X-선 광전자 분광법(XPD)을 이용하여 GaAs(110) 절개면의 결정구조를 이해하였다. 각분해 X-선 분광법으로 GaAs(110) 면의 내각준위 Ga 및 As 3d의 스펙트럼을 얻어, 이 내각 준위의 세기 비율(intensity ratio)의 방위각과 편각에 따른 변화를 SSC(Single Scattering Cluster) 모델에서 얻은 회절패턴으로 곡선분석(fitting)하여 절개면의 재구성 구조(reconstruction geometry)를 얻었다. 이 절개면의 재구성된 값은 다른 실험의 결과와 비슷하였다.
외국 정부가 공여한 기록관리 프로젝트를 통해 몽골 기록분야가 발전했다. 이 글은 외국의 기여에 의한 기록프로젝트의 내용과 결과를 소개한다. 몽골은 20세기에 들어와서 마이크로 필름제작을 통한 기록보존 등 외국의 발달된 기록보존제도를 성공적으로 받아들였다. 몽골민주화 이전에는 러시아와 동독의 공헌이 있었으며, 민주화 이후 일본, 중국 등으로부터 기록보존 장비를 지원받았다. 1990년대 후반 이후 정보통신기술의 미비로 인한 곤란을 겪었으며, ICA와 EASTICA에 참여하는 국제협력활동을 통해 기록관리 선진 지식과 국제표준을 접하고 이를 번역하여 기록관리 업무에 활용했다. 2006년에 한국 KOICA로부터 지원받아 디지털아카이브즈 프로젝트를 수행했다. 이 KOICA 지원프로젝트는 주로 장비를 지원했으며 외국이 지원한 몽골기록관리분야의 최대 프로젝트였다. 2010년에는 KOICA의 의회기록프로젝트가 수행되었다. 내각기록은 터키정부의 협력으로 대규모 디지털화프로젝트가 수행되었다. 외국정부의 지원에 의한 기록프로젝트는 몽골정부의 기록관리 정보화 계획과 이행으로 이어지고 있다.
이 연구는 아베 신조(安倍晉三) 일본 내각이 출범한 후 일본 과거사 문제에 대한 일본 입장에 대해 한국 언론이 어떤 반응으로 대응했으며, 내각 시기별 보도과정에 어떤 변화가 일어났는지를 엔트만(Enatman)의 프레임 분석틀과 치이(Chi)와 맥콤스(McCombs)가 제안한 '프레임 변화(framechanging)' 개념을 적용해 살펴보았다. 분석결과를 정리하면 다음과 같다. 한국 언론은 일본 정부의 과거사 인식 문제에 대해 반성적 회고를 하거나 미래 지향적 해법을 제시하기보다는 양국의 현안적 논쟁이나 쟁점을 중심으로 보도했다. 또한 국가적 단위 차원에서, 그리고 정치적 협상방식을 중심으로 일본 정부의 과거사 인식문제를 해결해야 한다는 점을 주장했다. 더 나아가 양국 간의 갈등원인으로 일본군 위안부 문제를 꼽았으며, 일본 내각을 갈등유발 주체로 지목했다. 이론적으로 한국 언론에서 자주 지적되어 온 정파적 이데올로기적 요인이 적어도 일본 정부의 과거사 인식 문제에 관한 한 두드러지게 작동하지 않았다. 한국 언론은 일본 정부의 과거사 인식 문제를 냉정하고, 객관적으로 평가하는 관찰자 입장에 서기보다는 정부가 지향하는 대(對)일본 정책을 지지, 옹호하거나 일본에 대한 국민의 감정을 전달하는 자국중심의 애국주의적 보도관행에 머물러 있다는 점을 중심으로 토론했다.
이 연구의 목적은 와동벽에서 다른 위치에서의 상아질 접착제의 두께를 평가하고, 이런 다양한 접착제의 두께와 미세 인장 강도 사이의 관계를 평가하기 위한 것이다. 여섯 개의 인간 대구치에 모든 상아질 면이 노출되도록 I급 와동을 형성하였다 3개의 치아는 filled adhesive ($Clearfil^{TM}$ SE bond)를 와동 내에 도포하였고, 다른 3개의 치아는 unfilled adhesives ($Scotchbond^{TM}$ Multi Purpose)를 도포하였다. 형광 현미경을 이용하여 접착층의 형태와 두께를 관찰하였다. 접착제의 두께는 수직 와동벽을 따라 와동 변연, 와동벽 1/2, 와동 내각의 세 지점에서 측정되었다. $Scotchbond^{TM}$ Multi Purpose와 $Clearfil^{TM}$ SE bond가 와동 변연과 와동벽 1/2, 와동 내각에서의 접착제의 두께를 재현하여 미세 인장 결합 강도를 측정하였다. 이 실험의 결과에서 두 가지 상아질 접착제 모두에서 와동 내각에서의 접착제의 두께가 와동 변연과 와동벽 1/2위치에서의 두께보다 두꺼웠으며, 와동 내각의 두꺼운 접착제의 미세 인장 결합 강도는 와동 변연과 와동벽 1/2에서의 얇은 접착제 두께의 미세 인장 결합 강도보다 유의성 있게 높게 나타났다.
