Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2004.10a
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pp.1315-1318
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2004
Nano-scale fabrication of silicon substrate in an aqueous solution based on the use of atomic force microscopy was demonstrated. A specially designed cantilever with diamond tip, allowing the formation of damaged layer on silicon substrate easily by a simple scratching process (Tribo-Nanolithography, TNL), has been applied instead of conventional silicon cantilever for scanning. A slant nanostructure can be fabricated by a process in which a thin damaged layer rapidly forms in the substrate at the diamond tip-sample junction along scanning path of the tip and simultaneously the area uncovered with the damaged layer is being etched. This study demonstrates how the TNL parameters can affect the formation of damaged layer and the shape of 3-D structure, hence introducing a new process of proximal nanolithography in aqueous solution.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2004.10a
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pp.501-504
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2004
This paper describes the fabrication method for atomic force microscopy(AFM) tip with multi-walled carbon nanotube(MWNT). For making a carbon nanotube (CNT) modified tips, AC electric field which cause the dielectrophoresis was used for alignment and deposition of CNTs in this research. By dropping the MWNT solution and applying an electric field between an AFM tip and an electrode, MWNTs which were dispersed into a diluted solution were directly assembled onto the apex of the AFM tips due to the attraction by the dielectrophoretic force. In this case, we investigate the effect of the angle between a tip axis and an electrode. Experimental setup were presented, and then CNT attached AFM tips are successfully shown in this paper.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.17
no.8
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pp.812-822
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2004
This paper shows that carbon nanotubes can be applied to a nanopipette. Nano space in atomic force microscope multi-wall carbon nanotube tips is filled with molecules and atoms with charges and then, the tips can be applied to nanopipette when the encapsulated media flow off under applying electrostatic forces. Since the nano space inside the tips can be refilled, the tips can be permanently used in ideal conditions of no chemical reaction and no mechanical deformation. Molecular dynamics simulations for nanopipette applications demonstrated the possibility of nano-lithography or single-metallofullerene-transistor array fabrication.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2003.06a
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pp.682-685
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2003
In this paper, we propose the method to measure the Young's modulus of carbon nano tube which was manufactured by chemical vapor deposition. We also made the tungsten tip by electrochemical etching process and the carbon nano tube which was detangled through ultra-sonication with isopropyl alcohol was attached to the tungsten tip. This tip which was composed of tungsten tip and carbon nano tube can be used in Young's modulus measurement by applying DC voltage with counter electrode. The attachment process and measurement of the deflection of carbon nano tube was done under optical microscope.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.31
no.1
s.256
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pp.139-144
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2007
This paper presents development of carbon nanotube (CNT) tip modified by focused ion beam (FIB) and experimental results in non-contact mode of atomic force microscopy (AFM) using fabricated tip. We used an electric field which causes dielectrophoresis, to align and deposit CNTs on a conventional silicon tip. The morphology of the fabricated CNT tip was then modified into a desired shape using focused ion beam. We measured anodic aluminum oxide sample and trench structure to estimate the performance of FIB-modified tip and compared with those of conventional Si tip. We demonstrate that FIB modified tip in non contact mode had superior characteristics than conventional tip in the respects of wear, image resolution and sidewall measurement.
In this paper, we proposed a new method to control the length of carbon nano tube in the single CNT probe. A single CNT probe was composed of a tungsten tip made by the electrochemical etching and carbon nano tube which was grown by CVD and prepared through the sonication. The two components were attached with the carbon tape. Since the length of CNT can not be controlled during the manufacturing, the post process is needed to shorten the CNT. In this paper, we proposed the method of electrochemical process. The process was done under the optical microscope and the results were checked by SEM. The diameter of the carbon nano tube used in this paper was about 130nm because the above process had to be done with the optical microscope. Using the method proposed in this paper, we can control the length of the nano tube tip.
AFM tip has been used for surface profiling with a fine resolution, but there is a barrier to improve its performance because of the low aspect ratio. Many researchers have solved this problem with attaching carbon nanotube (CNT) to Si-tip. In this paper, we proposed the aligner system that composed of dual type stage system, and these stages could attach a carbon nanotube to tungsten-tip in vacuum condition. We used tungsten tip instead of Si-tip because of its conductivity. The aligner system proposed in this paper has 10 degree-of-freedom that 3 in the first stage and 7 in the second stage. With picomotors and piezotube, the first stage has the resolution about several tens of nm and the second stage has a resolution about a nm. We experimented on characterization of Nano Aligner System and operated picomotors in SEM environment.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.21
no.6
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pp.167-171
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2004
In this paper, we proposed a new method to control the length of carbon nanotube using electrochemical etching. We made a nano probe that was composed of the tungsten tip and multi-wall carbon nanotube. The nano probe was placed on the nano stage and the carbon nanotube on the nano probe was etched in the electrolyte solution with the applied voltage. The overall procedures were done under optical microscope and can be monitored. We can obtain a nano probe with proper length through this procedure.
Park, Myeong-Jun;Kim, Su-In;Kim, Gyeong-Jin;Park, Yun-Ha;Lee, Chang-U
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.08a
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pp.216.2-216.2
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2013
Nano-indenter는 팁을 박막 표면으로부터 일정 깊이까지 일정한 비율로 힘을 팁에 인가하여 그에 따른 박막의 반응을 in-situ로 확인하기 위하여 고안된 장치이며, 박막은 물론 나노 구조물까지 다양한 범위에서 기계적 특성을 분석하기 위하여 사용되고 있다. 이 연구에서는 유전체 및 확산방지막으로 사용되는 Hf을 rf magnetron sputter로 증착하였으며 이때 Ar 가스와 함께 $N_2$ 가스의 혼합 비율을 다르게 하여 HfN을 증착하였다. 질소 분압에 따라 증착된 HfN 박막은 고온중에서 질소의 영향을 확인하기 위하여 $800^{\circ}C$로 질소 분위기에서 20분간 열처리하여 이후 박막의 nano-mechanical 특성을 nanoindenter를 사용하여 확인하였고 최대 압입력을 250 ${\mu}N$으로 고정하였다. 측정결과 고온 열처리후 HfN 박막은 증착시 질소 분압이 0%에서 5%로 증가함에 따라 surface hardness는 8.6 GPa에서 8.1 GPa로 elastic modulus는 123.7 GPa에서 134 GPa로 각각 변화되는 것을 확인할 수 있었다. 특히, 질소 분압이 2.5%로 증착된 HfN 박막은 열처리후 박막 표면의 물리적 특성이 깊이 방향으로 층을 이루고 있어 nano-indenter 압입시 다수의 pop-in이 나타남을 확인하였다.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.23
no.8
s.185
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pp.39-46
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2006
Nano-scale fabrication of silicon substrate based on the use of atomic force microscopy (AFM) was demonstrated. A specially designed cantilever with diamond tip, allowing the formation of damaged layer on silicon substrate by a simple scratching process, has been applied instead of conventional silicon cantilever for scanning. A thin mask layer forms in the substrate at the diamond tip-sample junction along scanning path of the tip. The mask layer withstands against wet chemical etching in aqueous KOH solution. Diamond tip acts as a patterning tool like mask film for lithography process. Hence these sequential processes, called tribo-nanolithography, TNL, can fabricate 2D or 3D micro structures in nanometer range. This study demonstrates the novel fabrication processes of the micro cantilever and diamond tip as a tool for TNL using micro-patterning, wet chemical etching and CVD. The developed TNL tools show outstanding machinability against single crystal silicon wafer. Hence, they are expected to have a possibility for industrial applications as a micro-to-nano machining tool.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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