산화물 TFT 기술 및 AMOLED 응용

  • 정재경 (인하대학교 신소재공학과, 화합물반도체 소자연구실)
  • Published : 2009.08.31

Abstract

Keywords

References

  1. M. W. J. Prins, K. O. Grosse-Holz, G. Muller, J. F. M. Cillessen, J. B. Giesbers, R. P. Weening, and R. M. Wolf, Appl. Phys. Lett. 68, 3650 (1996) https://doi.org/10.1063/1.115759
  2. R. L. Hoffman, B. J. Norris, and J. F. Wager, Appl. Phys. Lett. 82, 733 (2003) https://doi.org/10.1063/1.1542677
  3. K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Science 300, 1269 (2003) https://doi.org/10.1126/science.1083212
  4. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Nature 432, 488 (2004) https://doi.org/10.1038/nature03090
  5. E. M. C. Fortunato, P. M. C. Barquinha, A. C. M. B. G. Pimentel, A. M. F. Goncalves, A. J. S. Marques, R. F. P. Martins, and L. M. N. Pereira, Appl. Phys. Letts. 85, 2541 (2004) https://doi.org/10.1063/1.1790587
  6. H. Hosono, J. Non-Cryst. Solids, 352, 851 (2006) https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.01.073
  7. H. Yabuta, M. Sano, K. Abe, T. Aiba, K. Nomura, T. Kamiya, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 89, 112123 (2006) https://doi.org/10.1063/1.2353811
  8. M. Kim, J. H. Jeong, H. J. Lee, T. K. Ahn, H. S. Shin, J.-S. Park, J. K. Jeong, Y.-G. Mo, and H. D. Kim, Appl. Phys. Lett. 90, 212114 (2007) https://doi.org/10.1063/1.2742790
  9. J. K. Jeong, J. H. Jeong, H. W. Yang, J.-S. Park, Y.-G. Mo, and H. D. Kim, Appl. Phys. Lett. 91, 113505 (2007) https://doi.org/10.1063/1.2783961
  10. E. M. C. Fortunato, L. M. N. Pereira, P. M. C. Barquinha, A. M. B. Rego, G. Goncalves, A. Vila, J. R. Morante, and R. F. P. Martins, Appl. Phys. Lett. 92, 222103 (2008) https://doi.org/10.1063/1.2937473
  11. A. Chipman, Nature (London), 449, 131 (2007) https://doi.org/10.1038/449131a
  12. W. B. Jackson, R. L. Hoffman, and G. S. Herman, Appl. Phys. Lett. 87, 193503 (2005) https://doi.org/10.1063/1.2120895
  13. H. Q. Chiang, J. F. Wager, and R. L. Hoffman, Appl. Phys. Lett. 86, 013503 (2005) https://doi.org/10.1063/1.1843286
  14. J. S. Park. J. K. Jeong, Y.-G. Mo, H. D. Kim, and S.-I. Kim, Appl. Phys. Lett, 90, 262106 (2007) https://doi.org/10.1063/1.2753107
  15. B. D. Ahn, H. S. Shin, H. J. Kim, J.-S. Park, and J. K. Jeong, Appl. Phys. Lett, 93, 203506 (2008) https://doi.org/10.1063/1.3028340
  16. A. Sato, K. Abe, R. Hayashi, H. Kumomi, K. Namura, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 94, 133502 (2009) https://doi.org/10.1063/1.3112566
  17. S. H. Park, C. S. Hwang, H. Y. Jeong, H. Y. Chu, and K. I. Cho, Electrochem. Solid-State Lett. 11, H10 (2008) https://doi.org/10.1149/1.2801017
  18. D. H. Levy, D. Freeman, S. F. Nelson, P. J. Cowdery- Corvan, and L. M. Irving, Appl. Phys. Lett. 92, 192101 (2008) https://doi.org/10.1063/1.2924768
  19. K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Science 300, 1269 (2003) https://doi.org/10.1126/science.1083212
  20. I. D. Kim, M. H. Lim, K. T. Kang, H. G. Kim, and S. Y. Choi, Appl. Phys. Lett. 89, 022905 (2006) https://doi.org/10.1063/1.2220485
  21. J.-S. Park, J. K. Jeong, Y.-G. Mo, and S. Kim, Appl. Phys. Lett. 94, 042105 (2009) https://doi.org/10.1063/1.3075612
  22. T. Hirao, M. Furuta, H. Furuta, T. Matsuda, T. Hiramatsu, H. Hokari, M. Yoshida, H. Ishii, and M. Kakegawa, J. Soc. Inf. Display 15, 17 (2007) https://doi.org/10.1889/1.2451545
  23. H.-N. Lee, J. Kyung, M.-C. Sung, D. Y. Kim, S. K. Kang, S.-J. Kim, C. N. Kim, H.-G. Kim, and S.-T. Kim, J. Soc. Inf. Display 16, 265 (2008) https://doi.org/10.1889/1.2841860
  24. S.-H. K. Park, C.-S. Hwang, M. Ryu, S. Yang, C. Byun, J. Shin, J.-I. Lee, K. Lee, M. S. Oh, and S. Im, Adv. Mater. 21, 678 (2009) https://doi.org/10.1002/adma.200801470
  25. J. K. Jeong, J. H. Jeong, H. W. Yang, T. K. Ahn, M. Kim, K. S. Kim, B. S. Gu, H.-J. Chung, J.-S. Park, Y.-G. Mo, H. D. Kim, and H. K. Chung, J. Soc. Inf. Display 17, 95 (2009) https://doi.org/10.1889/JSID17.2.95
  26. R. B. M. Cross and M. M. De. Souza, Appl. Phys. Lett. 89, 263513 (2006) https://doi.org/10.1063/1.2425020
  27. P. Gorrn, P. Holzer, T. Riedl, W. Kowalsky, J. Wang, T. Weimann, P. Hinze, and S. Kipp, Appl. Phys. Lett. 90, 063502 (2007) https://doi.org/10.1063/1.2458457
  28. Y. Vygranenko, K. Wang, and A. Nathan, Appl. Phys. Lett. 91, 263508 (2007) https://doi.org/10.1063/1.2825422
  29. A. Suresh and J. F. Muth, Appl. Phys. Lett. 92, 033502 (2008) https://doi.org/10.1063/1.2824758
  30. J. K. Jeong, H. W. Yang, J. H. Jeong, Y.-G. Mo, and H. D. Kim, Appl. Phys. Lett. 93, 123508 (2008) https://doi.org/10.1063/1.2990657