상압 환경에서 표면 및 계면 연구, 현재와 미래

참고문헌

1. H. Siegbahn, K. Siegbahn, Journal Elect. Spectosc. Relat. Pheom., 2, 31(1973).
2. J. Schnadt, J. Knudsen, N. Johansson, J. Phys Condens Matter 32, 41, 413003 (2020).
3. G. Kim, Y. Yu, H. Lim, B. Jeong, J. Lee, J. Baik, B. S. Mun, K. Kim, J. Synchrotron Rad. 27, 507 (2020). https://doi.org/10.1107/s160057751901676x
4. H. Lim, C. Song, M. Seo, D. Kim, M.. Jung, H. Kang, S. Kim, K. Lee, Y. Yu, G. Kim, K. Kim, B. S. Mun, J. Materials Chemistry C, 9, 13094 (2021). https://doi.org/10.1039/D1TC03436G
5. H. Choi, J. Lee, D. Kim, A. Kumar, B. Jeong, K. Kim, H. Lee, J. Y. Park, Catal. Sci. Technol., 11, 1698 (2021). https://doi.org/10.1039/D0CY02166K
6. R. Qiao, Q. Li, Z. Zhuo, S. Sallis, O. Fuchs, M. Blum, L. Weinhardt, C. Heske, J. Pepper, M. Jones, A. Brown, A. Spucces, K. Chow, B. Smith, P.-A. Glans, Y. Chen, S. Yan, F. Pan, L. F. J. Piper, J. Denlinger, J. Guo1, Z. Hussain, Y.-D. Chuang, W. Yang, Rev. Sci. Instru. 88, 033106 (2017). https://doi.org/10.1063/1.4977592
7. J. Wu, Y. Yang, W. Yang, Dalton Trans., 49, 13519 (2020). https://doi.org/10.1039/d0dt01782e
8. C. S. Fadley and S. Nemsak, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 195, 409-422 (2014). https://doi.org/10.1016/j.elspec.2014.06.004