• Title/Summary/Keyword: 금속 표면 결함

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Voltage-Activated Electrochemical Reaction for Electrochemical Mechanical Polishing (ECMP) Application (ECMP 적용을 위한 전압활성영역의 전기화학적 반응 고찰)

  • Han, Sang-Jun;Lee, Young-Kyun;Seo, Yong-Jin;Lee, Woo-Sun
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.163-163
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    • 2008
  • 반도체 소자가 고집적화 되고 고속화를 필요로 하게 됨에 따라, 기존에 사용되었던 알루미늄이나 텅스텐보다 낮은 전기저항, 높은 electro-migration resistance으로 미세한 금속배선 처리가 가능한 Cu가 주목받게 되었다. 하지만 과잉 디싱 현상과 에로젼을 유도하여 메탈라인 브리징과 단락을 초래할 있고 Cu의 단락인 islands를 남김으로서 표면 결함을 제거하는데 효과적이지 못다는 단점을 가지고 있었다. 특히 평탄화 공정시 높은 압력으로 인하여 Cu막의 하부인 ILD막의 다공성의 low-k 물질의 손상을 초래 할 수 있는 문제점을 해결하기 위하여 기존의 CMP에 전기화학을 결합시킴으로서 낮은 하력에서의 Cu 평탄화를 달성 할 수 있는 기존의 CMP 기술에 전기화학을 접목한 새로운 개념의 ECMP (electrochemical-mechanical polishing) 기술이 생겨나게 되었다. 따라서 본 논문에서는 최적화된 ECMP 공정을 위하여 I-V곡선과 CV법을 이용하여 active. passive. trans-passive 영역의 전기화학적 특징을 알아보았고. Cu막의 표면 형상을 알아보기 위해 Scanning Electron Microscopy (SEM) 측정과 Energy Dispersive Spectroscopy (EDS) 분석을 통해 금속 화학적 조성을 조사하였다.

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Fabrication of MgO/NiCr bilayer coating via Plasma Electrolytic Oxidation and Radion Frequency Sputtering: Anti Corrosion Properties (플라즈마 전해 산화 및 고주파 스퍼터링을 통한 고내식성 MgO / NiCr 이중층 코팅 제조)

  • Gwon, Jeong-Hyeon;Na, Chan-Ung;Choe, Bo-Eun;Yun, Seong-Do
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2018.06a
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    • pp.63-63
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    • 2018
  • 본 연구는 플라즈마 전해 산화 (PEO) 및 RF (Radio Frequency) 스퍼터링을 이용한 2 단계 접근법에 의해 처리 된 MgO / Ni-Cr의 고내식성 이중층 코팅을 제조하기 위해 수행되었다. 이를 위해 $100mA/cm^2$ 교류 조건에서 180 s PEO를 한 후 150W 에서 900s RF 스퍼터링을 수행 하였다. 코팅의 형태는 주사전자현미경(SEM)을 사용하여 관찰되었으며 코팅의 상조성은 X-선 회절(XRD) 및 X-선 광전자 분광법(XPS)을 사용하여 분석하였다. SEM 이미지는 스퍼터링 된 Ni-Cr이 크랙의 대부분과 미세한 미세 공극을 덮어 코팅 결함이 감소함을 보여 주었다. 따라서, 코팅 된 샘플의 거칠기 값은 스퍼터링 공정 후에 감소되었다. 단면 이미지로부터, 스퍼터링된 코팅층은 낮은 두께 때문에 거의 검출되지 않았다. EDS, XRD 및 XPS를 사용한 조성 분석은 금속 상태의 형태로 Ni 및 Cr 존재를 나타내었고 XPS에서 NiCr2O4 부동태 피막이 검출되었다. MgO / Ni-Cr 이중층 코팅의 내부식성은 MgO / Ni-Cr 이중층을 가진 샘플의 금속 원소와 비교하여 우수한 부식 특성을 나타내는 전위 역학적 분극 시험 및 전기 화학적 임피던스 분광법으로 평가 하였다.

