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만경강 유역의 논토양과 수도체중 Cu 함량의 변화 (Variation of Copper Content in Paddy Soil and Rice from Mangyeong River Area)

  • 김성조;이만상;류택규;김운성;윤기운;백승화
    • 한국환경농학회지
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    • 제13권1호
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    • pp.10-17
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    • 1994
  • 수질오염에 따른 Cu의 함량변화 차이를 구명하기 위하여 도시하수 및 공단배출수의 영향을 받는 만경강 유역의 논 토양을 중심으로 1982년도에 표 심토로 구분 채취한 것과 1990년도에 채취한 토양시료를, 그리고 1990년의 토양 시료채취 지역에서 재배된 수도체시료 중 Cu 함량을 분석하였다. 만경강 유역의 토양 중 Cu함량은 5.20-71.70mg $kg^{-1}$였다. 평균함량은 1990년도 토양 중의 것이 1982년도 토양에서 보다 높았다. 도시하수 유입지역으로 부터 거리 별 함량변화가 1982년보다 1990년도 토양이 보다 규칙적으로 감소되는 변화를 나타냈다. 수도체의 엽신부위의 Cu함량과 토양중의 Cu, Zn 및 Pb의 함량간에 유의성이 인정되었다. 토양 중 Cu 함량과 토양 중 Zn 및 Pb 함량간에 유의한 상관관계를 나타내고 있어서 Cu가 이들 금속들과 함께 유입되는 오염물질 임을 나타냈다. 이 지역에서 재배된 현미중 Cu함량의 범위는 0.4-10.1 mg $kg^{-1}$이었고, 수도체 부위중 최고 Cu함량은 화서축으로 현미에 비하여 2.3배 높았으며, 엽초 중의 Cu함량은 토양 중 Zn 및 Pb 함량과 상관관계를 나타냈다.

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Cu/Sn-3.5Ag 미세범프 구조에 따른 실시간 금속간화합물 성장거동 분석 (Effect of Solder Structure on the In-situ Intermetallic Compounds growth Characteristics of Cu/Sn-3.5Ag Microbump)

  • 이병록;박종명;고영기;이창우;박영배
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제20권3호
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    • pp.45-51
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    • 2013
  • 3차원 적층 패키지를 위한 Cu/Sn-3.5Ag 미세범프의 솔더 구조에 따른 금속간화합물 성장거동을 분석하기 위해 솔더 두께가 각각 $6{\mu}m$, $4{\mu}m$인 서로 다른 구조의 미세범프를 $130^{\circ}C$, $150^{\circ}C$, $170^{\circ}C$ 조건에서 실시간 주사전자현미경을 이용하여 실시간 금속간화합물 성장 거동을 분석하였다. Cu/Sn-3.5Ag($6{\mu}m$) 미세범프의 경우, 많은 양의 솔더로 인해 접합 직후 솔더가 넓게 퍼진 형상을 나타내었고, 열처리 시간경과에 따라 $Cu_6Sn_5$$Cu_3Sn$금속간화합물이 성장한 후, 잔류 Sn 소모 시점 이후 $Cu_6Sn_5$$Cu_3Sn$으로 상전이 되는 구간이 존재하였다. 반면, Cu/Sn-3.5Ag($4{\mu}m$) 미세범프의 경우, 적은양의 솔더로 인해 접합 직후 솔더의 퍼짐 현상이 억제 되었고, 접합 직후 잔류 Sn상이 존재하지 않아서 금속간화합물 성장구간이 억제되고, 열처리 시간경과에 따라 $Cu_6Sn_5$$Cu_3Sn$으로 상전이 되는 구간만 존재하였다. 두 시편의 $Cu_3Sn$상의 활성화 에너지의 값은 Cu/Sn-3.5Ag($6{\mu}m$) 및 Cu/Sn-3.5Ag($4{\mu}m$) 미세범프가 각각 0.80eV, 0.71eV로 나타났고, 이러한 차이는 반응기구 구간의 차이에 따른 것으로 판단된다. 따라서, 솔더의 측면 퍼짐 보다는 접합 두께가 미세범프의 금속간화합물 반응 기구를 지배하는 것으로 판단된다.

