The purpose of this experiment is to elucidate the reaction mechanism concerning to the formation of crystalline BaTiO3 synthesized by adding the pH control agent(KOH soln) in TiCl4 and BaCl2 solution (Wet direct synthetic method). In this expeirment, it is identified that the amorphous barium-titanate having Ba-O-Ti bonding is formed above pH5 due to the -OH- ion and Ti-gel is formed below pH5 due to the polymerization of metatitanic acid. The bonding of the amorphous Ba-O-Ti is identified by FT-IR spectrum and crystallization temperature is about 82$0^{\circ}C$. If the pH of the above system according to the -OH- ion concentration is above 13.8, the polymerized metatitanic acid will be depolymerized and produce [TiO3]2+ion and crystalline BaTiO3 is formed by reacting the produced [TiO3]-- ion with the active Ba++ ion.
SrTi $O_3$(001) 단결정 기판 위에 졸-겔 스핀코팅으로 $SrBi_2(Ta,Nb)_2O_9$ 박막을 도포하고 그 결정화 과정을 고온 X-선 회절분석 (HTXRD)으로 추적하면서 Pt(111)/Ti/ $SiO_2$/Si 위에 성장한 박막과 비교하였다. SrTi $O_3$(001) 단결정 기판 위에 도포된 $SrBi_2Nb_2O_{9}$ 박막은 fluorite-like phase와 같은 transient phase를 거치지 않고 곧바로 순수한 $SrBi_2Nb_2O_9$ 상으로 결정화가 시작되었으며 결정화가 시작되는 온도인 ${\sim}540^{\circ}C$부터 c축 배향성장하였다. 또한 $SrB i_2(Ta,Nb)_2O_9$ 박막은 Ta/Nb 비에 관계없이 $SrTiO_3$(001) 위에서 모두 $(00{\ell})$로 배향되었으며, 코팅 횟수가 늘어나 필름의 두께가 증가함에 따라 c축 배향성은 미세한 감소를 보였다. $SrBi_2Nb_2O_9/SrTiO_3$단면을 TEM으로 관찰한 결과 $SrBi_2Nb_2O_9$은 대체로 불규칙한 크기의 다결정체로 되어 있었으나 계면 부근에서는 [001]$_{SBN}$//[001]$_{SrTi}$$O_3$/, [100]$_{SBN}$//[100]$_{SrTi}$$O_3$/라는 결정학적 관계를 가지며 에피탁샬 성장했음을 알 수 있었다.있었다.
$Fe_xTi_{l-x}O_2$ films (x=0.07 and 0.16) were grown by oxygen-plasma-assisted molecular beam epitaxy on rutile $TiO_2$(110). The same growth conditions were applied for both films in order to determine surface characteristics of grown films as a function of Fe composition. The films were characterized by several surface analysis techniques. The oxidation states of Ti and Fe in $Fe_xTi_{l-x}O_2$ films were found to be +4 and a mixture of +2 and +3, respectively. More $Fe^{3+}$ species exist in higher Fe doped film of $Fe_{0.16}Ti_{0.84}O_2$. The morphology of $Fe_{0.07}Ti_{0.93}O_2$ film shows tall rectangular and cylinderical islands growth on flat substrate-like surface. On the other hand, $Fe_{0.16}Ti_{0.84}O_2$ film consists of round shaped small islands showing somewhat rougher surface compared to the surface of $Fe_{0.16}Ti_{0.84}O_2$ film.
The crystal structures of (Na0.3Sr0.7)(Ti0.7M0.3)O3 (M=Ta, Nb) compounds were determined using the Rietveld method. Due to the tilting of a oxygen octahedron, (Na0.3Sr0.7)(Ti0.7Nb0.3)O3 had a superlattice of doubled a, b and c of simple perovskite. The crystal structure of (Na0.3Sr0.7)(Ti0.7M0.3)O3 was tetragonal with a space group 14/mmm. The crystal structure of (Na0.3Sr0.7)(Ti0.7M0.3)O3 was a cubic with space group Pm3m, in which no tilting of oxygen octahedron was observed. The difference in the oxygen tilting of these two materials was due to the larger covalency of Nb-O bond than that of Ta-O bond, which induced a strong $\pi$Nb0 bonding in (Na0.3Sr0.7)(Ti0.7M0.3)O3. Therefore, the higher transition temperature of (Na0.3Sr0.7)(Ti0.7M0.3)O3 could be related to the larger tilting of oxygen octahedron.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.07b
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pp.609-612
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2002
In this study, the electrical properties were investigated for the deposited Ba,Sr)(Nb,Ti)$O_3$[BSNT] thin films grown on $Pt/TiO_2/SiO_2/Si$ substrate by RF sputtering method. The structural properties of the BSNT thin films affected by the $Ar/O_2$ rates were investigated. In the case of the BSNT thin films deposited with condition of 60/40$(Ar/O_2)$ ratio, the $BaTiO_3$, $SrTiO_3$ and $BaNbO_3$ phases were showed. The composition ratio of Nb and Ti in the BSNT thin films were nearly equivalent. Also, in the BSNT thin films deposited with condition of 60/40 and 80/20$(Ar/O_2)$ ratios, the composition of Ba, Sr, Nb and Ti were relatively uniform. The Ba, Sr, Nb and Ti in the BSTN thin films were not diffused into the Pt layer.
