• ETRI Journal
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• 제10권1호
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• pp.96-108
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• 1988

반도체 소자의 집적도가 증가하고 최소선폭이 감소함에 따라 소자가공시 그것이 중간중첩 정도(overlay accuracy)에 미치는 요인을 파악하였고, 광학적 노광장치에서 오는 한계성을 촛점심도(depth of focus) 측면에서 고찰하였으며, 차세대 노광장치인 전자빔 및 X-선 노광장치에 대해 그 장단점을 파악하여 $0.5\mum$ 이하 선폭 가공시 적당한 노광장치에 대해 기술하였다. 또한 이상적인 패턴 전사를 위한 건식식각시의 여러 문제점을 나열하고 그 해결책을 논하였다.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2009년도 동계학술발표회 논문집
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• pp.225-226
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• 2009

본 연구에서는 마스크리스 노광장치의 두 프로젝션 광학계 사이에 있는 마이크로프리즘 어레이에 관한 연구이다. 마이크로프리즘의 원리와 종류에 대해 알아보고, 마이크로프리즘의 출사부의 모양에 따라 패턴의 모양이 변함을 확인하였다. 그리고 원하는 패턴을 만들 수 있는 마이크로프리즘을 설계하였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2004년도 춘계학술대회 논문요약집
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• pp.223-223
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• 2004

반도체 및 TFT LCD 제조 공정에서 핵심 공정인 Photo 공정은 PR(Photo Resist, 감광액) Coating -) Exposure(노광) -. Develop(현상)으로 이루어져 있다. 이중 Exposure 공정에 사용되는 장치가 노광장비이다. 노광장비는 Mask Aligner 라고도 불리는데, 그만큼 정렬기술이 노광장비에서는 중요하다. 반도체 및 TFT LCD 는 여러 충의 회로를 쌓아감으로써 층과 층간의 전기적 작용으로 생성되는 Tr.(Transistor) 또는 Diode 등의 수동소자를 집적하는 기술로 제조되는 것으로, 층과 층간의 전기적 작용이 설계한 바와 같이 이루어지기 위해선, 층과 층 사이의 정렬이 정확히 이루어져야 한다.(중략)

• 전자진흥
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• 제3권6호
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• pp.98-111
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• 1983

• 광학세계
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• 통권102호
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• pp.49-51
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• 2006

광학계에서 23년간의 풍부한 연구실적과 현장경험을 축적한 정진호 소장을 구심점으로‘프로들이 모인 기술혁신의 최고 기업’을 지향하는 프로옵틱스(대표·홍미혜/www.prooptics.co.kr)는 광학설계 및 광학계 조립기술에 있어 타의 추종을 불허한다. 지난해 연말에는 이천시 신사옥으로 입주하면서 새로운 도약의 발판을 마련한 이 회사는 최근 반도체 검사용 광학계 개발에 주력하고 있는 가운데 향후 세계최고의 반도체 스테퍼용 노광장치 및 인공위성 광학계의 제작에도 도전장을 내밀어 선진국과 당당히 어깨를 나란히 하는 기술우위 광학업체로 거듭나겠다는 각오를 내비친다.

• 광학세계
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• 통권109호
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• pp.42-43
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• 2007

프로옵틱스(대표.홍미혜/www.prooptics.co.kr)가 최근 Line CCD용 2um 분해능 PCB, LCD 검사 렌즈로 산업자원부 기술표준원으로부터 NEP 신제품인증을 받으며 다시 한번 저력을 과시했다. 광학산업계에서 24년간의 풍부한 연구실적과 현장경험을 바탕으로 축적한 정진호 소장을 구심점으로 한 전문 R&D기업인 프로옵틱스는 '남들이 못하는 고부가가치 제품에 도전한다'는 모토를 가지고 반도체 검사용 광학계 개발에 주력해 왔으며 향후에는 반도체 스텝퍼용 노광장치 및 인공위성 광학계와 같은 최고의 고부가가치 산업용 광학계 제작에 도전하여 세계속의 선도기술업체로 우뚝 서겠다는 목표를 가지고 있다.

• 광학세계
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• 통권129호
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• pp.17-19
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• 2010

한국표준과학연구원 우주광학센터(센터장.이윤우)는 2004년부터 대형 광학가공 및 측정기술을 집중적으로 개발하고 있으며 최근에는 항공우주연구원 등과 협력하여 고해상도 위성카메라 국산화를 위한 핵심 부품과 시스템 연구를 수행하고 있다. 최근엔 지름 2m의 광학망원경 제작 시스템을 독자 구축한 가운데 우주.항공 분야의 대형 비구면 광학거울 뿐 아니라 대형 디스플레이, 차세대 반도체 노광장치 등 다양한 광산업분야에도 적용하여 국내 광산산업이 기술적으로 한 단계 도약하는데 큰 역할을 하고 있다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2001년도 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1914-1917
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• 2001

3D Feed Horn Shape MEMS Antenna Array는 적외선 이미지 소자 또는 Tera hertz band 등에서 많은 응용을 할 수 있는 장점을 가진 MEMS 구조체 이다. 하지만 일반적인 MEMS 공정을 이용해서 3D Feed Horn Shape MEMS antenna array를 구현하기는 적합하지 않았다. 본 논문에서는 마스크와 웨이퍼가 일체 된 형태의 경사된 척이 초 저속으로 회전하면서 노광을 할 수 있는 새로운 방식과 미러 반사구조를 이용해서 평행광을 얻을수 있는 노광장치 (MRPBI : Mirror Reflected Parallel Beam Illuminator) System제작방법을 제안하였다. 3D Feed Horn Shape MEMS Antenna의 구조적인 high apect ratio의 특성에 의해서 SU-8과 PMER Negative Photo resist를 이용한 기본적인 실험을 통해 3D 구조체의 구현 가능성을 증명하였다. 또한 Microbolometer의 성능향상을 위한 이론적인 3D MEMS Antenna Model들을 HFSS(High Frequency Structure Simulator)을 이용해서 그 최적구조를 제안하고 3D MEMS Antenna Gain 값을 비교 분석하였다.

• 대한기계학회논문집A
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• 제24권9호
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• pp.2371-2380
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• 2000

In this paper, we developed the proximity exposure system with the vertical structure of glass and mask stage to minimize the mask's warp caused by the pull of gravity. This system, which canirradiate the ultra violet through 1440 H 850 $\textrm{mm}^2$ and 1330X 1015 $\textrm{mm}^2$ exposure area, has the followingcharacteristics. The glass stage can be inclined by 80 degrees at vertical structure to load substrate withsafety on it. When the glass stage is the vertical state, the gap control, alignment control and exposureof ultra violet are executed. So, it enhances the pattern uniformity by minimizing the mask's warp. Theglass stage can also control the gap between the mask and the substrate by the coarse and fine motioncontrol. The mask stage can adjust the posture of photomask to the position of substrate by imageprecessing method. The galss stage for the gap control and the mask stage for the alignment aredesigned independently for each function.

• 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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• 한국반도체및디스플레이장비학회 2006년도 추계학술대회 발표 논문집
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• pp.120-125
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• 2006

본 연구에서는 기존의 레이저 변위센서 대신 접촉형 변위센서를 이용하여 마스크-기판간 갭 간격 및 평형 조절 장치를 구현함으로써 기판의 표면 상태에 관계없이 정확한 마스크-기판간 갭의 조정, 평형 유지가 가능하도록 하였다.