• 제목/요약/키워드: 건식 흡착제

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건식 흡착제를 이용한 $CO_2$ 포집기술

  • 박수진;이슬이
    • 기계저널
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    • 제53권6호
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    • pp.26-30
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    • 2013
  • 지구온난화의 주범인 이산화탄소의 포집저장기술(CCS) 중 포집기술에 집중하여 기술하였다. 이산화탄소 포집기술은 연소 후 포집, 연소 전 포집, 순산소 연소 포집기술로 분류되는데, 그 중에서도 연소 후 포집기술은 기존발생원에 적용하기 가장 용이한 기술로 판단되고 있다. 따라서 이 글에서는 연소 후 포집기술에 적용되는 다양한 기술 중 건식 고체 흡착제의 종류 및 건식 고체 흡착제를 이용한 연소 후 이산화탄소 포집기술 개발의 현황에 대하여 기술하였다.

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유동층에서 dry sorbent를 이용한 CO2 제어에 관한 연구 (Study on Carbon Dioxide Control by Using Dry Sorbent in Fludized Bed)

  • 이상섭;김민철;유정석;문길호;오광중
    • 청정기술
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    • 제9권4호
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    • pp.179-187
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    • 2003
  • 건식 흡착제를 이용한 유동층 공정에 관한 기술은 이산화탄소 처리 비용을 철강하고 효율적으로 운전될 수 있는 신기술이라고 할 수 있다. 따라서, 본 연구에서는 유동층 공정에서 건식 흡착제를 사용할 때 조업변수에 따른 이산화탄소 제어에 대해 살펴보고, 이산화탄소 흡착능과 압력강하에 대해서 고정층 공정과 비교하였으며, 활성탄, 활성 알루미나, 분자체 5A, 분자체 13X의 이산화탄소 흡착능을 각각 살펴보았다. 연구 결과, 유동층 공정의 운전을 위한 기초자료를 얻을 수 있었고, 유속이 증가할수록 유동층 공정은 상대적으로 높은 이산화탄소 흡착능과 낮은 압력강하를 지니는 것으로 나타났다. 그리고, 분자체 5A는 다른 건식 흡착제들보다 1.1~3.0배 파괴점이 늦게 나타났으며, 1.1~2.7배 높은 흡착능을 보였다.

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건식 흡착제를 이용한 차량용 이산화탄소 저감장치 개발 ($CO_2$ removal system by dry sorbent for passenger train)

  • 조용대;이주열;박덕신
    • 한국철도학회:학술대회논문집
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    • 한국철도학회 2008년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.1735-1739
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    • 2008
  • Malfunction or inappropriate management of ventilation system in public transportation may cause unpleasant atmosphere or health problems to the old or feeble passengers. In this work, gaseous carbon dioxide removal system is developed and tested under the various serviced passenger cabins. Finally an optimum operating conditions for the $CO_2$ removal system will presented.

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중탄산나트륨이 첨가된 여과집진기를 이용한 염화수소의 제거 (Removal of HCl Using a Bag-Filter with Addition of Bicarbonate)

  • 이건주
    • 유기물자원화
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    • 제15권3호
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    • pp.121-128
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    • 2007
  • 이 연구의 목적은 배기가스로부터 생성된 신성가스 중 HCl의 제거를 위해 기존의 건식 반응기와 여과집진기를 사용하였다. 흡착제는 중탄산나트륨($NaHCO_3$)를 시용하였으며 흡착제($NaHCO_3$) 의 성능, 효율을 평가한다. 이러한 중탄산나트륨의 성능, 제거효율을 평가하여, 중탄산나트륨이 건식 반응기에서의 최적의 운전조건을 분석하였다. 체류시간, 당량비, 온도, 여과집진기의 압력등을 운전조건으로 하였으며 체류시간은 1.5sec로 고정하였고, 중탄산나트륨 주입비(당량비)를 1SR, 1.25SR으로 조절하였고, 온도는 $160^{\circ}C$, $180^{\circ}C$, $200^{\circ}C$로 하였고, 여과집진기의 압력은 210mmAq, 230mmAq, 250mmAq로 하였다. 이 연구에서는 온도가 큰 영향은 없고, 압력과 당량비가 많은 영향을 끼치는 것을 알 수 있다. 최적의 운전조건은 주입비 1SR에서 $180^{\circ}C$, 230mmAq이다. 이 조건에서의 제거율은 99.50%로 나왔다.

