참고문헌
- T. Uchida, K. Iijima, T. Yamazaki, S. Tomaru and F. Maruyama, Japan, JP 7005177 (2006).
- J. H. Bae, H. S. Lee, J. H. Park, H. Nishizawa, M. Kinoshita and H. D. Jeong: J. Kor. Inst. Electr. Electron. Mater. Eng., 23 (2010) 358. https://doi.org/10.4313/JKEM.2010.23.5.358
- J. W. Kim and K. H. Park, Korea, KR 0049709 (2016).
- B. K. Choi and H. T. Jeon: Korean J. Met. Mater., 8 (1998) 837.
- S. W. Lee and C. M. Lee: Appl. Sci. Converg. Technol., 10 (2001) 267.
- J. M. Lee and S. H. Cho: KSLP, 4 (2001) 22.
- T. Hattori: Ultraclean surface processing of silicon wafers: secrets of VLSI manufacturing, T. Hattori (Ed.), Springer Science & Business Media, Berlin (2013) 61.
- S. R. Noh and S. S. You: KSDET., 16 (2017) 41.
- T. M. Pan, T. F. Lei, T. S. Chao, M. C. Liaw, F. H. Ko and C. P. Lu: J. Electrochem. Soc., 148 (2001) 315.
- A. Abbadie, J. M. Hartmann, P. Besson, D. Rouchon, E. Martinez, P. Holliger, C. D. Nardo, Y. Campidelli and T. Billon: Appl. Surf. Sci., 254 (2008) 6793. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2008.04.107
- W. Kern: J. Electrochem. Soc., 137 (1990) 1887. https://doi.org/10.1149/1.2086825
- J. Ryuta, E. Morita, T. Tanaka and Y. Shimanuki: Jpn. J. Appl. Phys., 29 (1990) 1947.
- H. Kobayashi, J. Ryuta, T. Shingyouji and Y. Shimanuki: Jpn. J. Appl. Phys., 32 (1993) 45.
- C. R. Inomata, H. Ogawa, K. Ishikawa and S. Fujimura: J. Electrochem. Soc., 143 (1996) 2995. https://doi.org/10.1149/1.1837138
- G. H. Lee and S. I. Bae: Korean Chem. Eng. Res., 2 (2007) 203.
- G. W. Gale, D. L. Rath, E. I. Cooper, S. Estes, H. F. Okorn, J. Brigante, R. Jagannathan, G. Settembre and E. Adams: J. Electrochem. Soc., 148 (2001) 513.
- Y. S. Mok, J. O. Jo, S. T. Kim, W. T. Jeong, D. W. Kang, B. H. Rhee and J. K. Kim: KSEE, 29 (2007) 68.
- N. Kitajima, S. Funkuzumi and Y. Ono: J. Phys. Chem., 82 (1978) 1505. https://doi.org/10.1021/j100502a009
- J. H. Kim, S. H. Kong, G. I. Son and Y. S. Kim: EER., 22 (2001) 73.
- Y. Mori, K. Uemura, K. Shimanoe and T. Sakon: J. Electrochem. Soc., 142 (1995) 3104. https://doi.org/10.1149/1.2048696
- D. Liu, Z. Li, Z. X. Li and R. Kumar: Carbohydr. Polym., 111 (2014) 469. https://doi.org/10.1016/j.carbpol.2014.04.018
- P. Ciesla, A. Karocki and Z. Stasicka: J. Photochem. Photobiol. A Chem., 162 (2004) 537. https://doi.org/10.1016/S1010-6030(03)00418-0
- D. B. Kent, J. A. Davis, L. C. Anderson, B. A. Rea and J. A. Coston: Geochim. Cosmochim. Acta., 66 (2002) 3017. https://doi.org/10.1016/S0016-7037(02)00908-0
- Y. G. Park and Y. S. Yang: Clean Technol., 20 (2014) 367. https://doi.org/10.7464/ksct.2014.20.4.367
- G. V. Korshin, H. S. Chang, A. I. Frenkel and J. F. Ferguson: Environ. Sci. Technol., 41 (2007) 2560. https://doi.org/10.1021/es062554t