• Clean Technology
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• v.24 no.3
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• pp.175-182
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• 2018

In this research, we investigated the cleanliness by optimizing the water content of the aqueous stripper in fluidic strip process. The stripping properties of the photoresist with optimized aqueous stripper were compared with the commercial organic stripper. The stripping performance was evaluated by electrical and optical characteristics on the surface of the transparent electrode that compare with stripped the transparent electrode surface and the rare surface before patterning by the photoresist. As a result of the photoresist stripping process of the organic stripper and the aqueous stripper optimized for water content, the aqueous stripper exhibited better electrical and optical characteristics than the organic stripper. In the case of the fluidic strip process with organic stripper, the photoresist dissolves in the stripper solution during stripping which can cause re-adsorption by contamination. Whereas that the aqueous stripper under development seems to decrease the photoresist dissolution in the stripper solution. Because the cyclodextrin contained in the stripper captures organic photoresist into hall of cyclodextrin which stripped through swelling and tearing. The photoresist residue captured by the cyclodextrin can be filtered. After the fluidic stripping process by different chemical stripping mechanism, the cleanliness of the organic stripper and aqueous stripper was compared and analyzed.

• The Science & Technology
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• v.17 no.10 s.185
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• pp.45-47
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• 1984

도전성 플라스틱 / 감광성수지 / 자기버블기억(Magnetic Bubble Memory) / 방사오염제거 기술 상용화

• Proceedings of the Korean Society of Radiological Science
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• 1993.05a
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• pp.10.2-10.2
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• 1993

• Polymer Science and Technology
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• v.1 no.1
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• pp.30-41
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• 1990

• The Optical Journal
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• v.11 no.4 s.62
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• pp.56-59
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• 1999

후지필름(주)이 지난 4월 새로 내 놓은 필름 뉴 수퍼리아 시리즈 기술의 핵심은 '제4감광층 기술(일명 뉴 리얼라 기술)'이다. 이것은 인간의 눈을 통해 본 것이 뇌에 도달하는 과정 중에 일어나는 변화를 필름에 도입하기 위해 억제와 색소 보정이라는 발상을 도입한 특허 기술이다. 이 기술을 채용한 필름은 기존 필름에 비해서 그린을 억제해서 옐로우가 보다 충실하게 재현된다.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2012.05a
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• pp.64.2-64.2
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• 2012

전자산업에서 소자를 제작하는 핵심공정으로써, 패턴을 형성하는 방식은 식각 마스크를 통해 이루어진다. 공정 순서는 원하는 물질을 증착한 후 사진공정 (photolithograpy)을 통하여 원하는 패턴의 감광제 식각마스크 (etch mask)를 형성하게 된다. 이후, 습식식각이나 건식식각을 통하여 물질의 불필요한 부분을 제거한 후 최종적으로 감광제 식각마스크를 제거하여 원하는 물질의 패턴을 얻게 된다. 최근에 소개된 잉크젯 프린팅 기술 (inkjet printing technology)은 나노 잉크를 이용하여 사진공정과 식각공정을 이용하지 않고, 직접 나노잉크를 분사하여 패턴을 형성하는 방법으로, 패터닝 공정을 단순화 시킬 수 있을 뿐만 아니라 각종 전자 산업의 환경오염물을 획기적으로 줄일 수 있는 친환경기술이다. 특히, OLED, O-TFT, RF-ID, PCB 분야 등 다양한 전자산업분야의 제조기술로서 응용하고자, 전도성 폴리머나 실버 (silver) 나노파티클 잉크를 이용한 전도성 라인 패터닝 (line patterning)에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 강연에서는 친환경 생산공정기술 측면에서의 잉크젯기술을 분석하고, 기술의 구성요소, 응용분야, 기술 동향에 관해서 소개하고, 또한 현재 한국생산기술연구원에 진행하고 있는 잉크젯 프린팅 기술 기반의 인쇄전자 분야에 관한 내용을 소개한다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2005.11a
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• pp.344-345
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• 2005

본 논문에서는 홀로그래피용 감광물질로서, 앞으로 가장 발전가능성이 있다고 기대되는 photopolymer에 대해서 언급하고자 한다. 홀로그램은 물체에서 방출되는 빛의 파면에 대한 정보를 기록하는 필름을 말하며 이러한 홀로그램을 이용한 기술을 홀로그래피라고 한다. 먼저 홀로그램 및 홀로그래피의 개념과 원리에 대해 서술하고 현재 사용되고 있는 홀로그래피용 감광물질인 silver-halide나 dichromatic gelatin 등에 대해 소개한다. 이와 비교하여 photopolymer가 가지는 특성과 장점을 기술하고 photopolymer를 기반으로 한 holography의 발전에 따른 차세대 holographic applications에 대해 알아본다.

• Journal of the KSME
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• v.50 no.1
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• pp.32-36
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• 2010

이 글에서는 전형적인 포토리소그래피 공정을 변형 적용하여 다양한 모양의 3차원 감광막 구조물을 형성할 수 있는, 다중노광 단일현상 고정, 다중코팅 단일노광 공정, 디퓨저 리소 그래피 공정, 리플로 공정 등 네 가지 기술을 소개한다.

• Polymer Science and Technology
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• v.10 no.1
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• pp.107-112
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• 1999

• Korean Journal of Materials Research
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• v.8 no.9
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• pp.871-875
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• 1998

High aspect ratio microstructures were fabricated by photolithography. The material for the microstructure was photosensitive glass which has good mechanical and electrical insulation properties. The photosensitive glass was exposed to ultraviolet light at 312nm through a chromium mask in which the structures are drawn. After heat treatment process over $500^{\circ}C$, the photosensitive glass was etched in a 10% hydrofluoric acid solution with ultrasonic conditions. Final dimension of the micro-framework was greatly dependent on the thickness of photosensitive glass, mask pattern, ultraviolet light exposure and etching conditions. The maximum aspect ratio of the micro-framework obtained from this work was over 30.