Effects of hot-melt extruded nano-copper on the Cu bioavailability and growth of broiler chickens

  • Lee, JunHyung;Hosseindoust, Abdolreza;Kim, MinJu;Kim, KwangYeol;Kim, TaeGyun;Moturi, Joseph;Chae, ByungJo
    • Journal of Animal Science and Technology
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    • 제63권2호
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    • pp.295-304
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    • 2021
  • This study was aimed to investigate the Cu bioavailability, growth response, digestibility of nutrients, and blood metabolites of broiler chicks fed CuSO4 in nano or common forms. A total of 720 broiler chickens were distributed between eight treatments according to a completely randomized design. There were 8 treatments and 6 replicates in each treatment with 15 birds/replicate. The treatments were divided into common copper sulfate at the doses of 16 ppm, 40 ppm, 80 ppm, and 120 ppm (INO) and hot-melt extruded copper sulfate at the doses of 16 ppm, 40 ppm, 80 ppm, and 120 ppm (HME-Cu). The experiment was operated for 35 days in 2 phases (phase 1, d 0 to 14; and phase 2, d 15 to 35). No significant differences were shown in growth performance, feed intake, FCR, and nutrient digestibility among the treatments. The concentration of Cu in the serum was increased in the HME-Cu broilers compared with the INO broilers at phase 2. A linear increase was observed in the concentration of Cu in the liver in broilers fed INO diets, however, no significant differences were observed by the supplementation of HME-Cu levels. The linear increase was detected in the content of Cu in excreta in the INO and HME-Cu treatments by increasing the dietary Cu content. The HME-Cu treatments showed a lower Cu concentration in the excreta compared with the INO treatments. The higher bioavailability of Cu in HME form can decrease the recommended dose of Cu in broiler diets.

용액 공정 처리된 구리(I) 티오시아네이트(CuSCN) 필름의 정공 주입 특성 연구 (The Study of Hole Injection Characteristics in Solution-Processed Copper (I) Thiocyanate (CuSCN) Film)

  • 장은정;성백상;권성민;최윤석;이종희;이재현
    • 공업화학
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    • 제35권1호
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    • pp.61-65
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    • 2024
  • 대면적 유기 발광 다이오드, 유기 태양 전지, 박막 트렌지스터의 정공 주입층으로써 CuSCN의 효과가 많이 입증되었다. 따라서 본 연구에서는 용액 공정 조건에 따라 CuSCN의 표면과 광학적, 전기적 분석을 하여 최적화된 필름의 조건을 제시하였다. 다양한 CuSCN 용액의 농도를 제작하여 필름 표면 특성을 확인하였고, 필름의 표면이 소자의 전기적 성능에 영향을 미치는지 확인하였다. CuSCN의 용액의 농도가 낮을 때는 CuSCN의 필름이 형성되지 않고 island 형태로 코팅되었고, 용액의 농도가 증가할수록 CuSCN의 필름이 균일하게 형성하였고 이는 소자의 전도도 향상에 기여하였다. 또한 hole only device를 제작하여 CuSCN의 정공 수송 층으로써의 역할을 입증하였다.

집적회로용 무전해도금 Cu배선재료의 열적 특성에 관한 연구 (Study on the Thermal Properties of the Electroless Copper Interconnect in Integrated Circuits)

