This paper presents fabrication method of nano-structured PMMA substrates as well as evaluations of their optical transmittance. For anti-reflective surface, surface coating method had been conventionally used. However, it requires high cost, complicated process and post-processing times. In this study, we suggested the fabrication method of anti-reflective surface by the hot embossing process. Using the nano patterned master fabricated by anodic aluminum oxidation process. Anodic aluminum oxide(AAO) is widely used as templates or a molds for various applications such as carbon nano tube (CNT), nano rod and nano dots. Anodic aluminum oxidation process provides highly ordered regular nano-structures on the large area, while conventional pattering methods such as E-beam and FIB can fabricate arbitrary nano-structures on small area. We fabricated a porous alumina hole array with various inter-pore distance and pore diameter. In order to replicate nano-structures using alumina nano hole array patterns, we have carried out hot-embossing process with PMMA substrates. Finally the nano-structured PMMA substrates were fabricated and their optical transmittances were measured in order to evaluate the charateristivs of anti-reflection. Anti-reflective structure can be applied to various displays and automobile components.
Carbon nanotube (CNT) mats grown by thermal chemical vapor deposition on a micromachined substrate with a chrome heater and a diaphragm were investigated as sensing materials of resistive gas sensors for nitrogen dioxide ($NO_{2}$) gas. The aligned CNT mats fabricated into mesh and serpentine shapes by the patterned cobalt catalyst layer. CNT mats showed a p-type electrical resistivity with decreasing electrical resistance upon exposure to $NO_{2}$. All sensors exhibited a reversible response at a thermal treatment temperature of $130^{\circ}C$ for about 5 minutes. The resistance change to $NO_{2}$ of the mesh-shaped CNT mats was larger than that of the serpentine-shaped CNT mats.
We report a top-down approach based on atomic force microscopy (AFM) local anodic oxidation for the fabrication of the nano-pattern field effect transistors (FETs). AFM anodic oxidation is relatively a simple process in atmosphere at room temperature but it still can result in patterns with a high spatial resolution, and compatibility with conventional silicon CMOS process. In this work, we study nano-pattern FETs for various cross-bar distance value D, from ${\sim}0.5\;{\mu}m$ to $1\;{\mu}m$. We compare the optical characteristics of the patterned FETs and of the reference FETs based on both 2-dimensional simulation and experimental results for the wavelength from 100 nm to 900 nm. The simulated the drain current of the nano-patterned FETs shows significantly higher value incident the reference FETs from ${\sim}1.7\;{\times}\;10^{-6}A$ to ${\sim}2.3\;{\times}\;10^{-6}A$ in the infrared range. The fabricated surface texturing of photo-transistors may be applied for high-efficiency photovoltaic devices.
최근 나노임프린트 리소그래피 공정이 마이크로/나노 스케일의 소자 개발에 있어서 경제적으로 대량 생산할 수 있는 기술로 주목 받고 있다. 나노임프린트 공정에 대해서, 최근까지 수많은 연구가 이루어지고 있으나, 대부분 R&D 수준의 재료 및 제조와 관련된 실험적 결과 혹은 공정이해 수준의 수치해석적 연구에 그치고 있다. 본 연구에서는 유한요소법을 이용한 점탄성 해석모델을 완성하여 나노임프린트 공정의 충전과정 및 잔류층 형성을 해석하고, 패턴 전사 실험을 통하여 해석의 정확성을 검증하였다.
We investigated the influences of dielectric thin film coating on the optical characteristics of c-Si wafers with nanocone (NC) arrays using finite-difference time-domain (FDTD) simulations. Dielectric thin films on high-refractive-index surface can lower optical reflection and reflection dips appear at the wavelengths where destructive interference occurs. The optical reflection of the NC arrays was lower than that of the dielectric-coated planar wafer in broad wavelength range. Remarkable antireflection effects of the NC array could be attributed to beneficial roles of the NCs, including the graded refractive index, multiple reflection, diffraction, and Mie resonance. Dielectric thin films modified the optical reflection spectra of the NC arrays, which could not be explained by the interference alone. The optical properties of the dielectric-coated NC arrays were determined by the inherent optical characteristics of the NC arrays.
