References
- W. Helfrich and W. G. Scheider, Phys. Rev. Lett., 14, 229 (1965). [DOI: http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevLett.14.229]
- C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett., 51, 913 (1987). [DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.98799]
- S. R. Forrest, Org. Electron., 4, 45 (2003). [DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.orgel.2003.08.014]
- G. Gu, D. Z. Garbuzov, P. E. Burrows, S. Venkatesh, and S. R. Forrest, Opt. Lett., 22, 396 (1997). [DOI: http://dx.doi.org/10.1364/OL.22.000396]
- L. Lin, T. K. Shia, and C. J. Chiu, J. Micromech. Microeng., 10, 395 (2000). [DOI: http://dx.doi.org/10.1088/0960-1317/10/3/314]
- S. Möller and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett., 91, 3324 (2002).
- H. S. Kim, D. H. Hwang, J. W. Hong, M. J. Song, W. K. Han, and T. W. Kim, J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng., 27, 307 (2014).
- M. K. Wei, J. H. Lee, H. Y. Lin, Y. H. Ho, K. Y. Chen, C. C. Lin, C. F. Wu, H. Y. Lin, J. H. Tsai, and T. C. Wu, Pure Appl. Opt., 10, 1 (2008).
- S. Chen and H. S. Kwok, Opt. Express 18, 37 (2010). [DOI: http://dx.doi.org/10.1364/OE.18.000037]
- T. Bocksroker, J. Hoffmann, C. Eschenbaum, A. Pargner, J. Preinfalk, F. M. Flaig, and U. Lemmer, Opt. Electron., 14, 396 (2013).