  • 김정식;이은주
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제6권1호
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    • pp.31-37
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    • 1999
  • 본 연구에서는 집적회로의 배선공정에 적용될 무전해도금된 Cu박막의 열적 특성과 접착특성에 대하여 고찰하였다. 시편은 Si 기판에 MOCVD법으로 TaN 확산방지막을 증착시킨 후 그 위에 무전해도금법으로 Cu 막을 증착시켜 Cu/TaN/Si 구조의 다층박막을 제조하였다. 이렇게 제조된 Cu/TaN/Si 시편을 수소와 Ar 분위기에서 각각 열처리시킨 후 열처리온도에 따른 비저항을 측정함으로써 Cu박막의 열적 안정성을 분석하였다. Cu박막과 TaN확산방지막과의 접착특성을 분석하기 위하여 scratch test를 사용하였으며, TaN 확산방지막에 대한 무전해도금된 Cu배선막의 접착력은 일반적인 Thermal evaporation과 Sputturing 방법으로 증착된 Cu 박막의 경우와 비교함으로써 평가되었다. TaN 박막에 대한 Cu박막의 접착성을 평가하기 위해 scratch test를 행한 결과 무전해도금된 Cu박막의 경우 다른 방법으로 증착된 Cu 박막과 비슷한 접착특성을 나타내었으며, acoustic emission분석과 microscope 관찰 결과 sputtering이나 evaporation 방법으로 증착된 Cu박막 보다 무전해도금된 Cu박막이 상대 적으로 우수한 접착력을 나타내었다.

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Fabrication of wide-bandgap β-Cu(In,Ga)3Se5 thin films and their application to solar cells

  • Kim, Ji Hye;Shin, Young Min;Kim, Seung Tae;Kwon, HyukSang;Ahn, Byung Tae
    • Current Photovoltaic Research
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    • 제1권1호
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    • pp.38-43
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    • 2013
  • $Cu(In,Ga)_3Se_5$ is a candidate material for the top cell of $Cu(In,Ga)Se_2$ tandem cells. This phase is often found at the surface of the $Cu(In,Ga)Se_2$ film during $Cu(In,Ga)Se_2$ cell fabrication, and plays a positive role in $Cu(In,Ga)Se_2$ cell performance. However, the exact properties of the $Cu(In,Ga)_3Se_5$ film have not been extensively studied yet. In this work, $Cu(In,Ga)_3Se_5$ films were fabricated on Mo-coated soda-lime glass substrates by a three-stage co-evaporation process. The Cu content in the film was controlled by varying the deposition time of each stage. X-ray diffraction and Raman spectroscopy analyses showed that, even though the stoichiometric Cu/(In+Ga) ratio is 0.25, $Cu(In,Ga)_3Se_5$ is easily formed in a wide range of Cu content as long as the Cu/(In+Ga) ratio is held below 0.5. The optical band gap of $Cu_{0.3}(In_{0.65}Ga_{0.35})_3Se_5$ composition was found to be 1.35eV. As the Cu/(In+Ga) ratio was decreased further below 0.5, the grain size became smaller and the band gap increased. Unlike the $Cu(In,Ga)Se_2$ solar cell, an external supply of Na with $Na_2S$ deposition further increased the cell efficiency of the $Cu(In,Ga)_3Se_5$ solar cell, indicating that more Na is necessary, in addition to the Na supply from the soda lime glass, to suppress deep level defects in the $Cu(In,Ga)_3Se_5$ film. The cell efficiency of $CdS/Cu(In,Ga)_3Se_5$ was improved from 8.8 to 11.2% by incorporating Na with $Na_2S$ deposition on the CIGS film. The fill factor was significantly improved by the Na incorporation, due to a decrease of deep-level defects.

여러 자리 산소-질소계 시프염기 리간드 구리(II) 착물의 전기화학적 특성 (Electrochemical Properties of Copper(II) Complexes with Multidentate N,O-Schiff Base Ligands)

  • 김선덕;장기호;김준광;이승우;정재정
    • 분석과학
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    • 제9권4호
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    • pp.345-354
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    • 1996
  • 산소-질소를 포함하는 여러 자리 시프염기 리간드인 비스-살리실알데히드-에틸렌디이민(SED), 비스-살리실알데히드-프로필렌디이민(SPD), 비스-살리실알데히드-디에틸렌트리이민(SDT), 비스-살리실알데히드-트리에틸렌테트라이민(STT) 및 비스-살리실알데히드-테트라에틸 렌펜타이민(STP) 등을 합성하고 이들 리간드들을 에탄올과 70% 디옥산 수용액에서 전위차법으로 넷, 다섯 및 여섯 단계의 양성자 해리상수값을 구하였다. 구리(II)-시프염기 착물의 안정도상 수값의 크기는 Cu(II)-SPD${\leq}$Cu(II)-SED~STT${\leq}$Cu(II)-STP 순서로 음전위쪽으로 이동하였다. Cu(II)-시프염기 착물의 산화-환원 과정은 일전자 반응이었다.

