Cl$_2$ /Ar 가스 플라즈마에 $O_2$ 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구
(The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by $O_2$ Addition to $_2$ /Ar Gas Plasma)
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- 전자공학회논문지D
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- 제36D권5호
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- pp.29-35
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- 1999