• Title/Summary/Keyword: $GA_3$농도

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Effects of Doping Concentration and Microstructures on Photoluminescence Dispersion of InGaAsP Semiconductors (InGaAsP 에피막의 도핑농도 및 미세조직구조가 photoluminescence 분산특성에 미치 는 영향)

  • 이종원
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.4 no.2
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    • pp.71-78
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    • 1997
  • 본 논문에서는 InGaAsP 에피막에서 도핑 농도와 에피막의 미세조직구조가 photoluminescence (PL) 스펙트럼의 위치 및 형상에 어떤 영향을 미치는가를 연구하였고, 그 결과를 설명하기 위해 가능한 모델을 제시하였다. InGaAsP 에피막(발진파장 ~1.3$\mu$m) 을 액상증착법(liquid phase epitaxy, LPE)으로 성장하여 9K에서 PL측정을 했을 때 InGaAsP 활성층 내 Zn 억셉터의 유무에 따라 PL 피크의 위치가 최대 30nm (24meV)까지 shift하고 피크의 선폭도 넓어지는 현사을 발견하였다. 이와같은 피크 분산현상은 inGaAsP 에피막이 유기금속 기상증착법으로 성장되거나 Zn로 고농도로 도핑되거나 고온에서 어닐링 될 경우 대폭 감소하였다. 이를 설명하기 위해 여러 가지 모델을 설정하여 실험을 하였으며 이 중 InGaAsP 에피막의 미세조직구조 특히 Spinodal 분해에 의한 조성이 모듈레이션과 Zn의 상호작용의 관계가 이 현상을 설명하는 데 가장 적절하다는 것을 밝혔다.

Enhanced Hole Concentration of p-GaN by Sb Surfactant (Sb 계면활성제에 의한 p-GaN 박막의 홀농도 향상)

  • Kim, J.Y.;Park, S.J.;Moon, Y.B.;Kwon, M.K.
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.20 no.4
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    • pp.271-275
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    • 2011
  • The role and effect of Sb surfactant on structure and properties of p type gallium nitride (GaN) epilayers have been investigated. It was found that there was a increase of hole concentration with Sb surfactant, compared to typical Mg-doped p-GaN. The structural and optical quality of p-GaN epilayers were accessed by x-ray diffraction, photoluminescence and atomic force microscope measurements. The results clearly show that the increase in hole concentration with Sb surfactant can be resulted from decrease in the dislocations and nitrogen point defects.

Electrical and optical properties in relation to Ga concentration of GZO films deposited by DC magnetron sputtering (DC 마그네트론 스퍼터링법으로 증착한 GZO 박막의 Ga 함량에 따른 전기적 및 광학적 특성)

  • Lee, Jeong-Cheol;Park, Sang-Eun;Lee, Jin-Ho;Song, Pung-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.95-96
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    • 2007
  • DC magnetron sputtering 법으로 다양한 $Ga_2O_3$함량비( $2.27{\sim}$ 10.81 wt%)를 가진 고밀도 GZO 소결타겟을 사용하여 GZO박막을 증착한 후 도핑농도에 따른 광학적 특성과 전기적 특성을 조사하였다. GZO($Ga_2O_3$: 6.65 wt%)타겟을 사용하여 기판온도 $300^{\circ}C$에서 증착한 GZO박막은 상대적으로 낮은 비저항($5.1{\times}10^{-4}$ ${\Omega}cm$)과 85% 이상의 높은 투과율을 보였다. 또한 타겟의 $Ga_2O_3$함량이 6.65 wt%일때 광학적 밴드갭 에너지는 3.61 eV로 비교적 큰 흡수계수의 변화를 보였으며 그 이상의 $Ga_2O_3$농도에서는 밴드갭 에너지가 감소하는 경향을 보였다.

