References
- J. M. Wu, H. C. Shih, W. T. Wu, Y. K. Tseng and I. C. Chen: J. Cryst. Growth, 281 (2005) 384. https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2005.04.018
- H. W. Peng and J. B. Li: J. Phys. Chem. C, 112 (2008) 20142.
- B. D. Yao, Y. F. Chan, X. Y. Zhang, W. F. Zhang, Z. Y. Yang and N. Wang: Appl. Phys. Lett., 82 (2003) 281. https://doi.org/10.1063/1.1537518
- A. Hu, C. Cheng, X. Li, J. Jiang, R. Ding, J. Zhu, F. Wu, J. Liu and X. Huang: Nanoscale Res. Lett., 6 (2011) 2.
- Y. Lei, L. D. Zhang, G. W. Meng, G. H. Li, X. Y. Zhang, C. H. Liang, W. Chen and S. X. Wang: Appl. Phys. Lett., 78 (2001) 1125. https://doi.org/10.1063/1.1350959
- S. K. Pradhan, P. J. Peucroft, F. Yang and A. Dozier: J. Cryst. Growth, 256 (2003) 83. https://doi.org/10.1016/S0022-0248(03)01339-3
- P. Hu, G. Du, W. Zhou, J. Cui, J. Lin, H. Liu, D. Liu, J. Wang and S. Chen: Appl. Mater. Interfac., 2 (2010) 3263. https://doi.org/10.1021/am100707h
- C. S. Rout, G. U. Kulkarni and C. N. R. Rao: J. Phys. D.: Appl. Phys., 40 (2007) 2777. https://doi.org/10.1088/0022-3727/40/9/016
- W. Biao, Z. Y. Dong, H. L. Ming, C. J. Sheng, G. F. Li, L. Yun and W. L. Jun: Chinese Sci. Bull., 55 (2010) 228.
- O. Landau, A. Rothschild and E. Zussman: Chem. Mater., 21 (2009) 9. https://doi.org/10.1021/cm802498c
- L. Francioso, A. M. Taurino, A. Forleo and P. Siciliano: Sensor Actuat. B-Chem., 130 (2008) 70.
- M. M. Arafat, A. S. M. A. Haseeb and S. A. Akbar: Ceram. Int., 41 (2015) 4401. https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2014.11.130
- B. Liu and E. S. Aydil: J. Am. Chem. Soc., 131 (2009) 3985.
- H. Wang, Y. Bai, Q. Wu, W. Zhou, H. Zhang, J. Li and L. Guo: Phys. Chem. Chem. Phys., 13 (2011) 7008.
- Q. Jiang, X. Sheng, Y. Li, X. Feng and T. Xu: Chem. Commun., 50 (2014) 14720. https://doi.org/10.1039/C4CC07367C
- Z. Li, H. Zhang, W. Zheng, W. Wang, H. Huang, C. Wang, A. G. MacDiarmid and Y. Wei: J. Am. CHem. Soc., 130 (2008) 5036. https://doi.org/10.1021/ja800176s
- S. Yurdakal, G. Palmisano, V. Loddo, V. Augugliaro and L. Palmisano: J. Am. Chem. Soc., 130 (2008) 1568. https://doi.org/10.1021/ja709989e
- J. M. Wu, H. C. Shih and W. T. Wu: Nanotechnology, 17 (2006) 105. https://doi.org/10.1088/0957-4484/17/1/017
- J. S. Chen and X. W. Lou: J. Power Sources, 195 (2010) 2905. https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2009.11.040
- Y. Q. Wang, L. Gu, Y. G. Guo, H. Li, X. Q. He, S. Tsukimoto, Y. Ikuhara and L. J. Wan: J. Am. Chem. Soc., 134 (2012) 7874.
- H. Lee, S. Dregia, S. Akbar and M. Alhoshan: J. Nanomater., 2010 (2010) 7.
- B. J. Hansen, G. Lu and J. Chen: J. Nanomater., 2008 (2008) 7.
- R. Mema, L. Yuan, Q. Du, Y. Wang and G. Zhou: Chem. Phys. Lett., 512 (2011) 87. https://doi.org/10.1016/j.cplett.2011.07.012
- A. Kumar, A. K. Srivastava, P. Tiwari and R. V. Nandedkar: J. Phys.: Condens. Mat. 16 (2004) 8531. https://doi.org/10.1088/0953-8984/16/47/007
- M. M. Arafat, A. S. M. A. Haseeb, B. Dinan and S. A. Akbar: Ceram. Int., 39 (2013) 6517.