Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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1992.10a
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pp.106-110
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1992
컴퓨터에 의한 입체 형상 이용 기술의 발달로 3차원 CAD 데이타 형상의 제품을 2차원 형상의 층으로 연속적으로 적층 하는 입체인쇄(Stereolithography)기술개발이 활발하게 이뤄지고 있어 부품설계와 생산에 혁신을 예고하고 있으며, 이 같은 입체 인쇄 기술 중에서 특히, 특정 주파수의 빛에 의하여 경화되는 광 경화성수지(Photopolymer)에 레이저(Laser)를 주사하면 표면의 미소경화부만 경화되는 성질을 이용하여 소재를 경화시키는 광 조형법리 각광을 받고 있다. 본 논문에서는 광조형법에 의한 모델성형시 레이저빔의 조사에 의하여 야기되는 광경화성 수지의 상변화에 의한 성형물의 수축 및 뒤틀림에 대한 연구를 수행하였다
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.21
no.3
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pp.171-179
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2004
Micro-stereolithography technology has made it possible to fabricate a freeform 3D microslructure. This technology is based on conventional stereolithography, in which a UV laser beam irradiates the open surface of a UV-curable liquid photopolymer, causing it to solidify. In micro-stereolithography, a laser beam of a few $\mu m$ diameter is used to solidify a very small area of the photopolymer. This is one of the key technological elements, and can be achieved by using a focusing lens. Thus, the solidification phenomena of the liquid photopolymer must be carefully investigated. In this study, the photopolymer solidification phenomena in response to variations in the scanning pitch of a focused laser beam was investigated experimentally. The effect of layer thickness on the solidification width and depth was also examined. These studies were conducted under the conditions of relatively lower laser power and relatively higher scanning speed. Moreover, the photopolymer solidification phenomena for the relatively higher laser power and lower scanning speed was investigated, too. In this case, comparing to the case of lower laser power and higher scanning speed, the photopolymer absorbed large amount of irradiation energy of the laser beam. These results were compared with those obtained from a photopolymer solidification model. From these results, a new laser-scanning scheme was proposed according to the shape of the 3D model. Samples by each method were fabricated successfully.
In this study, the composite coating materials with improved thermal insulation property were prepared by incorporating the hollow micro-spheres with high heat transfer resistance. The UV curable resin system consisting of hexa aliphatic urethane acrylate (UP118), trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), 1,6-hexanediol diacrylate (HDDA), and photoinitiator (Irgacure184) was employed as an organic binder. The glass substrates were coated by the prepared composites via bar coating method and cured under UV radiation. The optical transparency, thermal insulation property, adhesion, and surface hardness of the glass coated with composites containing different type of micro-spheres were investigated. The incorporation of micro-spheres with only 20 vol% of content resulted in remarkable improvement in the thermal insulation property of the coated glass. In addition, the transparent coated glass with light transmittance of about 80% could be obtained when silica micro-sphere (SP) was used as a thermal barrier.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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1997.10a
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pp.1080-1083
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1997
Micro-stereolithography is a newly proposed technology as a means that can fabricate 3D micro-structures of free form. It makes a 3D structure by dividing the shape into many slices of relevant thickness along honzontal surfaces, hardening each layer of slice with a laser, and stacking them up to a des~red shape. Scale effect becomes important in this micro-fabrication process, d~fferently from the conventional stereolithography. To realize this micro-stereolithography technology, we developed an equipment using Ar+ laser, xyz stages, controllers and all the optic devices. Using the equipment, a number of micro-structures were successfully fabricated including a winecup of several tens of micrometers.
A new alkali developable photosensitive poly(amic acid) (PAA-0) with transmittance at 400 nm was synthesized from cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 2-(methacryloyloxy)ethyl-3,5-diamino-benzoate and 1,3-bis(3-aminopropyl)-1,1,3,3-tetramethyl disiloxane in N-methyl-2-pyrrolidinone. Photosensitivity of the PAA-0 was investigated at 365-400 nm in the presence of a photoinitiator using a high pressure mercury lamp. The photo-cured poly(amic acid) was insoluble toward aqueous 2.38 wt% tetramethylammonium hydroxide solution. Negative pattern of the PAA-0 with 25 ${\mu}{\textrm}{m}$ resolution was obtained by developing with 2.38 wt% tetramethylammonium hydroxide solution after exposure of 600 mJ/$\textrm{cm}^2$ in the presence of 2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone as a photoinitiator. The patterned poly(amic acid) was converted to polyimide by thermal curing at 25$0^{\circ}C$ for 50 min, which showed chemical resistance against photoresist stripper as well as good transmittance at 400 nm.
We have investigated the effect of each ingredient in the light diffusing film (LDF) which was used as backlight unit (BLU) of TFT-LCD TV on physical, electrical, thermal and optical properties of LDF. In anti-blocking layer, the excellent anti-blocking ability was obtained when 0.5~1.5 wt% of acrylic bead was added, and good decay-time and water-stability were shown when 0.8 wt% of tertiary ammonium salt was added. Optimal results for adhesion strength, curing rates and flexibility on the surface of PET film have been obtained in the light diffusing layer by using acrylic polyol as a binder resin, and by addition of 30~35 wt% non-yellowing type HDI crosslinker. In addition, the highest normal luminance value was obtained by addition of 250 wt% poly-dispersive polystyrene ($20{\mu}m$ PS) and polymethylmethacrylate ($20{\mu}m$ PMMA) beads into the binder resin (100 wt%). The higher normal luminance could be got for PMMA beads than PS beads because of the transmittance difference.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.25
no.1
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pp.138-144
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2008
Micro-machining of a brittle material such as glass, silicon, etc., is important in micro fabrication. Particularly, micro-abrasive jet machining (${\mu}-AJM$) has become a useful technique for micro-machining of such materials. The ${\mu}-AJM$ process is mainly based on the erosion of a mask which protects brittle substrate against high velocity of micro-particle. Therefore, fabrication of an adequate mask is very important. Generally, for the fabrication of a mask in the ${\mu}-AJM$ process, a photomask based on the semi-conductor fabrication process was used. In this research a rapid mask fabrication technology has been developed for the ${\mu}-AJM$. By scanning the focused UV laser beam, a micro-mask pattern was fabricated directly without photolithography process and photomask. Two kinds of mask patterns were fabricated using SU-8 and photopolymer (Watershed 11110). Using fabricated mask patterns, abrasive-jet machining of Si wafer were conducted successfully.
Journal of the Korean Applied Science and Technology
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v.29
no.1
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pp.141-148
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2012
In this study, the composite coating materials with improved thermal insulation property were prepared by incorporating the hydrophobic silica aerogel. The surface modification of silica aerogel was performed to obtain UV curable urethane acrylate hybrid coating sols with good compatibility by using surfactant(Brij 56). The polycarbonate substrates were coated by the prepared composites and cured under UV radiation. The incorporation of aerogel with only 10 vol% of content resulted in remarkable improvement by about 28% in the thermal insulation property of the coated film, as compared with substrate. In addition, increasing aerogel content was found to give minor effect on the variation of optical transparency, adhesion, and surface hardness of the coated film.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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