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TCAD Simulation을 통한 GaAs태양전지 Base Layer의 물리적 Parameter 및 에너지 효율의 최적화 연구

  • Lee, Chung-Hak;Lee, Jun-Sin
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.449.1-449.1
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    • 2014
  • GaAs태양전지는 일반적으로 22%이상의 변환효율을 가지는 차세대 태양전지이다. GaAs태양전지의 변환효율은 태양광이 조사되었을 때, p-type emitter와 n-type base의 p-n접합으로 생기는 Voc, Isc, FF 인자들로 인하여 그 값이 결정되는데, 이때 각 layer의 물리적 parameter에 의해 그 효율이 변한다. 일반적으로는 각 parameter가 증가할 때, 더욱 많은 전자로 인하여, 저 높은 변환효율을 기대할 수 있겠으나, 전자의 재결합이나 mobility의 감소와 같은 이유로 변환효율은 감소 될 수 있다. GaAs태양전지의 base layer의 두께와 도핑농도를 simulation한 결과 두께 $2.6{\mu}m$, 도핑농도 $7{\times}E17cm^{-3}$와 두께 $2.7{\mu}m$, 도핑농도 $8{\times}E17cm^{-3}$에서 25.86%의 가장 높은 에너지 효율을 가짐을 확인 할 수 있었다.

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A Kinetic Study of GaN Formation from GaOOH under $NH_3$ Flowing ($NH_3$ 분위기에서 GaOOH로부터 GaN의 반응기구)

  • 이재범;이종원;박인용;김선태
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2003.03a
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    • pp.94-94
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    • 2003
  • 최근, 새로운 전자재료로서 GaN 분말의 합성과 응용에 관한 연구가 많이 이루어지고 있다. CaN 분말은 열처리 과정 중 분해를 방지하기 위한 표면 보호용 소재, CaN 박막 또는 벌크 결정을 성장하기 위한 precursor 및 대면적 평판표시소자 제작을 위한 전기발광소자용 소재 등에 적용되고 있다. 일반적으로 100$0^{\circ}C$ 이상의 온도에서Ga과 NH$_3$를 반응시키거나, Ga이 포함된 화합물반도체 또는 산화물 및 질산염 등을 NH$_3$ 분위기에서 가열시켜 GaN 분말을 합성시키고 있다. 본 논문에서는 출발물질로서 GaOOH를 채택하고, 이를 NH$_3$ 가스를 흘리면서 가열 반응시켜 GaN 분말을 합성하고 X선 회절분석 방법을 사용하여 GaN의 합성에 대한 반응기구를 조사하였다. GaN 분말을 합성하기 위하여 GaOOH 분말 1g을 석영 용기에 담아 석영 반응관 내에 위치시키고, 반응관 내부를 $10^{-3}$ torr의 진공으로 배기한 후 $N_2$를 주입하면서 전기로의 온도를 1$0^{\circ}C$/min으로 승온시켰다. 반응온도는 300~l17$0^{\circ}C$의 범위에서 변화시켰고, 반응시간은 10분부터 24시간까지 변화시켰으며, NH$_3$의 유량은 300~700 sccm의 범위에서 변화시켰다. GaN의 반응역학을 조사하기 위하여 X선 회절도에서 특정 성분의 회절강도는 시료 내에 포함된 특정 성분의 량에 직접 비례한다고 가정하고, 2$\theta$=37$^{\circ}$부근에서 관찰되는 GaN의 (101)면에 의한 회절강도를 측정하고, 이를 GaN의 생성량으로 고려하였다.}C$로 소결 하였다. coating 결과 박리현상은 없었으나, 표면과 단면의 SEM분석결과 다소 porous한 박막층이 형성되었으며, Ca이온이 지지체로 permeation되는 현상이 발생하였다. 이와 같은 결과로부터 보다 치밀한 박막생성을 위해, slurry 제조조건을 변화시켰으며, Ca이온의 migration을 막기 위해 barrier layer를 이용하였다 완전 소결된 지지체는 가스투과도와 전기전도도측정을 통하여 특성을 평가하였다.였다.다.m이하의 NH$_3$ 가스를 검출할 수 있었다.기 화강암 관입 이전에 좌수향 전단 운동에 의해 부분적으로 재활성 되었으며, 후기 화강암의 관입 이후에 재차 우수향 전단운동으로 활성화 되었음을 알 수 있다. 이상의 결과를 종합하면 호남전단대는 쥬라기 중기에 발생한 광역적인 우수향의 연성전단운동이나, 운동 특성은 연속적이기 보다는 단속적으로 일어난 것으로 생각된다.리 폐 관류는 정맥주입 방법에 비해 고농도의 cisplatin 투여로 인한 다른 장기에서의 농도 증가 없이 폐 조직에 약 50배 정도의 고농도 cisplatin을 투여할 수 있었으며, 또한 분리 폐 관류 시 cisplatin에 의한 직접적 폐 독성은 발견되지 않았다이 낮았으나 통계학적 의의는 없었다[10.0%(4/40) : 8.2%(20/244), p>0.05]. 결론: 비디오흉강경술에서 재발을 낮추기 위해 수술시 폐야 전체를 관찰하여 존재하는 폐기포를 놓치지 않는 것이 중요하며, 폐기포를 확인하지 못한 경우와 이차성 자연기흉에 대해서는 흉막유착술에 더 세심한 주의가 필요하다는 것을 확인하였다. 비디오흉강경수술은 통증이 적고, 입원기간이 짧고, 사회로의 복귀가 빠르며, 고위험군에 적용할 수 있고, 무엇보다도 미용상의 이점이 크다는 면에서 자연기흉에 대해 유용한 치료방법임에는 틀림이 없으나 개흉술에 비

