Rare earth metal films have been used as a buffer layer for growing ferroelectric t thin film or a seed layer for magnetic multilayer. But when it was deposited on s semiconductor substrates for the application of magneto-optic (MO) storage media, it i is difficult to exactly measure magnetic cons떠nts due to shunting current, and so it n needs to grow metal films on insulator substrate to reduce such effect. Recently, it w was reported that ultra-thin Pt layer were epitaxially grown on A12O:J by ion beam s sputtering in 비떠 high vacuum and it can be used as a seed layer for the growth of C Co-contained magnetic multilayer. In this stu$\phi$, Pt thin film were epi떠xially grown on AI2D3 ($\alpha$)OJ) by RF magnetron s sputtering. The crystalline structure was analyzed by transmission electron microscope ( (TEM) and Rutherford Back Scattering (RBS)/Ion Channeling. In TEM study, Pt was b believed to be twinned on AI잉3($\alpha$)01) su$\pi$ace about Pt(ll1) plane.Moreover, RBS c channeling spectra showed that minimum scattering yield of Pt(111)/AI2O:J(1$\alpha$)OJ) was 4 4% and Pt(11J)/AI2D3($\alpha$)OJ) had 3-fold symmetry.
Traveling-wave electrodes for the high-speed Ti:LiNbO$_{3}$ modulators are designed. For a solution to the problems of 1) phase-velocity mismatching between the optical wave and the Modulating M/W, 2) M/W electrode characteristic impedance mismateching, we assume devices with 1$\mu$m thick SiO$_{2}$ buffer layer between the electrode and the Ti:LiNbO$_{3}$ substrate. The electrode analyses are performed by the FEM using the second-order triangular elements. The optimum design parameters to satisfy the phase-velocity matching and the characteristic impedance matching are sought for. By use of the analyses' results, a Mach-Zehnder optical modulator with a CPW electrode is designed as an example. the band-width estimation is also illustrated.
We investigated the properties of artificial pinning centers of YBCO multilayer films in which $Y_2O_3$ and ZnO nanoparticles are uniformly introduced by using the pulsed laser deposition (PLD) technique. $Y_2O_3$ and ZnO nanoparticles were deposited on top of YBCO buffer layer and the density of nanoparticles was controlled by varying the number of nanoparticle layers. YBCO superconducting layers with total thickness of 250 nm were deposited on top of $Y_2O_3$ and ZnO nanoparticles. Based on analyses of the surface morphology, the transition temperature $T_c$, and the critical current density $J_c$, we discussed the difference between the two kinds of nanoparticles as flux pinning centers.
We fabricated electrolyte-insulator-semiconductor (EIS) devices using a solution process and measured the sensing properties of EIS devices according to the thicknesses of sensing membrane. For high pH sensitivity and better stability properties, we used $SiO_2/HfO_x$ (OH) layer as a sensing membrane. In this work, $HfO_x$ sensing membranes were deposited on 5 nm thick $SiO_2$ buffer layer by spin coater with thicknesses of 15, 31, 42, 55 nm, respectively. As a result, we founded that the thickness of $HfO_x$ sensing membrane affects to sensitivity and chemical stability of EIS device. Especially, the EIS device with 42 nm thick $HfO_x$ membrane showed superior sensing ability in terms of pH-sensitivity, linearity, hysteresis voltage and drift rate characteristics than the other devices. In conclusion, we confirmed that it is possible to improve the sensing ability and the chemical stability properties using optimized thickness of sensing membrane and proper annealing process.
To improve mechanical strength of bioglass, it is considered to use the glass as a coating material to alumina, but the difference in thermal expansion coefficient between two materials is too high to make a good coating. The aim of the present study, therefore, is to find out proper glass composition matching its thermal expansion coefficient to that of alumina without losing biocompatibility. In the present work, various glasses were prepared by substituting B2O3 and CaO for Na2O in the glass system of 55.1%SiO2-2.6%P2O5-20.1%Na2O-13.3%CaO-8.9%CaF2 (in mole%), and the thermal expansion property and reaction property in tris-buffer solution for the resulting glasses were measured. The thermal expansion coefficient of the glass was decreased with the substitution of B2O3 for Na2O, and it became close to that of alumina in the glass in which 8 mole% of CaO was substituted for Na2O. Hydroxyapatite formation was enhanced and silica rich layer thickness was decreased with B2O3 substitution for Na2O. CaO substitution for Na2O didn't deteriorated the hydroxyapatite development.
Jo, W.;Ohnishi, T.;Huh, J.;Hammond, R.H.;Beasley, M.R.