전자회절법을 이용하여 K및 다양한 흡착자에 의한 Si(113)3 $\times$ 2 표면의 상변화를 관찰하였으며 광전자분광법을 이용하여 산소 노출량에 따른 가전자대 및 내각준위스펙트럼을 관찰하였다. 산소 흡착에 의해 가전자대의 표면상태가 내각준위에서 관찰되는 두 피크(S1, S2)와 동시에 사라지면서 3$\times$1 주기성을 보였다. 특히 이러한 변화가 동종물질인 실리콘 증착에서도 관찰되었으며 후열처리에 의해 3$\times$2 주기성으로 환원되는 것으로 미루어 Si(113)3$\times$2 표면의 3$\times$1으로의 초기 상전이가 실리콘 표면의 흡착자에 의해서 형성된 것이 아니며 기판 자체의 재배열과 관련되어 있음을 확인하였다.
Pd금속을 9$\AA$보다 많은 양을 Si표면에 증착한 경우에 형성되는 Pd-실리사이드는 순 수한 Pd금속이 쌓이기 전단계인 Pd양이 많은 $Pd_3Si$상이다. 또한, Si표면에 Pd금속을 1$\AA$이 상을 증착 하였을 때 형성되는 Pd-실리사이드는 $Pd_2Si$상이다. 그리고, Si표면에 Pd금속을 1 $\AA$보다 작은 양을 증착한 Pd 3d 내각준위의 분광을 보면, Pd의 증착 두께가 얇아질수록 Pd 3d 내각준위의 반높이에서 반너비(half width at half maximum:HWHM)의 크기가 넓어진 다. 매우 작은 양의 Pd금속을 Si표면에 증착한 경우에 반너비가 넓어진 이유는 많은 연구자 들이 찾아낸 Pd-실리사이드인 $Pd_2Si$상외에 Si양이 많은 새로운 Pd-실리사이드인 PdSi상이 존재하는 것 때문이다.
본 논문에서는 Stern이 제시한 경로적분식을 기본방정식으로 하여 예리한 임 의 노치내각을 가진(크랙의 경우 0˚), 즉 r$^{.lambda.}$ 형태의 특이점을 포함한 모우드-I 및 II 응력확대계수를 위한 특성해 및 보조해를 규정하고 선택모형문제로 예리한 노치 내각을 달리한 대칭 하중의 인장문제와 끝단 전단력하중하의 일단 고정보의 비대칭문 제의 응력확대계수를 기존의 재래식 유한요소법과 결합하여 계산하였다. 또한 각각 의 경우 적분경로 및 요소분할을 달리하여 수치해의 안정성 및 경로 독립성을 검토하 였다.
본고의 목적은 1894년부터 1910년까지 한국과 일본 공문서관리시스템의 중층적 종속적 구조를 밝히는 것으로, 기록사료학적 관점에서 분석하고자 한다. 연구대상 시기는 일제가 한국의 기록관리제도를 장악하여 조선을 침탈해가던 시기로서 그 내용은 일본내각과 군부가 대륙침략전쟁을 위하여 한국에 구축한 인프라 관련 기록과 통감부 설치와 관련하여 결재된 원본문서이다. 특히 일본제국이 청일전쟁 동학농민전쟁을 진압하기 위해 전주를 중심으로 한 전북지역에 전략적으로 구축한 인프라기록을 중심으로 검토하였다. 이를 위해 갑오개혁기와 통감부시기에 걸쳐 일본정부가 한국을 지배하기 위해 작성한 정책 예산 인사 결정 관련 상위레벨의 결재 원본 출처와 편성 실태를 밝히고, 한국 내각과 통감부가 작성한 하위레벨 공문서 실태를 분석하였다. 그 결과 본 논문에서는 이 시기 한국의 공문서관리제도는 일국사적 관점에서만 고찰해서는 안되며, 한 일간 수직적 연관구조 속에서 중층적이고 종속적인 시스템 속에서 파악해야 한다는 점을 제기하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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