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Development of 80 kW RF Thermal Plasma Torch System for Mass Production and Research of Si Nano-Powder Manufacturing Process

양산용 80 kW급 RF Plasma Torch System 개발 및 Si 나노분말 제조 공정 연구

  • 송석균 ((재)철원플라즈마산업기술연구원) ;
  • 손병구 ((재)철원플라즈마산업기술연구원) ;
  • 김병훈 ((재)철원플라즈마산업기술연구원) ;
  • 이문원 ((재)철원플라즈마산업기술연구원) ;
  • 신명선 ((재)철원플라즈마산업기술연구원) ;
  • 최선용 ((재)철원플라즈마산업기술연구원) ;
  • 이규항 ((재)철원플라즈마산업기술연구원) ;
  • 김성인 ((재)철원플라즈마산업기술연구원)
  • Received : 2013.01.10
  • Accepted : 2013.03.21
  • Published : 2013.03.30

Abstract

In order to develop of 80 kW RF plasma torch system, we achieved three-dimensional simulations for the extraction of more information as temperature in torch and fluid behavior analysis, etc. The position of powder injection tube, the plasma discharge characteristics with various input current and various length of ceramic tube, and the plasma temperature characteristics with process gas flow rate such those was simulated. RF thermal plasma torch designed by simulation was manufactured that was measured to the maximum of 89.3 kW power. The mass production using developed 80 kW RF thermal plasma torch system were investigated by characteristics manufactured of Si nano powder. The mass-production level of Si nano-powder was average of 539 g/hr and high yield rate of 71.6%, respectively. The particle size distribution $D_{99}/D_{50}$ of manufacturing nano-powder was investigated to 1.98 as a good uniform.

80 kW RF 플라즈마 토치 시스템을 개발하기 위하여, 토치 시스템에 대한 온도, 유체 거동 분석 등의 보다 많은 정보의 추출을 위하여 3차원 시뮬레이션을 진행했다. 파우더 주입관 위치, 입력 전류 변화에 따른 플라즈마 생성 특성, 세라믹 원통관 길이에 따른 플라즈마 방전 특성, 및 공정가스 유량에 따른 플라즈마 온도특성 등을 시뮬레이션 했다. 시뮬레이션을 통해 설계 제작된 RF 열 플라즈마 토치의 경우, 최대 89.3 kW까지 파워 인가가 측정되었다. 개발된 80 kW급 RF 열 플라즈마 토치 시스템의 양산성 평가로 Si 나노분말을 제조하고 특성을 고찰하였다. Si 나노분말의 생산량이 평균 539 g/hr의 양산 수준과 71.6%의 높은 수율을 달성했으며, 제조된 나노 분말은 $D_{99}/D_{50}$가 1.98의 좋은 입경 균일 분포도를 나타내었다.

Keywords

References

  1. S. V. Joshi, Q. Liang, J. Y. Park, and J. A. Batdorf, Plasma Chemistry and Plasma Processing V10 N2, 339 (1990). https://doi.org/10.1007/BF01447135
  2. 한국에너지기술연구원, "ICP를 이용한 실리콘 나노입자 제조 장치" 특허 10-2010-0091554, 대한민국 (2009).
  3. C. T. Crowe, M. P. Sharma, and D. E. Stock, Journal of Fluids Engineering 99, 325 (1977). https://doi.org/10.1115/1.3448756
  4. A. Chentouf, J. Fouladgar, and G. Develey, IEEE Trans. Mag. 31, 2100 (1995). https://doi.org/10.1109/20.376459
  5. J. Kim, J. Mostaghimi, and R. Iravani, IEEE Trans. Plasma Sci. 25, 1023 (1997). https://doi.org/10.1109/27.649621
  6. J. Meyer, IEEE Trans. Mag. 23, 1806 (1987). https://doi.org/10.1109/TMAG.1987.1064964
  7. J. W. Mckelliget and N. E. Kaddah, J. of Appl. Phy, 64, 2948 (1988). https://doi.org/10.1063/1.341555
  8. J. Mostaghimi and M. I. Boulos, Plasma Chem. Plasma Process. 9, 25 (1989). https://doi.org/10.1007/BF01015825
  9. K. Suganuma, CMC Publications (1985).
  10. Van der Waals Potential Energy, http://web.njit.edu/all_topics/Prog_Lang_Docs/html/autodock/AD3.a.0UserGuide.html.
  11. University of Leicester, UK, Water keeps nanoparticle size under 3 nm diameter, http://nanotechweb.org/cws/article/lab/46769 (2011).
  12. 정효수, 손병구, 신명선, 최선용, 김병훈, 이규항, 이문원, 이성만, 김완준, 김재연, 고명한, 안병훈, 최관호, 열 플라즈마 토치 시스템(80kW RF type)을 이용한 Ni 및 Si계 복합 나노분말 소재 제조기술 개발 (지역산업기술개발사업 최종보고서, 지식경제부, 2011), pp. 42-44.