참고문헌
- M. Wittmer, Appl. Phys. Lett., 35 (1980) 456
- S. Ikeda, J. Palleau, J. Torres, B. Chenevier, N. Bourhila, R. Madar, J. Appl. Phys., 86 (1999) 2300 https://doi.org/10.1063/1.371045
- J. E. Sundgren, Thin Solid Films, 128 (1985) 21 https://doi.org/10.1016/0040-6090(85)90333-5
- H. K. Chiu, T. L. Lin, Y. Hu, K. C. Leou, H. C. Lin, M. S. Tasi, T. Y. Huang, J. Vac. Sci. Technol, A, 19(2) (2001) 445
- K. E. Elers, V. Saanila, P. J. Soininen, W. M. Li, J. T. Kostamo, S. Haukka, J. Juhannoja, W. F. A. Besling, Chem. Vap. Deposition, 8(4) (2002) 149 https://doi.org/10.1002/1521-3862(20020704)8:4<149::AID-CVDE149>3.0.CO;2-F
- J. Tonotani, T. Iwamoto, F. Sato, K. Hattori, S. Ohmi, H. Iwai, J. Vac. Sci. Technol. B, 21(5) (2003) 2163 https://doi.org/10.1116/1.1612517
- S. K. Rha, W. J. Lee, S. Y. Lee, Y. S. Hwang, Y. J. Lee, D. I. Kim, D. W. Kim, S. S. Chun, C. O. Park, Thin Solid Films, 320 (1998) 134 https://doi.org/10.1016/S0040-6090(97)01077-8
- H. Kim, C. Cabral, Jr., C. Lavoie, S. M. Rossnagel, J. Vac. Sci. Technol. B, 20(4) (2002) 1321 https://doi.org/10.1116/1.1486233
- K. Nakamura, T. Kitagawa, K. Osari, K. Takahashi, K. Ono, Vacuum, 80 (2006) 761 https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2005.11.017
- J. W. Coburn, H. F. Winters, J. Vac. Sci. Technol., 16(2) (1979) 391 https://doi.org/10.1116/1.569958
- W. S. Hwang, J. Chen, W. J. Yoo, V. Bliznetsov, J. Vac. Sci. Technol. A, 23(4) (2005) 964 https://doi.org/10.1116/1.1927536
- N. K. Min, M. Kim, K. H. Kwon, A. Efremov, H. W. Lee, S. Kim, J. Korean Phys. Soc., 51(5) (2007) 1686 https://doi.org/10.3938/jkps.51.1686
- M. H. Shin, S. W. Na, N. E. Lee, J. H. Ahn, Thin Solid Films, 506-507 (2006) 230 https://doi.org/10.1016/j.tsf.2005.08.019
- A. L. Gouil, O. Joubert, G. Cunge, T. Chevolleau, L. Vallier, B. Chenevier, I. Matko, J. Vac. Sci. Technol. B, 25(3) (2007) 767 https://doi.org/10.1116/1.2732736