Progress in Superconductivity
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제8권2호
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pp.175-180
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2007
High temperature superconductor $YBa_2Cu_3O_{7-x}$ (YBCO) films have been grown by in-situ electron beam evaporation on artificial metal tapes such as ion-beam assisted deposition (IBAD) and rolling assisted biaxially textured substrates (RABiTS). Deposition rate of the YBCO films is $10{\sim}100{\AA}/sec$. X-ray diffraction shows that the films are grown epitaxially but have inter-diffusion phases, like as $BaZrO_3\;or\;BaCeO_3$, at their interfaces between YBCO and yttrium-stabilized zirconia (YSZ) or $CeO_2$, respectively. Secondary ion mass spectroscopy depth profile of the films confirms diffused region between YBCO and the buffer layers, indicating that the growth temperature ($850{\sim}900^{\circ}C$) is high enough to cause diffusion of Zr and Ba. The films on both the substrates show four-fold symmetry of in-plane alignment but their width in the -scan is around $12{\sim}15^{\circ}$. Transmission electron microscopy shows an interesting interface layer of epitaxial CuO between YBCO and YSZ, of which growth origin may be related to liquid flukes of Ba-Cu-O. Resistivity vs temperature curves of the films on both substrates were measured. Resistivity at room temperature is between 300 and 500 cm, the extrapolated value of resistivity at 0 K is nearly zero, and superconducting transition temperature is $85{\sim}90K$. However, critical current density of the films is very low, ${\sim}10^3A/cm^2$. Cracking of the grains and high-growth-temperature induced reaction between YBCO and buffer layers are possible reasons for this low critical current density.
Park, J.S.;Goto, T.;Hong, S.K.;Chang, J.H.;Yoon, E.;Yao, T.
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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pp.259-259
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2010
Periodically polarity inverted (PPI) ZnO structures on (0001) Al2O3 substrates are demonstrated by plasmas assisted molecular beam epitaxy. The patterning and re-growth methods are used to realize the PPI ZnO by employing the polarity controlling method. For the in-situ polarity controlling of ZnO films, Cr-compound buffer layers are used.[1, 2] The region with the CrN intermediate layer and the region with the Cr2O3 and Al2O3 substrate were used to grow the Zn- and O-polar ZnO films, respectively. The growth behaviors with anisotropic properties of PPI ZnO heterostructures are investigated. The periodical polarity inversion is evaluated by contrast images of piezo-response microscopy. Structural and optical interface properties of PPI ZnO are investigated by the transmission electron microcopy (TEM) and micro photoluminescence ($\mu$-PL). The inversion domain boundaries (IDBs) between the Zn and the O-polar ZnO regions were clearly observed by TEM. Moreover, the investigation of spatially resolved local photoluminescence characteristics of PPI ZnO revealed stronger excitonic emission at the interfacial region with the IDBs compared to the Zn-polar or the O-polar ZnO region. The possible mechanisms will be discussed with the consideration of the atomic configuration, carrier life time, and geometrical effects. The successful realization of PPI structures with nanometer scale period indicates the possibility for the application to the photonic band-gap structures or waveguide fabrication. The details of application and results will be discussed.
본 논문에서는 반절연성 GaAs 기판위에 $Al_2O_3$ 절연막이 제이트 절연막으로 이용된 공핍형보드 n형 채널 GaAs MOSFET(depletion mode n-channel GaAs MOSFET)를 제조하였다. 반절연성 GaAs 기판위에 1 ${\mu}$m의 GaAs 버퍼층, 1500 ${\AA}$의 n형 GaAs층, 500 ${\AA}$의 AlAs층, 그리고 50 ${\AA}$의 캡층을 차례로 성장시키고 습식열산화 시켰으며, 이를 통하여 AlAs층은 완전히 $Al_2O_3$층으로 변환되었다. 제조된 MOSFET의 I-V, $g_m$, breakdown특성 측정 등을 통하여 AlAs/GaAs epilayer/S${\cdot}$I GaAs 구조의 습식열산화는 공핍형 모드 GaAs MOSFET를 구현하기에 적합함을 알 수 있다.
Characteristics of Pb(Mg, Nb)O$_3$-Pb(Zr, Ti)O$_3$system thick films fabricated by a screen printing method were investigated. The buffer layer were coated with various thickness of Ag-Pd by screen printing to investigate the effect as a diffusion barrier and deposited Pt as a electrode by sputtering on Ag-Pb layer. The printed thick films were burned out at 650$\^{C}$ and sintered at 950$\^{C}$ in O$_2$condition for each 20, 60min after printing with 350mesh screen. The thickness of piezoelectric thick film was 15∼20㎛ and Ag-Pb layer acted as a diffusion barrier above 3㎛ thickness. The PMN-PZT thick films were screen printed on Pt/Ag-Pb(6m) and sintered by 2nd step (650$\^{C}$/20min and 950$\^{C}$/1h) using paste mixed PMN-PZT and binder in the ratio of 70:30, and the remnant polarization of thick film was 9.1$\mu$C/㎠ in this conditions.
Textured Ce$O_{2}$ buffers for YBCO coated conductors were deposited on biaxially textured Ni substrate by metalorganic chemical vapor deposition The texture of deposited Ce$O_{2}$ films was varied with deposition temperature(T) and oxygen partial pressure($Po_{2}$). ($\ell$ 00) textured Ce$O_{2}$ films were deposited at T= 500~$520^{\circ}C$, $Po_{2}$= 0.90~3.33 Torr. The growth rate of the Ce$O_{2}$ films was 150~200 nm/min at T= $520^{\circ}C$ and $Po_{2}$= 2.30 Torr, which was much faster than that prepated by other physical deposition method.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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