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리튬이온전지용 탄소기반 음극재의 리튬저장능력 향상을 위한 나노구조체 설계에 관한 연구

  • Kim, Han-Bin;Lee, Myeong-Hun;Kim, Yeon-Won;Kim, Dae-Yeong;Gang, Jun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2018.06a
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    • pp.137-137
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    • 2018
  • 이 연구에서는 리튬이온전지용 음극 활물질의 리튬이온 저장 용량을 최적화시키기 위한 새로운 방법이 제안되었다. 그 방법은 솔루션 플라즈마 프로세스를 사용하여 원자 단위의 리튬을 탄소 기반 물질의 내부에 도핑 시키고, 열처리를 통해 그 내부를 재설계하는 것이다. 리튬이온전지용 음극 활물질로 리튬금속 자체를 사용하려는 시도는 있었으나, 이는 충전 및 방전 사이클이 반복됨에 따라 리튬이 수지상으로 석출되어 내부를 단락시키거나, 리튬금속 자체의 폭발성에 의한 취급상의 제약이 있었다. 한편, 원자 단위로 탄소 내부에 도핑 된 리튬은 열처리 과정 동안 탄소 내부에서 확산함으로써 더 많은 리튬이 저장될 수 있는 공간을 만들었고, 사이클이 반복됨에 따라 서서히 충전 및 방전 반응에 참여함으로써 전지의 성능을 개선시켰다. 리튬이 도핑 된 탄소의 전기화학적 테스트 결과를 Fig. 1에 나타내었다. 실험 결과에서 보여진 초기 고용량 및 장기 사이클 특성은 탄소 내부에 도핑 된 리튬이 전지 성능의 향상에 중요한 역할을 한다는 것을 시사한다. 또한, 사이클이 반복됨에 따라 점차 증가하는 용량은 첫 사이클에서 형성된 solid electrolyte interphase의 비가역 용량을 보상할 수 있을 것으로 생각된다. 이상의 결과를 통해, 탄소 내부에 원자단위의 리튬을 도핑시키는 새로운 접근은 리튬이온전지의 성능 개선을 위한 효과적인 방법이 될 수 있을 것으로 보이며, 향후 리튬 이외의 다른 원소들, 즉 소듐과 같은 물질에 대하여 도핑을 시도한다면 새로운 분야에서 이와 같은 접근법이 유용하게 적용될 수 있을 것으로 사료된다.

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Formation of amorphous Ga2O3 thin films on Ti metal substrates by MOCVD and characteristics of diodes (MOCVD에 의한 Ti 금속 기판 위의 비정질 Ga2O3 박막 형성과 다이오드 특성)

  • Nam Jun Ahn;Jang Beom An;Hyung Soo Ahn;Kyoung Hwa Kim;Min Yang
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.33 no.4
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    • pp.125-131
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    • 2023
  • Ga2O3 thin films were deposited on Ti substrates using metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) at temperatures ranging from 350 to 500℃. Lower deposition temperatures were chosen to minimize thermal deformation of the Ti substrate and its impact on the Ga2O3 film. Film surfaces tended to become rough at temperatures below 500℃ due to three-dimensional growth, but the film formed at 500℃ had the most uniform surface. All deposited films were amorphous in structure. Vertical Schottky diodes were fabricated and I-V and C-V measurements were performed. I-V measurements showed higher operating voltages compared to a typical SBD for films grown at different temperatures. The sample grown at 500℃, which had the most uniform surface, exhibited the lowest operating voltage. Higher growth temperatures resulted in higher capacitance values according to C-V measurements.

연 잎 구조를 응용한 금속 표면의 발수 특성 개발

  • Byeon, Eun-Yeon;Lee, Seung-Hun;Kim, Jong-Guk;Kim, Yang-Do;Kim, Do-Geun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.167-167
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    • 2013
  • 최근 발수 특성은 자동차 표면, 건축 구조물, 가전제품 및 모바일 기기 등 여러 분야에서 사용되고 점차 그 필요성이 대두되고 있다. 이러한 발수성의 표면은 연 잎이나 곤충의 날개, 도마뱀의 발바닥 등 자연계의 여러 곳에서 관찰 할 수 있다. 특히 연 잎의 표면에서 나타나는 초발수 특성이 마이크로와 나노 크기의 돌기 구조와 표피 왁스 성분에 기인한다는 것이 밝혀지면서 이를 응용한 다양한 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 물리적인 표면처리로 마이크로와 나노 구조물을 형성하고 그 위에 표면에너지를 낮출 수 있는 물질을 증착하여, 발수 특성을 가지는 표면을 개발하였다. 알루미늄 표면에 마이크로 크기의 알루미나(Al2O3) 분말을 이용한 블라스트(blast) 공정으로 마이크로 구조를 형성하고, 선형 이온 소스(LIS)를 이용한 Ar 이온 빔 에칭으로 나노 구조를 형성하였다. FE-SEM 분석을 통해 수~수십 마이크로 구조 위에 나노 크기의 구조가 형성 된 것을 관찰하였다. 마이크로와 나노 구조가 형성된 알루미늄의 표면에너지를 낮추기 위해 trimethylsilane (TMS) 및 Ar을 이용한 플라즈마처리로 표면에 기능성 코팅막을 형성하였다. 그 결과 TMS처리 전에 비해 표면에너지가 99.75 mJ/m2에서 9.05 mJ/m2으로 급격히 낮아지고 접촉각이 $54^{\circ}$에서 $123^{\circ}$로 향상되었다.

