초록
시멘트/슬래그/Fe(II) 시스템에서 TCE 농도에 따른 분해 특성과 매질량(시멘트/슬래그)이 TCE 분해에 미치는 영향 등을 고찰하였다. TCE 농도의 경우 TCE의 용해도 8.4 mM을 기준으로 포화농도 절반인 4.2 mM, NAPL 상태의 11.7 mM, 포화 상태의 16.8 mM로 각각 실험 하였다. 그 결과, 8.4 mM과 4.2 mM의 경우 실험 진행 18일 안에 88%의 TCE가 분해 되었고 NAPL 상태인 11.7 mM은 실험 진행 50일 후 84%, 16.8 mM의 경우 60일 후에 60%정도 분해 되는 알 수 있었다. TCE의 농도나 상태에 관계없이 pseudo-first-order의 분해속도를 보이며 NAPL 상태의 TCE가 NAPL 상태 자체로 분해되는 것이 아니라 수용액에 용해가 된 후 분해 되는 것을 알 수 있었다. 매질량의 경우 매질의 S/L비가 0.1, 0.2, 0.3으로 늘어날 수록 반응속도 상수 k($day^{-1}$) 값은 $0.12day^{-1}$, $0.24day^{-1}$, $0.31day^{-1}$ 로 증가하는 것을 관찰할 수 있었다. 본 시스템에서 TCE를 제거하는 반응속도는 시멘트 및 슬래그의 반응 표면적에 의해 영향을 받는다고 할 수 있다. 실험변수로 NAPL TCE 분해시 계면활성제인 HDTMA를 주입한 결과 고농도의 NAPL 상태의 TCE임에도 불구하고 빠르게 분해되는 것을 볼 수 있었다. 또한 모델식을 이용하여 시멘트/슬래그/Fe(II) 시스템의 최적 설계인자를 도출 해보고자 하였다.
The decompostion characteristics of NAPL TCE in cement/slag/Fe(II) system were studied with various TCE concentration and amounts of binders (cement/slag) For analyses of the TCE degradation by cement/slag/Fe(II), TCE solution injected using gas-tight syringe after TCE solution dissolved a methanol. Initial concentrations of TCE are 0.42 mM, NAPL condition 11.7 mM and saturated condition 16.8 mM respectively. The result showed that the cases of 8.4 mM and 4.2 mM are decreased 88% of total TCE concentration within 18 days. NAPL condition 11.7 mM was decreased 84% within 50 days and saturated condition 16.8 mM was decreased 60% of total TCE concentration within 60 days respectively. This showed that degradations of TCE in various concentrations were in one kind reaction as pseudo-first-order. TCE was dissolved as aqueous solution before degraded. The reaction rate was increased $0.12day^{-1}$, $0.24day^{-1}$, $0.31day^{-1}$ when the mass of media 0.1, 0.2, 0.3 S/L rate was increased. TCE reaction speed is affected by cement/slag surface ares in this system. When HDTMA, experimental facter, was added, TCE decomposition rate was high despite the high concentration of NAPL. and The decompostion characteristics of NAPL TCE in cement/slag/Fe(II) system were studied by using modeling.