2001
It is a quite duality concerning to control the temperature of single crystalline growth as it does when we get most of heat treating products. It is also important factor to control the temperature when we make the $Al_2$O$_3$(single crystalline) used to artificial jewels. glass of watches, and heat resistant transparent g1asses. Thus, it is a major interest to get the proper temperature in accordance with the time process while we are making mixture of oxygen and hydrogen to have the right temperature. In this paper. we will study of electrical valve positioning system with DC-Motor for the gas mixture to improve the quality of products.
본 논문은 기존의 가스차단기와는 다른 차단동작을 가지는 새로운 형태의 가스차단기에 대한 특징을 검토한 것이다. 기존의 차단기에서 움직이던 가동부가 고정되고, 반대로 고정부이던 피스톤이 움직인다. 또한 기존 차단기의 고정부였던 고정 아크접점에 MDDM(Motor direct drive mechanism)을 채용하고, 반대편에 피스톤과 연결되는 소형 유압식 조작기를 설치함으로서 양방향 차단기(dual motion circuit breaker)를 구현하였다. 국내에서는 처음으로 MDDM을 실제 차단기에 적용한 사례로 판단되며, 기본 차단동자특성을 분석하여 향후 초고압 차단기에 적용할 수 있는 가능성을 검토하였다.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.120.2-120.2
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2014
플라즈마 토치를 이용한 시료의 가스화용융 기술에 대하여 원리, 적용 분야, 그리고 현황에 대하여 소개한다. 플라즈마 토치는 아크방전이나 고주파에 의하여 상압 조건에서 기체를 열플라즈마로 만드는 장치이며, 산업적으로 대규모의 시료를 처리할 때는 주로 아크방전을 이용한 토치가 사용된다. 최근에는 이 플라즈마 토치가 주로 폐기물의 가스화 용융에 활용되고 있는데 이는 폐기물을 고온에서 처리할 경우 친환경적인 처리가 가능하며 경우에 따라서는 발생되는 합성가스를 이용하여 고효율로 전기를 생산할 수도 있기 때문이다. 또한 플라즈마 토치는 밀폐된 로에서 소량의 가스로 고온에서 동작할 수 있기 때문에 방사성폐기물이나 플럭스 등을 친환경적으로 용융하는 것이 가능하므로 이러한 적용 분야도 증가하고 있다. 이 발표에서는 플라즈마 토치기술과 이를 이용한 가스화/응용기술의 기본적인 소개와 함께 플라즈마 가스화용융기술을 이용한 폐기물의 가스화용융기술의 세계 현황과 국내현황, 그리고 GS플라텍의 기술 현황에 대하여 소개한다. 아울러 몇가지 구체적인 실제 플랜트를 소개하고 실제 가동 데이터와 상업적 운전 결과에 대하여도 소개하고자 한다.
A 500 Hz repetition rate excimer laser was developed as light source for pollution lidar. In this paper, the high repetitive output characteristics, the gas flow loop structure, and CR(clearing ratio) characteristics were investigated. Our laser system was constructed compact structure with a streamline gas flow loop and UV preionization. The real gas volume of laser is 10 liter. At 500 Hz repetitive operation, we have obtained average power of 53 watt with KrF laser gas. The variation of laser output, CR, and active volume are $\pm$6.7%, 2.3, and 2.0(H)$\times$1.2(W)$\times$56(L)=134 ㎤, respectively. Laser output power is declined to half at 3$\times$$10^6$ shots.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.6
no.5
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pp.373-377
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2005
In this paper the gas leakage controller in processing chamber for semiconductor manufacturing is proposed. A pressure sensor is connected between the final valve and the numeric valve. A pressure sensor signal and a numeric valve signal are controlled by a proposed digital circuit module. Gas leakage condition, producing by 2nd plasticity in semiconductor process, display at LED. The proposed controller module is useful for monitoring the gas flow for preventing the critical process gas leakage.