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Highly dispersed $Ru/{\alpha}-Al_2O_3$ Catalyst development for selective CO oxidation reaction (선택적 CO 산화반응을 위한 고분산된 $Ru/{\alpha}-Al_2O_3$ 촉매개발)

  • Eom, HyunJi;Koo, KeeYoung;Jung, UnHo;Rhee, YoungWoo;Yoon, WangLai
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2010.06a
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    • pp.228.1-228.1
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    • 2010
  • 선택적 CO 산화반응(PrOx)을 위한 Ru이 고분산 담지된 $Ru/{\alpha}-Al_2O_3$ 촉매를 증착-침전법(deposition-precipitation)으로 제조하였다. 용액의 pH와 aging 시간에 따른 Ru 입자의 크기 변화와 분산도의 영향을 살펴보았으며 함침법(impregnation)으로 비교 촉매를 제조하였다. 촉매의 특성분석은 BET, TPR, CO-Chemisorption분석을 수행하여 촉매의 비표면적, 환원특성, 분산도를 알 수 있었다. 특성분석결과, 증착-침전법으로 제조한 $Ru/{\alpha}-Al_2O_3$ 촉매가 함침법으로 제조한 촉매에 비해 분산도가 높았으며, pH별 촉매 제조에서는 pH6.5로 제조한 촉매가 22.06%로 가장 높은 분산도를 보였다. 또한, 담체의 비표면적 영향에 따른 Ru 입자의 분산도를 살펴보기 위해 ${\gamma}-Al_2O_3$${\alpha}-Al_2O_3$ 담체를 적용한 결과, 비표면적이 작은 ${\alpha}-Al_2O_3$ 담체 표면에서 Ru 분산도가 ${\gamma}-Al_2O_3$ 담체에 비해 높았다. 이는 기공이 발달하여 비표면적이 넓은 ${\gamma}-Al_2O_3$ 담체는 소량의 Ru을 고분산 담지 시 담체 표면보다는 기공 내에 담지 되는 양이 많아 실제 반응 시 반응에 참여하는 표면 활성 금속양이 적음을 알 수 있다. 특히, 선택적 산화반응과 같이 표면에서 빠른 반응이 일어나는 경우, 기공 내부의 활성금속이 반응에 참여하기 어려워 반응 활성이 낮음을 PrOx 반응실험을 통해 확인할 수 있었다. PrOx test 조건은 GHSV 250000~60000, 온도는 80~200도, 람다값은 2~4로 성능 비교하여 실험 하였다. PrOx의 성능평가 결과 담체를 ${\alpha}-Al_2O_3$를 사용하여 deposition-precipitation방법으로 제조한 pH6.5 촉매에서 $100{\sim}160^{\circ}C$에서 90%의 가장 높은 CO conversion을 가지고 18%의 선택도를 가졌다.

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InGaN/GaN LED 덮개층의 선에칭 폭과 Ag 나노입자에 의한 발광효율 변화

  • Lee, Gyeong-Su;Kim, Seon-Pil;Lee, Dong-Uk;Kim, Eun-Gyu
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.08a
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    • pp.331-331
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    • 2012
  • InGaN/GaN 양자우물 LED소자의 내부양자효과 및 외부양자효과를 높이기 위해 많은 연구자들이 노력을 하고 있다. InGaN/GaN 양자우물 전광소자의 효율을 높이는 방법으로는 무분극 박막성장을 이용한 양자우물의 운반자 파동함수의 분리를 감소시키는 방법, 양자우물 위에 전자 차단층을 성장시키는 방법, 박막의 비발광 결함을 감소시키는 방법, 나노박막 또는 나노 입자를 이용한 표면 플라즈몬 효과를 이용하는 방법 등이 있다[1-3]. 본 연구에서는 은(Ag) 나노입자를 이용하여 InGaN/GaN 양자우물과 p-GaN 덮개층을 패턴에칭한 후, 그 위에 Ag 나노입자를 도포하여 표면 플라즈몬 효과를 이용한 InGaN/GaN 양자우물의 발광효율을 높이고자 하였다. c-면 방향의 사파이어에 유기화학금속증착법(MOCVD)으로 n-형 GaN를 2.0 ${\mu}m$ 성장한 후 그 위에 InGaN/GaN 양자우물 5층을 성장하였다. 또한 전자 차단층으로 AlGaN를 7 nm 증착한 후, p-type GaN를 100 nm 성장하였다. p-type GaN를 패턴하기 위해 포토리소그래피 와 유도결합 플라즈마 에칭공정을 거쳐 선 패턴을 형성하였는데, 이 때 에칭된 p-GaN 깊이는 약 90 nm 이었다. 에칭한 패턴크기가 LED소자의 전기적 및 광학적 특성에 미치는 영향을 알아보기 위해 전류-전압 측정과 photoluminescence 측정을 하였다. 그 후 급속열처리방법을 이용한 Ag 나노입자 형성과 표면플라즈몬이 소자의 발광효율에 미치는 영향에 대해 조사하였다.

