• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2005.07a
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• pp.514-515
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• 2005

본 논문에서는 As-Ge-Se-S 박막에 (P:P) 편광빔을 이용하여 회절격자를 형성시키고 비편광 (Non-Polarization) 빔을 이용하여 생성된 격자를 소거시키고 그에 따른 회절효율을 조사 하였다. (P:P) 편광으로 기록된 회절 효율은 시간이 지나도 최대 회절효율의 변화가 없었으나 비편광 빔으로 기록된 회절효율은 시간이 지남에 따라 급격한 회절효율의 감소를 보인다. 따라서 (P:P) 편광으로 회절격자를 형성시키고 비편광빔으로 격자의 소거를 진행하여 약 83%의 회절격자의 소거가 이루어졌다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2000.08a
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• pp.174-175
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• 2000

1946년 S M MacNeille에 의해 연구된 유전체 다층 박막을 이용한 편광광속분리기는 브르스터 각 편광광속분리기(Brewster angle polarizing beam splitter) 혹은 맥닐 프리즘(MacNeille prism)으로 알려져 있으며 지금도 많은 광학계에서 사용되고 있다. 맥닐 프리즘은 두 개의 프리즘 사이의 빗면에 높은 굴절률( $n_{H}$ )을 갖는 물질과 낮은 굴절률( $n_{L}$ )을 갖는 물질을 λ/4 광학두께로 교번으로 한 고반사 다층박막 구조를 갖는다. 각 층의 경계면에서 브르스터 각으로 입사할 경우 p-편광파는 투과하고 s-편광파는 부분적으로 반사한다. 편광광속분리 정도는 p-편광파와 s-편광파의 투과율( $T_{p}$, $T_{s}$ ) 혹은 반사율( $R_{p}$, $R_{s}$ )의 비로 나타내며 이를 소광비(extinction ratio)라 한다. (중략)(중략)략)

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.42-42
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• 2011

본 연구에서는 광학소자에 폭넓게 이용되는 AlGaP III-V족 화합물 반도체 중에서 한쪽 끝 이 종화합물인 AlP의 유전함수를 0.75~5.05 eV의 에너지 영역에서 타원편광분석법을 이용하여 분석하였다. AlP는 산소와 급격히 반응하기 때문에, 대기 중에서 물질 고유의 광특성이 유지되기 어려울 뿐만 아니라, 박막 위에 생성되는 산화막 때문에 순수한 AlP의 유전함수 측정이 불가능 하다. 본 연구에서는 물질의 유전함수에 미치는 산화 효과를 최소화하기 위하여 Molecular Beam Epitaxy로 성장한 $1.0{\mu}m$ 두께의 AlP 박막을 초고진공 상태의 chamber 안에서 타원편광분석기를 이용하여 실시간으로 측정하였다. 박막의 투명도에 의해 나타나는 간섭 pattern과 표면거칠기 효과로 인한 유전함수의 왜곡을 보정하기 위하여 변수화 모델이 이용되었으며 다층 변수화모델 계산을 통하여 순수한 AlP의 유전함수를 얻어낼 수 있었다. 본 연구에서 측정된 순수한 AlP의 유전함수는 타원편광분석기를 이용한 최초의 실험결과로서 이차미분을 이용한 전이점 (Critical Point) 분석결과 이론적인 electronic band structure에서 $E_1$, $E_1+_{{\Delta}_1}$, $E_2$에 해당하는 전이점들을 확인할 수 있었다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.8 no.4
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• pp.260-266
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• 1997

Holographic optical elements for polarization separation (HPS) are fabricated in a dichromated gelatin(DCG) thin film of 7${\mu}{\textrm}{m}$ thickness. The polarization properties of HPS is characterized by measuring diffraction efficiency with several physical parameters like exposure time, incident angle and read-out polarization angles. The experimental data are compared with theoretical results based on Kogelnik's coupled wave theory, which shows good agreement. It is also found that the HPS element has a very high extinction ratio of polarization over 500:1 for S and P polarizations, respectively, with He-Ne laser wavelength. We also propose an optical switch optical interconnects by using HPS elements.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.08a
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• pp.63-63
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• 2012