최근의 소형 분산 전원의 보급 필요성의 커짐으로 전력과 열에너지를 동시에 생산, 이용함으로서 종합 에너지 효율이 높고 공해 배출 및 소음 특성이 우수한 초소형 가스터빈 발전 시스템에 대한 수요가 급증하고 있다. 본 논문은 마이크로 가스터빈 시스템과 그 제어장치의 동작 상태를 모니터링 및 제어하기 위한 마이크로 가스터빈 감시 제어장치와 사용자 인터페이스 프로그램을 소개한다. 마이크로 가스 터빈은 초고속(수만$\sim$10만 RPM)으로 회전하여 발전을 하므로 터빈 및 전동기 설계 기술과 더불어 고성능의 제어 시스템을 필요로 한다. 마이크로 가스터빈의 감시 제어 시스템은 터빈, 발전기 및 전력 변환장치를 제어하는 고성능의 DSP 제어장치들과 고속 직렬 통신 방식으로 연결되어 시스템의 제어 및 상태 감시를 위한 최적의 솔루션을 제공함으로서 마이크로 가스터빈의 개발자와 운용자의 보조 역할을 담당한다.
본 연구에서는 반도체 제조 공정에 이용되는 가스의 흐름을 감지하고 제어하는 장치를 제안하였다 압력센서를 MFC(Mass Flow Controller)에 의해 제어되는 다음 단의 파이널밸브(Final Valve)와 챔버사이의 가스관에 부착시켜, 이 압력센서의 신호와 공압밸브의 동작 신호를 디지털 회로를 이용하여 실시간으로 제어하도록 하였다. 이로써 반도체 제조 공정 중에 발생할 수 있는 2차 소성물로 인한 가스의 흐름 제어와 관련된 시스템 고장을 LED를 통해 실시간으로 확인 가능하다. 또한 가스누출고장발생 시 반도체 제조 공정의 프로세스를 중단시켜 장비의 손상 및 안전사고를 예방하는 기능도 있다. 본 연구에서 개발된 모듈을 이용함으로써 가스밸브의 오동작에 의한 반도체/디스플레이 제조장비의 신뢰성 향상을 기할 수 있다.
Thick film $TiO_{2}/WO_{3}$ butane gas sensors were fabricated by the screen printing method and their gas sensing characteristics were investigated. The sensitivity of $TiO_{2}/WO_{3}$ thick film was higher than that of pure $WO_{3}$ film to butane. The $WO_{3}$ film with 2wt.% $TiO_{2}$ showed the highest sensitivity to butane. And the optimum heat treatment temperature was $650^{\circ}C$. That film showed the highest sensitivity to butane at the operating temperature of $350^{\circ}C$. The sensitivity of the film to 20000ppm butane in air was 80% at the operating temperature of $350^{\circ}C$.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.4
no.3
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pp.139-144
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2003
A flat type micro gas sensor was fabricated on the p-type silicon wafer with low stress Si$_3$N$_4$, whose thickness is 2 ${\mu}{\textrm}{m}$, using MEMS technology. WO$_3$ thin film as a sensing material for detection of NO$_2$ gas was deposited using a tungsten target by sputtering method, followed by thermal oxidation at several temperatures (40$0^{\circ}C$-$600^{\circ}C$) for one hour. NO$_2$ sensitivities were investigated for the WO$_3$ thin films with different annealing temperatures. The highest sensitivity was obtained for the samples annealed at $600^{\circ}C$ when it was operated at 20$0^{\circ}C$. The results of XRD analysis showed the annealed samples had polycrystalline phase mixed with triclinic and orthorhombic structures. The sample exhibits higher sensitivity when the system has less triclinic structure. The sensitivities, $R_{gas}/R_{air},$ operating at 20$0^{\circ}C$ to 5 ppm NO$_2$ of the sample annealed at $600^{\circ}C$ were approximately 90.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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