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Evaluation of the Surface Crack by a Large Aperture Ultrasonic Probe (대구경 초음파 탐촉자를 이용한 표면균열 평가)

  • Cho, Yong-Sang;Kim, Jae-Hoon
    • Journal of the Korean Society for Nondestructive Testing
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    • v.24 no.2
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    • pp.180-185
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    • 2004
  • Conventional ultrasonic examination to detect micro and small surface cracks is based on the pulse-echo technique using a normal immersion focused transducer with high frequency, or an angle-beam transducer generating surface waves. It is difficult to make an automatic ultrasonic system that can detect micro and small surface cracks and position in a large structure like steel and ceramic rolls, because of the huge data of inspection and the ambiguous position data of the transducer. In this study, a high-precision scanning acoustic microscope with a 10MHz large-aperture transducer has been used to assess the existence, position and depth of a surface crack from the real-time A, B, C scans obtained by exploiting the ultrasonic diffraction. The ultrasonic method with large aperture transducer has improved the accuracy of the crack depth assessment and also the scanning speed by ten times, compared with the conventional ultrasonic methods.

Study of Xenon Adsorption on Alkaline-Earth Cation in Y Zeolite Based on Chemical Shift in $^{129}Xe$ NMR Spectrum (Y 제올라이트내에서 $^{129}Xe$ 핵자기 공명의 화학적 이동을 근거로 한 알칼리 토금속 양이온의 Xe 흡착 현상 연구)

  • Chanho Park;Ryong Ryoo
    • Journal of the Korean Chemical Society
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    • v.36 no.3
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    • pp.351-359
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    • 1992
  • Interaction of xenon with alkaline-earth cations in Y zeolite supercage was studied by xenon adsorption and $^{129}Xe$ NMR experiments. The CaY and the BaY samples were prepared by exchanging $Ca^{2+}$ and $Ba^{2+}$ into a high-purity NaY zeolite. Xenon adsorption isotherms of these samples were obtained by using a conventional volummetric gas adsorption apparatus in the range of 260 to 320 K and the chemical shift in the $^{129}Xe$ NMR spectrum of the adsorbed xenon was measured at 296 K. The chemical shift against pressure was quantitatively explained assuming that the xenon gas exchanged very rapidly between various adsorption sites consisting of zeolite-framework surface and alkaline-earth ion. From this analysis, it was found that the alkaline-earth ion adsorbed xenon more strongly than $Na^+$ ion and zeolite-framework surface. Baring on the difference of the adsorption strength, the number of the alkaline-earth cations present in the zeolite supercage could be estimated by analyzing the adsorption isotherm.

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Simultaneous Removal of Mercury and NO by Metal Chloride-loaded V2O5-WO3/TiO2-based SCR catalysts (금속염화물이 담지된 V2O5-WO3/TiO2 계 SCR 촉매에 의한 수은 및 NO 동시 제거)

  • Ham, Sung-Won
    • Clean Technology
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    • v.23 no.2
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    • pp.172-180
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    • 2017
  • Thermodynamic evaluation indicates that nearly 100% conversion of elemental mercury to oxidized mercury can be attained by HCl of several tens of ppm level at the temperature window of SCR reaction. Cu-, Fe-, Mn-chloride loaded $V_2O_5-WO_3/TiO_2$ catalysts revealed good NO removal activity at the operating temperature window of SCR process. The catalysts with high desorption temperature indicating adsorption strength of $NH_3$ revealed higher NO removal activity. The HCl fed to the reaction gases promoted the oxidation of mercury. However, the activity for the oxidation of elemental mercury to oxidized mercury by HCl was suppressed by $NH_3$ inhibiting the adsorption of HCl to catalyst surface under SCR reaction condition containing $NH_3$ for NO removal. Metal chloride loaded $V_2O_5-WO_3/TiO_2$ catalysts showed much higher activity for mercury oxidation than $V_2O_5-WO_3/TiO_2$ catalyst without metal chloride under SCR reaction condition. This is primarily attributed to the participation of chloride in metal chloride on the catalyst surface promoting the oxidation of elemental mercury.