Effects of Substrate Temperature and $PH_3$ /TMIn Ratio on the Properties of InP Epitaxial Layers Grown by Low Pressure metalorganic Chemical Vapor Deposition
(저압 유기금속 화학증착법을 이용한 InP 에피성장에 대한 기판의 온도와 $PH_3$ /TMIn 비의 영향)
-
- Journal of the Korean Vacuum Society
- /
- v.4 no.4
- /
- pp.394-401
- /
- 1995