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Effect of $GA_3$ on Germination of Perilla frutescens var. acuta KUDO under High Temperature (고온에서 $GA_3$처리가 자소의 발아에 미치는 영향)

  • Lee, Joong-Ho;Kwon, Ji-Wung;Lee, Seung-Yeob
    • Korean Journal of Medicinal Crop Science
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    • v.9 no.3
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    • pp.198-204
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    • 2001
  • $GA_3$ treatments for seeds of Perilla frutescens var. acuta Kudo were evaluated as a means of improving the percent germination, and the interactions of $GA_3$, mulching, and sowing depth on seedling emergence were investigated in late sowing. Percentage germination of seeds treated with different concentration of $GA_3$ was the most effective in 100 ppm treatment for 24 hours. The germinability according to the seeds soaking time was not significantly different over 12 hours in 100 ppm $GA_3$. At high temperature $(25^{\circ}C\;and\;30^{\circ}C)$, percentage germination was significantly increased in 100 ppm ${GA_3}$ treatment. In late sowing (1th or 15th May), seedling emergence was significantly higher in 100 ppm $GA_3$ treatment than nontreatment, and that was significantly increased when the seeds treated with 100 ppm $GA_3$ were mulched with 10 mm rice hull after molding with 5 mm soil depth.

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Cu(In,Ga)Se2/CdS 계면 형성 조건에 따른 Cu(In,Ga)Se2 박막 태양전지의 특성

  • Choe, Hae-Won;Jo, Dae-Hyeong;Jeong, Yong-Deok;Kim, Gyeong-Hyeon;Kim, Je-Ha
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.374-374
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    • 2011
  • Cu(In,Ga)Se2 (CIGS) 박막 태양전지는 일반적으로 Soda lime glass/Mo/CIGS/CdS/ZnO/ITO/Al의 구조로 제작된다. 태양전지는 p형과 n형 반도체의 접합에 의해서 동작을 하게 되며, CIGS 박막 태양전지에서는 p형으로 CIGS 박막과 n형으로 CdS 박막이 사용된다. CIGS 박막태양전지에서는 p형과 n형이 서로 다른 물질로 이루어진 이종접합을 이루게 되고, 계면에서의 밴드가 어떻게 형성이 되느냐에 따라 태양전지 성능에 영향을 미치게 된다. p형의 CIGS 박막은 주로 다단계 증발법에 의해 형성되고 3단계 공정조건에 의해 계면의 특성에 많은 영향을 미치게 된다. n형의 CdS 박막은 주로 chemical bath deposition (CBD) 법에 의해 제작된다. 이렇게 제작되는 CBD-CdS는 시약의 농도, pH (수소이온농도), 박막 형성시의 온도 등의 조건에 따라 특성이 변하게 된다. 본 논문에서는 3단계 공정시간을 변화시켜 제작된 CIGS 박막 위에 CBD-CdS 증착 조건 중 thiourea 의 농도를 변화시켜 CIGS 태양전지를 제작하고 그에 따른 특성을 살펴보았다. CIGS 박막은 3단계 공정시간을 490초와 360초로 하여 제작하였고, CdS 박막은 thiourea 농도를 각각 0.025 M과 0.05 M, 0.074 M, 0.1 M로 변화시켜가며 제작하였다. 제작된 CIGS 박막 태양전지는 CIGS 3단계 공정시간과 thiourea의 조건에 따라 최고 15.81%, 최저 14.13%로 나타내었다. 또한, 외부양자효율을 측정하여 제작된 CIGS 박막 태양전지의 파장에 따른 특성을 비교하였다.