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Guanidine기반 이산화탄소 건식 흡착제 합성 및 흡착 특성 (Synthesis and Adsorption Characteristics of Guanidine-based CO2 Adsorbent)

  • 로즈말디 파시아;표성원;고영수
    • 공업화학
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    • 제28권4호
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    • pp.473-478
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    • 2017
  • 본 연구에서는 guanidine화합물인 1,5,7-triazabicyclo[4.4.0]dec-5-ene (TBD)를 세 종류의 실리카 기공에 함침하여 $CO_2$ 흡착제를 제조하고 $CO_2$ 흡착성능과 물리화학적 특성을 조사하였다. 이때 실리카 내 TBD 함침량을 변화시켜 흡착능과 흡착제 특성도 살펴보았다. TBD를 함침시킨 담체의 물리화학적 특성은 질소 흡/탈착 실험, FT-IR, 원소분석, 열중량분석을 이용하였다. TBD를 담체에 함침시킨 전후를 비교하면 표면적과 기공의 부피, 크기가 감소하고 함침시킨 TBD 몰 수가 증가할수록 감소폭은 증가하였다. $CO_2$ 흡착능은 TBD 6 mmol/g일 때 7.3 wt%로 가장 높았으며 그 이상 TBD의 함침 몰 수가 증가하면 블로킹 현상 등으로 흡착능이 감소하였다.

분리막을 이용한 공기 중 이산화탄소 제거 기술 (Membrane-based Direct Air Capture Technologies)

  • 유승연;박호범
    • 멤브레인
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    • 제30권3호
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    • pp.173-180
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    • 2020
  • 전 세계 화석 연료 사용이 지속적으로 증가함에 따라 공기 중 이산화탄소(CO2) 농도가 수 세기에 걸쳐 증가하고 있다. 대기로의 CO2 배출을 줄이기 위한 방법으로, 주요 배출원인 발전소와 공장에 적용할 수 있는 이산화탄소 포집 및 저장(carbon capture and sequestration, CCS) 기술이 개발되고 있다. 기후 변화 완화 정책에 따라 negative emission 기술로 언급되는 공기 중 CO2 직접 포집 기술(direct air capture, DAC)은 CO2 농도가 0.04%로 매우 낮기 때문에 기존의 CCS 기술에 적용된 기술과 달리 흡착제를 이용한 저농도 CO2 포집 연구에 집중되어 있다. DAC 분야는 주로 CO2의 흡착을 이용한 습식 흡착제, 건식 흡착제, 아민 기능화된 소재, 이온교환 수지 등이 연구되었다. 흡착제 기반 기술은 흡착제 재생에 따른 고온 열처리 공정이 필요하기 때문에 추가적인 에너지 소모가 없는 분리막 기반의 공기 중 CO2 포집 기술의 잠재력이 크다. 분리막은 특히 실내 공기 CO2 저감 환기 시스템 및 실내용 스마트팜(smart farm) 시스템의 연속적인 CO2 공급에 사용될 수 있을 것으로 기대된다. CO2 처리 기술은 기후 변화를 완화하기 위한 수단으로 개발이 지속되어야 하며 효율적인 공정 설계와 소재 성능 향상을 통해 공기 중 CO2 포집의 효율을 높일 수 있을 것이다.

LCD 공정용 C3F6 가스를 이용한 Si3N4 박막 식각공정 및 배출가스에 관한 연구 (A Study on Etching of Si3N4 Thin Film and the Exhausted Gas Using C3F6 Gas for LCD Process)

  • 전성찬;공대영;표대승;최호윤;조찬섭;김봉환;이종현
    • 한국진공학회지
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    • 제21권4호
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    • pp.199-204
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    • 2012
  • $SF_6$ 가스는 반도체 및 디스플레이 제조공정 중 건식식각 공정에서 널리 사용되는 가스이다. 하지만 $SF_6$ 가스는 대표적인 온실가스로서 지구 온난화에 큰 영향을 끼치기 때문에 반도체 및 디스플레이 공정에서 $SF_6$ 가스를 대체할 수 있는 가스의 연구가 필요한 상황이다. 그 후보군으로 떠오르고 있는 가스 중의 하나가 바로 $C_3F_6$ 가스이다. 이 가스를 이용하여 $Si_3N_4$ 박막을 건식식각 방법인 Reactive Ion Etching 공정을 수행하여 식각 특성에 관하여 연구하였으며, 흡착제 Zeolite 5A를 이용하여 식각공정 중 배출되는 가스 성분을 감소시켰다. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 장비를 이용하여 500 nm 두께의$Si_3N_4$ 박막을 증착하였으며, 노광 공정을 통해 패터닝을 한 후 Reactive Ion Etching 공정을 수행하였다. 그리고 Scanning Electron Microscope 장비를 이용하여 $Si_3N_4$ 박막의 식각된 단면과 식각율을 확인하였다. 또한 공정 후 흡착제 Zeolite 5A를 통과하기 전과 후에 배출되는 가스를 포집하여 Gas Chromatograph-Mass Spectrophotometry 장비를 이용하여 가스 성분을 측정 및 비교하였다.