Particulate composites of $Al_2O_3$/TiC/SiC, $Al_2O_3$/TiC and $Al_2O_3$/SiC have been fabricated by hot pressing and their R-curve behaviors and mechanical properties were investigated. $Al_2O_3$ containing 30 vol% TiC particles showed higher toughness by 8% than that for monolithic alumina and its fracture strength was increased significantly by approximately 30%. On the other hand, the addition of 30 vol% SiC of $3{\mu}m$ in $Al_2O_3$ decreased the fracture strength slightly but induced a rising R-curve behavior owing to the strong crack bridging of SiC particles. In case of $Al_2O_3$/TiC/SiC, arising R-curve behavior was also observed and the fracture toughness reached 6.6 MPa${\cdot}\sqrt{m}$ at the crack length of $1000{\mu}m$, which was lower than that of $Al_2O_3$/SiC, however, while the fracture strength was higher by about 20%. The fracture toughness seemed to be decreased as smaller TiC particles roughened the SiC interface and pullout of the SiC particles for crack bridging became less active.
There was a great difference in the formation kinetics of $TiO_2$ and $Bi_2O_3$ on silicon, but the growth of bismuth titanate (BIT) thin film was mainly limited by the formation of $TiO_2$. As a result, the BIT film was easy to be lack of bismuth. The pulse injection metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) process was introduced in order to overcome this problem by recovering the insufficient bismuth content in the film. By this pulse injection method, bismuth content was increased and also the uniform in-depth composition of the film was attained with a abrupt $Bi_4Ti_3O_{12}/Si$ interface. In addition, the crystallinity of $Bi_4Ti_3O_{12}$ thin film prepared by pulse injection process was greatly improved and the leakage current density was lowered by 1/2~1/3 of magnitude. Clockwise hysteresis of C-V was observed and the ferroelectric switching was confirmed for $Bi_4Ti_3O_{12}$ film deposited by pulse injection method.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1990.10a
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pp.68-70
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1990
(1-X)(Sr$\_$7/9/Pb$\_$2/9/)$\_$(1-y)/(Ca$\_$1/5/Mg$\_$4/5/)$\_$y/TiO$_3$+X(BiO$_2$O$_3$$.$3TiO$_2$) (y=0.145, 0$\leq$X$\leq$0.08) ceramics were fabricated by the mixed oxide method. The sintering temperature and time were 1180∼1230[$^{\circ}C$], 2[hr], respectly. The grain size were grown with increasing the contents of Bi$_2$O$_3$$.$3TiO$_2$, but decreased more and less in the specimens which had more than 0.04[mol].
This paper has reviewed some of the basic principles that underlie the field of defect chemistry in simple ATi$O_3$(A=Ca, Sr, Ba) perovskites. Frenkel defects in perovskite structure is very much unlikely, and Schottky defects and intrinsic electronic defects in undoped materials are negligibly small compared with background acceptor impurities. The electrical properties of perovskite ceramics are dependent on the aliovalent impurities. Since perovskite structure is a ternary system, the stoiohiometry between cations as well as cation-anion ratio will affect defect structure and electrical properties. BaTi$O_3$and SrTi$O_3$show a limited deviation from the cation stoichiometry while CaTi$O_3$has significant excess CaO and Ti$O_2$solubility.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.7
no.3
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pp.7-11
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2000
The low-voltage driven $SrTiO_3$ceramic varistor device was fabricated from $SrTiO_3$ powders prepared by co-precipitation method with $CuO-SiO_2$additives. Compare with conventional process, this process has advantages such as the reduction of the sintering temperature of $SrTiO_3$ ceramics by 100-$150^{\circ}C$ and the simplification of processing procedure. The non-linear coefficient value ($\alpha$) of the varistor showed 8.47 when it was sintered at $1350^{\circ}C$ for 2 h with 5 wt% additives in reducing atmosphere of 5% $H_2/N_2$ mixed gas. The low-voltage driven $SrTiO_3$ceramic varistor was obtained which has a breakdown voltage as low as 7 V.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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