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Utilization of Natural Zeolite for Removal of $NH_3$ Gas (($NH_3$ 가스 제거를 위한 천연 지오라이트의 이용)

  • Lee, Dong-Hoon;Choi, Jyung;Park, Moung-Sub
    • Korean Journal of Environmental Agriculture
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    • v.16 no.4
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    • pp.327-332
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    • 1997
  • This study was conducted to find out the effect for removal of $NH_3$ gas, one of the offensive odor. The removal efficiencies of $NH_3$ gas through zeolie column increased with the decreased percolation velocity. The effect of zeolite colum in removing $NH_3$ gas was influenced by the water content of zeolite and the added amount of zeolite, but was not influenced by the setting method of zeolite. The $NH_3$ gas removing sequence of saturated cation species on zeolite was in order of Ca->Na->$NH_4$ ->Natural->K-zeolite. Consequently the effect of zeolite on $NH_3$ gas removal efficiency is consided by the water content, added amount and saturated cation of the zeolite.

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Properties of photoluminescence and time-resolved photoluminescence in doped GaAs (도핑된 GaAs의 형광 및 시간분해 형광 특성)

  • 추장희;서정철;유성규;신은주;이주인;김동호
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.8 no.3
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    • pp.213-217
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    • 1997
  • We have measured photoluminescence (PL) and time-resolved PL in doped-GaAs. As increasing doping concentration, the PL spectra of n-type GaAs shift to higher energies while the PL spectra of p-type GaAs shift to lower energies than the bandgap of the undoped GaAs. The contribution of the Burstein-Moss effect overrules the band-gap narrowing in n-type GaAs, contrary to p-type GaAs. The PL rise time and decay time become shorter as increasing doping concentration. The PL rise and decay time in doped-GaAs depend on the type of majority carriers and their concentrations, which imply that the carrier-carrier interaction plays an important role in the energy relaxation processes.

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Analysis of silicon incorporation into the GaAs melt from the quartz boat during the single crystal growing with horizontal Bridgman method (수평 Bridgman 법에 의한 GaAs 단결정 성장시 석영 보트(boat)로부터의 Si 유입에 대한 분석)

  • 오명환;주승기
    • Korean Journal of Crystallography
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    • v.7 no.1
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    • pp.81-87
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    • 1996
  • The mechanism of silicon incorporation has been analyzed for the boat-grown GaAs crystals on the basis of phase equilibrium in the Ga and As system. Comparison was made between silicon concentrations calculated from the thermodynamics of incorporation reaction and carrier concentrations measured from van der Pauw method. For the 1-T HB(single temperature zone horizontal Bridgman) crystals, calculated concentrations were 5.3 ×10 15 (atoms/cm3), measured as 9.8 ×10 15(/cm3) at the seed part. They were calculated to be 1.1 ×10 16(atoms/cm3) and measured as 1.5 ×10 16(/cm3) for the 2-T(double temperature zone) HB crystals. On the other hand, it was found to be closer between the calculated and measured silicon concentrations for the VGF(vertical gradient freeze) crystals, which were grown within half the run time compared with 1-T or 2-T HB method.

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