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Electrodeposited NiCu Alloy Catalysts for Glucose Oxidation

  • Lim, Ji-Eun;Ahn, Sang Hyun;Jang, Jong Hyun;Park, Hansoo;Kim, Soo-Kil
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제35권7호
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    • pp.2019-2024
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    • 2014
  • NiCu alloys have been suggested as potential candidates for catalysts in glucose oxidation. In this study, NiCu alloys with different compositions were prepared on a glassy carbon substrate by changing the electrodeposition potential to examine the effect of Ni/Cu ratios in alloys on catalytic activity toward glucose oxidation. Cyclic voltammetry and chronoamperometry showed that NiCu alloys had higher catalytic activity than pure Ni and Cu catalysts. Especially, Ni59Cu41 had superior catalytic activity, which was about twice that of Ni at a given oxidation potential. X-ray analyses showed that the oxidation state of Ni in NiCu alloys was increased with the content of Cu by lattice expansion. Ni components in alloys with higher oxidation state were more effective in the oxidation of glucose.

Dual Damascene 공정에서 Bottom-up Gap-fill 메커니즘을 이용한 Cu Plating 두께 최적화 (Cu Plating Thickness Optimization by Bottom-up Gap-fill Mechanism in Dual Damascene Process)

  • 유해영;김남훈;김상용;장의구
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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    • pp.93-94
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    • 2005
  • Cu metallization using electrochemical plating(ECP) has played an important role in back end of line(BEOL) interconnect formation. In this work, we studied the optimized copper thickness using Bottom-up Gap-fill in Cu ECP, which is closely related with the pattern dependencies in Cu ECP and Cu dual damascene process at 0.13 ${\mu}m$ technology node. In order to select an optimized Cu ECP thickness, we examined Cu ECP bulge, Cu CMP dishing and electrical properties of via hole and line trench over dual damascene patterned wafers split into different ECP Cu thickness.

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반응소결법 및 통전가압소결법에 의한 $Ti_5Si_3$계 금속간화합물의 합성 및 치밀화 (Synthesis and Densification of $Ti_5Si_3$-base Intermetallic Compounds by Reactive Sintering and Electro-Pressure Sintering)

  • 유호준
    • 한국분말재료학회지
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    • 제4권4호
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    • pp.283-290
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    • 1997
  • $Ti_5Si_3$ intermetallics containing 0-6 wt% of Cu were made by reactive sintering (RS) under vacuum using elemental powder mixtures (Process 1), electro-pressure sintering (EPS) using RS'ed materials (Process2), and EPS using elemental powder mixtures (Process 3). Relatively low dense titanium silicides were gained by process 1, in which porosity decreased with increasing Cu content. For example, porosity changed from 42 to 19.4% with the increase in Cu content from 0 to 6 wt%, indicating that Cu is a useful sintering aid. The titanium silicides fabricated by Process 2 had a higher density than those by Process 1 at given composition, and porosity decreased with increasing Cu content. For example, porosity decreased from 38 to 6.8% with the change in Cu content from 0 to 6 wt%. A high dense titanium silicides were obtained by Process 3. In this Process, porosity decreased a little by Cu addition, and was almost insensitive to Cu content. Namely, about 9 or 7% of porosity was shown in 0 or 1-6 wt% Cu containing silicides, respectively. The hardeness increased by Cu addition, and was not changed markedly with Cu content for the silicides fabricated by Process 3. This tendency was considered to be resulted from porosity, hardening of grain interior by Cu addition, and softening of grain boundary by Cu-base segregates. All these results suggested that EPS using elemental powder mixtures (Process 3) is an effective processing method to achieve satisfactorily dense titanium silicides.

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