• 제목/요약/키워드: $\varepsilon-FeSi$

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의성분지 동부에 분포하는 백악기 화산암류의 화산층서와 암석학적 연구 (Volcanic stratigraphy and petrology of Cretaceous volcanic rocks in the eastern part of the Euiseong Basin)

  • 정종옥;좌용주
    • 암석학회지
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    • 제9권4호
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    • pp.238-253
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    • 2000
  • 의성분지 동부지역의 중성~산성 화산암류는 백악기 퇴적층을 기반으로 광범위하게 분포하며, 후기의 화강암류와 암맥에 의해 관입당해 있다. 연구지역의 화산층서는 하부로부터 안산암 용암, 데사이트질 래필리 응회암, 데사이트질 유상 용암, 유문암질 층상 응회암, 유문암질 괴상 응회암, 데사이트질 괴상 용암, 유문암질 용결 응회암 순의 층서를 나타낸다. 안산암 용암을 덮고 있는 데사이트 조성의 화산암류는 화산활동의 특성으로 인해 본 역 북서부에만 분포한다. 화산암류의 전반적인 $SiO_2$함량은 51~74 wt%이며, $SiO_2$에 대한 각 산화물의 변화 경향을 보면, $SiO_2$가 증가함에 따라 $TiO_2$, $A1_2$$O_3$, MgO, FeOT MnO, CaO, $P_2$$O_{5}$ 는 감소하고, $K_2$O는 증가하며, $Na_2$O는 일정한 경향을 보이지 않고 분산된다. 이는 경상분지 남동부 유천 소분지에서 나타나는 변화 경향과 유사하다. 지구화학적 구분에 의하면 연구 지역의 화산암류는 고-K에서 중-K 칼크-알칼리 계열에 해당되며, 또한 지판의 섭입과 관련된 호상열도형 화산암의 특징을 보여준다. 주성분 원소, 미량 원소, 희토류 원소의 변화경향으로부터 살펴본 화산암류의 지구화학적 특징은 화산암류가 유사 기원 물질을 가지는 마그마들의 사장석 분별정출작용에 의한 마그마 분화과정에 의해 형성되었음을 나타낸다. 연구 지역 화산암류의 화산층서는 안산암에서 유문암, 그리고 데사이트에서 유문암으로 분화한 최소한 2개 이상의 마그마 펄스에 의한 화산활동과 마그마의 결정분화로 설명될 수 있다.달상태가 더 양호한 것으로 나타났다. 화강암의 "결"과 미세균열의 방향성을 측정하기 위하여 최대 균열 변형율과 최소 균열 변형율의 비($\varepsilon$max/$\varepsilon$min)를 계산하였다. 그 비는 2.42에서 3.43까지의 높은 값을 가지는데, 이는 연구지역의 조립질 화강암류 석재에 발달되어 있는 미세균열은 대부분이 일정한 방향성을 보이는 입자내 균열임을 시사한다.분이 일정한 방향성을 보이는 입자내 균열임을 시사한다. 화학(化學)간장은 양조(釀造)간장은 비(比)해 철분함량(鐵分含量)이 높았다. 7. 시판(市販)간장중(中)의 철분함량(鐵分含量)은 제조원(製造元)에 따라 다양하나 총질소(總窒素) 1.0으로 환산(換算)하여 평균(平均) 62.7ppm이었으며 재래식(在來式) 간장의 철분함량(鐵分含量)은 평균(平均) 37.68ppm이었다.보건관리 5.67 시간, 모자보건 및 가족계획 5.52 시간, 사업 운영관리 및 지도 4.10시간, 지역사회 조직 및 개발 3.05 시간, 보건정보체계 개발 및 수집 2.94 시간, 사업계획 수립 2.89시간의 순으로 나타났다. 5) 보건진료원의 업무영역별 수행 소요시간의 상판판계를 살펴보면 지역사펴 조직 및 개발을 위 해 소요한 시간은 사엽계획 수립 소요시간 및 보건정 보체계 관리 소요시간과 순상관관계를, 사업 계획 수립 소요시간은 지역사회 보건관리, 모자보건 및 가족계획 관리 소요시간 및 보건정보체제 관리 소요시간과 순상관관계를 나타냈다. 또한 통상질환관리 소요시간은 지역 사회 조직 및 개발, 사업계획 수립, 지역사회 보건관리와 모자보건 및 가족계획 관리, 사업운영 관리 및 지도, 보건정보체계 관리 소요시간과 역상관관계를 나타내었다. 6) 보건진료원의 총 업무수행 정도를 잘펴보면 업무수행 점수의 평균은

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산화물 박막 커패시터의 RTA 처리와 유전 특성에 관한 연구 (The Study on Dielectric and RTA Property of Oxide Thin-films)

  • 김인성;이동윤;조영란;송재성
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2001년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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    • pp.23-25
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    • 2001
  • In this work, the $Ta_2O_5$ thin films were deposited on Pt/n-Si substrate by reactive magnetron sputtering and the RTA treatment at temperatures range from 650 to $750^{\circ}C$ in $O_2$ and vacuum. X-ray diffraction analysis, FE SEM, dielectric properties and leakage current density have been used to study the structural and electrical properties of the $Ta_2O_5$ thin films. XRD result showed that as- deposited films were amorphous and the annealed films crystallized (<$700^{\circ}C$) into ${\beta}-Ta_2O_5$. The crystallinity increased with temperature in terms of an increase in the intensity of the diffracted peaks(${\beta}-Ta_2O_5$) and annealing in oxygen reduced defect dang1ing Ta-O bonds. As deposited $Ta_2O_5$ films show the leakage current density $10^{-7}$ to $10^{-8}$ (A/$cm^2)$ at low electric fields (<200 kV/cm) However, it was found leakage current density of $Ta_2O_5$ thin films decreased with $O_2$ ambient annealing. The dielectric constant of the as deposited $Ta_2O_5$ thin films was ${\varepsilon}_r$ $9{\sim}11$ but the dielectric constant was increased after RTA treatment in $O_2$ ambient more then in vacuum.

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