과제정보
연구 과제 주관 기관 : 한국연구재단
참고문헌
- W. S. Han, Y. Y. Kim, B. H. Kong, H. K. Cho, J. Y. Moon, and H. S. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 48, 08HK03 (2009). https://doi.org/10.1143/JJAP.48.08HK03
- M. Willander, O. Nur, Q. X. Zhao, L. L. Yang, M. Lorenz, B. Q. Cao, J. Zuniga Perez. C. Czekalla, G. Zimmermann, M. Grundmann, A. Bakin, A. Behrends, M. Al-Suleiman, A. El-Shaer, A. Che Mofor, B. Postels, A. Waag, N. Boukos, A. Travlos, H. S. Kwack, J. Guinard, and D. Le Si Dang, Nanotechnology 20, 332001 (2009). https://doi.org/10.1088/0957-4484/20/33/332001
- C. H. Ahn, Y. Y. Kim, S. W. Kang, B. H. Kong, S. K. Mohanta, H. K. Cho, J. H. Kim, and H. S. Lee, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 19, 744 (2008). https://doi.org/10.1007/s10854-007-9401-7
- M. Kim, Y. J. Hong, J. Yoo, G. -C. Yi, G. -S. Park, K. -J. Kong, and H. Chang, Phys. Stat. Sol. (RRL) 2, 197 (2008). https://doi.org/10.1002/pssr.200802084
- J. X. Wang, X. W. Sun, A. Wei, Y. Lei, X. P. Cai, C. M. Li, and Z. L. Dong, Appl. Phys. Lett. 88, 233106 (2006). https://doi.org/10.1063/1.2210078
- L. W. Ji, S. M. Peng, Y. K. Su. S. J. Young, C. Z. Wu, and W. B. Cheng, Appl. Phys. Lett. 94, 203106 (2009). https://doi.org/10.1063/1.3141447
- X. -M. Zhang, M. -Y. Lu, Y. Zhang, L. Chen, and Z. L. Wang, Adv. Mater. 21, 1 (2009)
- N. O. V. Plank, H. J. Snaith, C. Ducati, J. S. Bendall, L. Schmidt-Mende, and M. E. Welland, Nanotechnology 19, 465603 (2008). https://doi.org/10.1088/0957-4484/19/46/465603
- S. Chu, M. Olmedo, Z. Yang, J. Kong, and J. Liu, Appl. Phys. Lett. 93, 181106 (2008). https://doi.org/10.1063/1.3012579
- J. B. You, X. W. Zhang, S. G. Zhang, J. X. Wang, Z. G. Yin, H. R. Tan, W. J. Zhang, P. K. Chu, B. Cui, A. M. Wowchak, A. M. Dabiran, and P. P. Chow, Appl. Phys. Lett. 96, 201102 (2010). https://doi.org/10.1063/1.3430039
- L. Wang, G. Liu, L. Zou, and D. Xue, J. Alloys Compd. 493, 471 (2010). https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.12.129
- J. Y. Moon, J. H. Kim, H. Kim, H. S. Lee, Y. Y. Kim, H. K. Cho, and H. S. Kim, Thin Solid Films 517, 3931 (2009). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2009.01.103
- J. Y. Moon, H. S. Lee, Y. Y. Kim, H. K. Cho, and H. S. Kim, Thin Solid Films 518, 1230 (2009). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2009.06.058
- G. Zhang, A. Nakamura, T. Aoki, J. Temmyo, and Y. Matsui, Appl. Phys. Lett. 89, 113112 (2006). https://doi.org/10.1063/1.2207832
- S. K. Mohanta, D. C. Kim, H. K. Cho, C. B. Soh, S. J. Chua, and S. Tripathy, Electrochem. Solid-State Lett. 11, H143 (2008). https://doi.org/10.1149/1.2898500
- I. Levin, A. Davydov, B. Nikoobakht, N. Sanford, and P. Mogilevsky, Appl. Phys. Lett. 87, 103110 (2005). https://doi.org/10.1063/1.2041832
- Y. Lee, Y. Zhang, S. L. G. Ng, F. C. Kartawidjaja, and J. Wang, J. Am. Ceram. Soc. 92, 1940 (2009). https://doi.org/10.1111/j.1551-2916.2009.03148.x
- F. Xu, Y. Lu, Y. Xie, and Y. Liu, Mater. Design 30, 1704 (2009). https://doi.org/10.1016/j.matdes.2008.07.024
- T. Pauporte, D. Lincot, B. Viana, and F. Pelle, Appl. Phys. Lett. 89, 233112 (2006). https://doi.org/10.1063/1.2402223
- G. W. She, X. H. Zhang, W. S. Shi, X. Fan, J. C. Chang, C. S. Lee, S. T. Lee, and C. H. Liu, Appl. Phys. Lett. 92, 053111 (2008). https://doi.org/10.1063/1.2842386
- H. Kim, J. Y. Moon, and H. S. Lee, Electron. Mater. Lett. 5, 135 (2009).
- J. D. Lee, C. Y. Park, H. S. Kim, J. J. Lee, and Y. -G. Choo, J. Phys. D: Appl. Phys. 43, 365403 (2010).
- B. Cao, X. Teng, S. H. Heo, Y. Li, S. O. Cho, G. Li, and W. Cai, J. Phys. Chem. C 111, 2470 (2007). https://doi.org/10.1021/jp066661l