• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.08a
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• pp.412-412
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• 2012

갈륨비소(GaAs)는 수직공진표면방출레이저, 발광다이오드, 태양전지 등과 같은 광전소자에 널리 사용되는 물질이다. 그러나 높은 굴절률을 갖는 갈륨비소는 표면에서 30% 이상의 반사율을 갖기 때문에 광손실로 인해 소자의 성능이 저하된다. 따라서 표면 Fresnel 반사율을 낮출 수 있는 효율적인 반사방지막이 필요하다. 최근, 열적 불일치, 물질 선택, 접착력 저하의 단점을 가지고 있는 기존 다중박막을 대체하는 생체모방 서브파장 나노구조가 활발히 연구되고 있다. 이러한 구조는 공기(air)부터 갈륨비소까지 선형적인 유효굴절률 분포를 갖는 유효 단일박막과도 같기 때문에 소자 표면에서의 광손실을 줄일 수 있다. 더욱이, 자연계의 나방의 각막과 나비의 눈의 구조 형태를 모방한 반도체 생체모방 복합 눈(compound eye)은, 즉 마이크로 렌즈모양과 서브파장 나노격자구조의 복합적 형태, 표면에서 우수한 반사방지 특성을 나타낸다. 본 연구에서는, 포토리소그래피와 유도결합플라즈마 식각법을 이용하여 GaAs 기판 표면에 마이크로 렌즈 모양의 패턴을 형성한 후, 스핀코팅을 이용하여 나노 크기를 갖는 실리카 구를 도포하여 건식 식각함으로써 복합 눈 구조를 갖는 갈륨비소 반사방지막을 제작하였다. 제작된 샘플의 표면 및 식각 형상은 전자현미경(scanning electron microscope)을 사용하여 관찰하였으며, UV-vis-NIR spectrophotometer를 사용하여 반사율을 측정하였다.

• Journal of Aerospace System Engineering
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• v.16 no.5
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• pp.57-61
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• 2022

The various GaAs panel are applied widening for aircraft and aerospace structures. This study presented technology for the growth of large-diameter GaAs ingots greater than 4 inches through numerical analysis using temperature control technology. In this work, proposes manufacturing technology adapted to various temperature and environmental changes through temperature simulation. With the development of ingot technology, the possibility of future application increased by obtaining expected results with minor deviation.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.6 no.1
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• pp.19-31
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• 1996

To invetigate the impurity distribution in GaAs crystal grown by horizontal Bridgman method, we constructd the mathematical model describing heat transfer, mass transfer and fluid flow n transient growth of GaAs. Galerkin finite element method and implicit time integration were used to solve the equations and simulate the transient growth. The concentration distribution is similar to the case of diffusion controlled growth when Gr - 0. With the increase of Gr the concentration profile is distroted and the minimum solute concentration appears near the interface. As solidification prosceeds, interface deflection increases steadily and transverse segregation increases until mixing by flow becomes steady. The axial segregation increases with solidification. But, with high intensity of flow axial segregation becomes steady after short transient. At small and large Gr the result showed a good agreememt with the prediction Smith and Scheil.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2007.08a
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• pp.349-349
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• 2007

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2003.10a
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• pp.160-160
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• 2003

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2009.08a
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• pp.124-124
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• 2009

• Electronics and Telecommunications Trends
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• v.1 no.1
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• pp.80-90
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• 1986

고속연산 및 광통신 분야를 주도하기 위해 일본의 연구기관들은 갈륨비소(GaAs) 계열의 소재 연구를 적극적으로 추진하고 있다.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.202-202
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• 2004

화합물 반도체는 초고속, 초고주파 디바이스에 적합한 재료인 갈큠비소(GaAs), 인듐-인산듐(InP) 등 2 개 이상의 원소로 구성되어 있고, 실리콘에 비해 결정내의 빠른 전자이동속도와 발광성, 고속동작, 고주파특성, 내열특성을 지니고 있어 발광 소자 (LED)와 이동통신(RE)소자의 개발 등에 다양하게 이용되고 있다. 이와 같이 화합물 반도체는 고부가가치의 첨단산업 부품들로 적용되는 만큼 생산제조 공정에 해당하는 연마, 본딩, 디본딩에 관한 방법과 기술에 대한 연구가 꾸준히 진행되고 있다.(중략)

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.4 no.1
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• pp.83-91
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• 1994

We have constructed a vertical gradient freeze (VGF) grower for GaAs single crystals 2 inch in diameter and have grown semi-insulating GaAs co-doped with Cr and In. For the co-doped crystal, the segregation coefficients of the dopants remain unchanged when compared to those doped with only Cr or In. The concentration of Cr and in atoms range from about $2{\Times}10_{16} to 3{imes}10^{17} cm^{-3}$ and $2{\Times}10^{19} to 3{\Times}10^{20} cm^{-3}$ at the seed to the tail part of the grown crystal, respectively. The averaged dislocation etch pit density is found to be less than $8000 cm^{-2}$ throughout the ingot. It is also found that there is some evidence of lattice hardening for the crystal in which the dislocation density is decreased to less than $1000 cm^{-2}$ as In concentration increases. The resistivity increases abruptly from $10^{-2}$ up to $10^8$ Ohm-cm, while the carrier concentration decreases from $10^{16}$ to $10^8 cm^{-3}$ along the growth direction of the GaAs crystal. Semi-insulating properties can be obtained above a critical concentration of Cr of about $6{\Times}10{^16} cm^{-3}$ in the crystal. The main deep levels existing in the GaAs: Cr,In sample are two electron traps at $E_C-0.81eV, E_C-0.35eV$, and two hole traps at $E_V+0.89eV, E_V+0.65eV$.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2003.04a
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• pp.185-188
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• 2003

본 논문에서는 공진기 길이 변화에 따른 V-자형 알루미늄갈륨비소-갈륨비소(AIGaAs-GaAs) 양자선 레이저의 서브밴드 에너지 천이에 대한 스펙트럼과 시간적 스위칭 특성을 조사하였다. $300{\mu}m$ 이하의 짧은 공진기 길이를 갖는 V-자형 양자선 레이저는 공진기 손실의 증가로 인하여 n=1에서 n=2 서브밴드(subband)로의 양자화 천이(불연속적인 파장 스위칭)가 발생하였고, 초단 광펄스를 생성하는 이득 스위칭방식을 이용하여 초고속 레이징 특성을 관찰하였다.