편광분석법(ellipsometry)은 대상 물질의 유전율 함수의 실수부와 허수부를 Kramers-Kronig 관계식의 도움 없이 그 물질상수를 정확히 측정할 수 있는 매우 우수한 기술이다. 이 기술의 큰 장점 중 하나는 빛의 편광상태의 변화를 이용한 비파괴적인 방법으로써 실시간 측정이 가능하며, 박막의 두께측정의 오차범위는 0.1 nm 이하로써 매우 정확하다는 것이다. 본 연구자는 이러한 우수한 측정 기술인 편광분석법을 고진공의 분자살박막증착장치(MBE) 와 결합하여 AlSb, AlP의 유전율 함수를 측정하였다. Al 계열을 포함하는 반도체 화합물은 Al의 산소친화력이 강해 대기 중에서 순수한 유전율 함수를 얻기가 불가능하다. 하지만 본 연구실에서 초고진공 상태의 MBE 챔버에서 시료를 성장시키는 동시에 실시간으로 편광분석기를 이용하여 측정하였고, 지금까지 발표된 결과들 중 가장 순수한 상태의 AlSb 유전율 함수를 얻어낼 수 있었다. 또한 순수한 AlP의 유전함수를 측정할 수 있었고, 이는 편광분석기를 이용한 최초의 실험결과로써 이차미분을 이용한 전이점 분석결과 이론적인 전자밴드구조에서 E1, E1+${\Delta}1$, E2에 해당하는 밴드갭들을 확인할 수 있었다. 또한 표면의 원자배열 구조와 실시간으로 일어나는 그들의 역학적인 현상들에 관한 정보를 얻을 수 있는 surface photoabsorption (SPA)를 metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD)에 장착하여 실시간 모니터링이 가능하도록 하였다. SPA를 이용하여 GaAs/AlGaAs 양자우물구조의 성장을 원자층 수준으로 실시간 모니터링을 할 수 있었다. 그리고 SPA를 이용하여 MOCVD 안에서 InP에 As가 흡착 및 탈착되는 현상을 분석하여, As의 흡착이 두 단계에 의해 이루어짐을 분석하였다. 그리고 편광분석법의 빠르고 정확한 측정 기술을 규칙적인 구조체에서 전자기파의 회절을 구할 수 있는 Rigorous Coupled-Wave Analysis (RCWA) 계산방법과 결합하여 나노구조의 기하학적인 모양을 정확하고 빠르게 구할 수 있었다. 본 연구를 위해 규칙적인 3차원 Si 구조체 제작하여 편광분석기로 측정하고 $SiO_2$와 표면 거칠기를 고려하여 RCWA로 분석한 결과, 규칙적인 Si 구조와 산화막 층까지 정확하게 분석할 수 있음을 확인하였다. 또한 규칙적인 나노구조분석 연구를 넘어 불규칙적인 나노구조에 대한 분석 가능성을 보이기 위해 InAs 양자점을 증착하여 분석하였고, 이를 통해 편광분석법과 RCWA를 이용하여 불규칙적인 나노구조의 모양과 크기, 분포의 분석이 가능함을 보였다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2007.02a
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• pp.271-272
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• 2007

p 편광 레이저광이 금속 표면에 입사할 경우에 있어서, 금속 표면에 작용하는 법선방향 전기력을 입사각에 대한 함수로서 이론적으로 탐구하였다. 입사각이 90 도에 근접할수록 큰 값이 얻어지고, 그 방향은 금속 표면에 수직하게 밖으로 잡아당기는 방향임을 알아내었다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 1996.09a
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• pp.30-30
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• 1996

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.13 no.2
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• pp.140-145
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• 2002

We measured the absorption rate of a Nd:YVO$_4$crystal with a thickness of 1 mm and the output power characteristics of a cw Nd:YVO$_4$/KTP laser with respect to the change of wavelength and the polarizations of a tunable Ti:sapphire pump laser with a linewidth of 0.2 nm. In the case of S-polarization (E┴$\pi$) and P-polarization (E∥$\pi$) of a pump laser, the maximum absorption rate of the crystal was 82% at 809.4 nm and 98% at 808.8 nm, and slope efficiencies for the output power of the Nd:YVO$_4$laser (1064 nm) were 43% and 52%, respectively. The maximum Nd:YYO$_4$laser output power of 516 mW was obtained from the P-polarization pump laser of 1000 mW. As a result of an intracavity frequency-doubling, slope efficiency for the output power of the Nd:YVO$_4$/KTP green laker (532nm) was 23% and the maximum output power of 205 mW with the beam quality (M$^2$) of 1.42 was obtained from the P-polarization pump laser of 1000 mW.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.8 no.2
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• pp.149-153
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• 1997

We demonstrate the operating characteristics(center wavelength, bandwidth, TE/TM polarization, tuning range) of grating-assisted co-directional coupler(GACC) filter fabricated with InGaAsP compound semiconductor. A design of waveguide structure has been focused on the narrow bandwidth characteristics of the filter. Reactive ion etching technique was employed for the uniform waveguide formation. The bandwidths(FWHM) and center wavelengths of the fabricated GACC filter were measured by 1.5 nm and 1530.6 nm for TE polarization and 1.3 nm and 1494.0 nm for TM polarization. This is the one of the narrowest bandwidth at 1530 nm region ever reported. The center wavelength shifted form 1530 nm to 1538 nm when the current of 100 mA was injected at 4.5 mm-long device. Good agreement between the designed and measured operating characteristics for some waveguide structures is demonstrated.

• Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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• v.4 no.5
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• pp.1135-1142
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• 2000

In this study, we fabricated a 1.55um polarization-insensitive semiconductor optical amplifier(SOA) with rectangular buried heterostructure using a InGaAsP/InP double heterostructure wafer. Measured characteristics of the fabricated SOA are that 3dR bandwidth is 35nm and 3dB saturation output power is 4dBm. Maximum gain under the 150mA CW driving condition is 19.4dB. We measured the ASE(amplified spontanouse emission) Power spectrum or n and TM mode in the fabricated SOA using ASE measurement system and knew that distributions of the TE and TM mode about the maxinum region are nearly coincident. this shows the fabricated SOA is a polarization-insensitive.