현재 상용화된 LED 또는 태양전지 등의 투명전극(TCO, transparent couducting oxide)재료로 높은 전기전도도와 광투과도를 갖는 ITO (Indium Tin Oxide)가 많이 채택되고 있다. 그러나 이에 사용되는 Indium의 단가가 높다는 문제점이 있어 이를 대체하기 위한 물질의 연구가 많이 이루어지고 있다. 특히 Aluminum을 doping한 ZnO (AZO)는 우수한 전기적, 광학적 특성 등으로 인해 ITO를 대체할 차세대 TCO 물질로 각광받고 있다. 본 연구에서는 sol-gel법을 및 direct patterning법을 이용하여 moth-eye 패턴을 포함하는 AZO 박막을 제작하였다. AZO sol을 제작하기 위하여 2-methoxyethanol, zinc acetate dihydrate 및 doping source로 aluminum nitrate nonahydrate를 사용하였다. 또한 광추출 향상 효과를 갖는 moth-eye 구조의 master stamp를 Polydimethyl siloxane(PDMS)를 이용하여 역상 moth-eye 구조의 mold를 복제하였으며, 이 복제된 mold와 제작된 AZO sol을 이용한 direct patterning법을 통해 나노급 moth-eye 구조를 갖는 AZO 투명전극층을 형성하였다. 제작된 moth-eye 구조를 갖는 AZO 투명전극층의 전기적 특성 평가를 위해, 4-point probe 측정 및 Hall measurement를 시행하였으며, 광학적 특성을 확인하기 위하여 UV-Visable spectrometer를 이용하여 투과도를 측정하였다. 본 연구를 통해 현재 상용화된 광전자 소자에 사용되고 있는 ITO 투명전극을 대체할 차세대 투명전극으로써 AZO 박막의 가능성을 확인하였다.
It has been issued to fabricate nano-scale patterns with large-scale in the field of digital display. Also, large-scale fabrication technology of nano pattern is very important not only for the field of digital display but also for the most of applications of the nano-scale patterns in the view of the productivity. Among the fabrication technologies, UV nano imprinting process is suitable for replicating polymeric nano-scale patterns. However, in case of conventional UV nano imprinting process using flat mold, it is not easy to replicate large areal nano patterns. Because there are several problems such as releasing, uniformity of the replica, mold fabrication and so on. In this study, to overcome the limitation of the conventional UV nano imprinting process, we proposed a continuous UV nano imprinting process using a pattern roll stamper. A pattern roll stamper that has nano-scale patterns was fabricated by attaching thin metal stamper to a roll base. A continuous UV nano imprinting system was designed and constructed. As practical examples of the process, various nano patterns with pattern size of 500, 150 and 50nm were fabricated. Finally, geometrical properties of imprinted nano patterns were measured and analyzed.
We synthesized ZnO nanowires patterned on Si substrate and investigated the field emission properties of the nanowires. Firstly, Au catalyst layers were fabricated on Si substrate by photo-lithography and lift-off process. The diameter of Au pattern was $50\;{\mu}m$ and the pattern was arrayed as $4{\times}4$. ZnO nanowires were grown on the Au catalyst pattern by the aid of Au liquid phase. The orientation of the ZnO nanowires was vertical on the whole. Sufficient brightness was obtained when the electric field was $5.4\;V/{\mu}m$ and the emission current was $5\;mA/cm^2$. The threshold electric field was $5.4\;V/{\mu}m$ in the $4{\times}4$ array of ZnO nanowires, which is quite lower than that of the nanowires grown on the flat Si substrate. The lower threshold electric field of the patterned ZnO nanowires could be attributed to their vertical orientation of the ZnO nanowires.
The LGP with nanometer structures resulted in enhancement of optical efficiency. Its fundamental mechanism is to recycle the polarized light via one round-trip through QWP(Quarter-Wave Plate) but the maximum efficiency to reach with this method is limited up to 2. To get the larger efficiency than this limited one a LGP with nanometer-patterned grating is suggested. For its optimum design the computer simulation is performed and suggests a grating that the spatial frequency between adjacent patterns is 500nm, its height 250nm, duty cycle 50%, and its cross section is rectangular. On the basis of simulation results the LGP with nanometer-patterned grating is fabricated and its optical properties such as angular intensity distribution and CIE color coordinates are characterized. The angles of transmitted light are nearly the same as the results expected from the generalized Snell's law. Thus the Mathematica code, developed in this experiment, will be applied to designing the optimized LGP. The LGP with nanometer-patterened grating shows the enhancement of transmitted intensity distribution up to 4.9 times.
Carbon nanotubes (CNTs) have attracted considerable attention as possible routes to device miniaturization due to their excellent mechanical, thermal, and electronic properties. These properties show great potential for devices such as field emission displays, CNT based transistors, and bio-sensors. The metals such as nickel, cobalt, gold, iron, platinum, and palladium are used as the catalysts for the CNT growth. In this study, diamond-like carbon (DLC) was used for CNT growth as a nonmetallic catalyst layer. DLC films were deposited by a radio frequency (RF) plasma-enhanced chemical vapor deposition (RF-PECVD) method with a mixture of methane and hydrogen gases. CNTs were synthesized by a hot filament plasma-enhanced chemical vapor deposition (HF-PECVD) method with ammonia (NH3) as a pretreatment gas and acetylene (C2H2) as a carbon source gas. The grown CNTs and the pretreated DLC filmswere observed using field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) measurement, and the structure of the grown CNTs was analyzed by high resolution transmission scanning electron microscopy (HR-TEM). Also, using energy dispersive spectroscopy (EDS) measurement, we confirmed that only the carbon component remained on the substrate.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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